CN218101193U - 超音波低温水域下蜡装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开超音波低温水域下蜡装置，属于晶片处理设备技术领域，包括底座、承载槽、加热元件、晃动机构、承载盘和超音波换能器；承载槽用于盛装去离子水，位于所述底座的顶部，所述承载槽的底壁设置有限位通孔，所述承载槽内设置有温度传感器；晃动机构包括晃动主体和动力机构，其中晃动主体位于承载槽内，动力机构以能够穿过限位通孔驱动晃动主体晃动的方式设置在底座内；承载盘浸没在去离子水中，并设置在晃动主体的顶部，通过柔性密封套连接承载槽的底壁；超音波换能器具有多个，均匀嵌设在底座的顶部，并正对所述承载槽。该低温水域下蜡装置能够避免高温对人员造成的潜在危险，减少slurry的黏附量，方便后续清洗工艺的进行。

Description

超音波低温水域下蜡装置

技术领域

本实用新型涉及晶片处理设备技术领域，尤其涉及超音波低温水域下蜡装置。

背景技术

现有的晶片下蜡方式一般是通过烤盘烘烤晶片至120℃，在持温一段时间等蜡融化后再取片，其中在取片过程中需要佩戴高温手套，以免被烫伤；另外，因为是在工艺完成后直接进行烘烤，所以工艺过程中残留的slurry会黏附在陶瓷盘、还有晶片上，造成后续清洗工艺难度的增加。

实用新型内容

本实用新型的一个优势在于提供一种超音波低温水域下蜡装置，其中将工艺完成后的承载盘放入到承载槽的去离子水中，在低温的水域环境下，利用超音波换能器转化的能量加速蜡的分解和融化，使得在不需要较高温度的情况下也能实现下蜡的功能，能够避免高温对人员造成的潜在危险；同时，晃动主体带动承载盘晃动，能够将清洗下来的slurry、蜡液从晶片和承载盘上的陶瓷盘上带入到去离子水中，减少slurry的黏附量，方便后续清洗工艺的进行。

本实用新型的一个优势在于提供一种超音波低温水域下蜡装置，其中在承载槽内的圆形凹陷部和限位套均能够对晃动主体的晃动起到良好的限位效果，使该下蜡装置的运转更加稳定，确保下蜡清洗效果。

本实用新型的一个优势在于提供一种超音波低温水域下蜡装置，其中旋转电机的转动通过L型连接杆、滑动套筒和转接杆的配合转化为晃动主体的晃动，包括在水平方向的定向晃动以及竖直方向的轻微晃动，控制更加简单，操作方便，易于维护。

为达到本实用新型以上至少一个优势，本实用新型提供一种超音波低温水域下蜡装置，包括：

底座；

承载槽，用于盛装去离子水，其中所述承载槽位于所述底座的顶部，所述承载槽的底壁于靠近中间的位置设置有贯穿的限位通孔，且所述承载槽内设置有温度传感器，用于感应所述水离子水的温度；

加热元件，位于所述承载槽内，或者设置在所述承载槽的侧壁内，用于加热所述去离子水；

晃动机构，包括晃动主体和动力机构，其中所述晃动主体位于所述承载槽内所述限位通孔的上方，所述动力机构以能够穿过所述限位通孔驱动所述晃动主体晃动的方式设置在所述底座内；

承载盘，浸没在所述去离子水中，并设置在所述晃动主体的顶部，通过柔性密封套连接所述承载槽的底壁，其中所述柔性密封套套设在所述晃动主体的外围；以及

超音波换能器，具有多个，均匀嵌设在所述底座的顶部，并正对所述承载槽。

根据本实用新型一实施例，所述加热元件位于所述承载槽内，并靠近所述承载槽的侧壁，所述加热元件被实施为电加热丝或加热棒。

根据本实用新型一实施例，所述晃动主体被实施为碟簧，所述碟簧的表面包覆有柔性套。

根据本实用新型一实施例，所述承载槽的底壁于靠近所述限位通孔处设置有圆形凹陷部，所述圆形凹陷部与所述限位通孔同心，并被配置为适于容纳所述晃动主体。

根据本实用新型一实施例，所述晃动主体的外围套设有限位套，所述限位套位于所述承载盘的下方，并与所述晃动主体保持有预定的间隙。

根据本实用新型一实施例，所述动力机构包括支撑件、旋转电机、L型连接杆、滑动套筒和转接杆，其中所述旋转电机通过所述支撑件于所述超音波换能器的下方悬空设置在所述底座内，并通过旋转轴固定连接所述L型连接杆，所述滑动套筒设置在所述L型连接杆的另一端，并以可相对滑动的方式套设在所述转接杆上，所述转接杆的顶端穿过所述限位通孔连接所述晃动主体。

根据本实用新型一实施例，所述支撑件被实施为支撑架或支撑座。

根据本实用新型一实施例，所述转接杆的底端设置有限位凸起，所述限位凸起在水平方向凸出所述滑动套筒。

本实用新型的这些和其它目的、特点和优势，通过下述的详细说明，得以充分体现。

附图说明

图1示出了本申请超音波底纹水域下蜡装置的主视结构示意图。

图2示出了本申请中旋转电机和L型连接杆连接的结构示意图。

附图标记：10-底座，20-承载槽，21-圆形凹陷部，201-限位通孔，30-加热元件，41-晃动主体，411-限位套，42-动力机构，421-支撑件，422-旋转电机，423-L型连接杆，424-滑动套筒，425-转接杆，4251-限位凸起，50-承载盘，51-柔性密封套，60-超音波换能器。

具体实施方式

以下描述用于揭露本实用新型以使本领域技术人员能够实现本实用新型。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本实用新型的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本实用新型的精神和范围的其他技术方案。

本领域技术人员应理解的是，在说明书的揭露中，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此，上述术语不能理解为对本实用新型的限制。

可以理解的是，术语“一”应理解为“至少一”或“一个或多个”，即在一个实施例中，一个元件的数量可以为一个，而在另外的实施例中，该元件的数量可以为多个，术语“一”不能理解为对数量的限制。

参考图1和图2，依本实用新型一较佳实施例的一种超音波低温水域下蜡装置将在以下被详细地阐述，其中所述超音波低温水域下蜡装置包括底座10、承载槽20、加热元件30、晃动机构、承载盘50和超音波换能器60，其中所述承载槽20用于盛装去离子水，即DIWATER，所述承载槽20位于所述底座10的顶部，同时，所述承载槽20的底壁于靠近中间的位置设置有贯穿的限位通孔201，另外，所述承载槽20内还设置有温度传感器，用于感应所述水离子水的温度。所述加热元件30位于所述承载槽20内，或者设置在所述承载槽20的侧壁内，用于加热所述去离子水。所述晃动机构包括晃动主体41和动力机构42，其中所述晃动主体41位于所述承载槽20内所述限位通孔201的上方，所述动力机构42以能够穿过所述限位通孔201驱动所述晃动主体41晃动的方式设置在所述底座10内。所述承载盘50浸没在所述去离子水中，并设置在所述晃动主体41的顶部，通过柔性密封套51连接所述承载槽20的底壁，其中所述柔性密封套51套设在所述晃动主体41的外围。这样一来，基于所述柔性密封套51的柔性和密封性能，在所述晃动主体41带动所述承载盘50晃动的过程中，所述承载槽20内的去离子水也不会经所述限位通孔201泄漏出去。一般情况下，所述承载槽20内的去离子水高出所述承载盘50 5cm的距离。在所述承载盘50晃动的过程中，所述承载盘50始终保持浸没在所述去离子水内。所述超音波换能器60具有多个，均匀嵌设在所述底座10的顶部，并正对所述承载槽20。

具体操作为，将所述承载槽20内注入DI WATER，高度比所述承载盘50高出约5cm，然后将带有晶片的陶瓷盘放入所述承载盘50中，控制所述加热元件30加热所述DI WATER，待加热至70℃，打开所述超音波换能器60，并打开所述动力机构42，使其驱动所述晃动主体41晃动。所述晃动主体41的外部是所述柔性密封套51，能够在所述晃动主体41晃动的过程中始终防止DI WATER通过所述限位通孔201泄漏。超音波换能器60的功率和频率由超音波发生器进行调节。超音波换能器60将声能转换为机械能，对DI WATER产生高频振动，并通过DI WATER进一步作用到晶片与蜡的表面，达到清洗以及加速蜡分解和融化的目的，使得在不需要较高温度的情况下(45℃～80℃范围)也能实现下蜡的功能，这样可以避免高温对工作人员造成的潜在危险；另外，所述晃动主体41带动所述承载盘50持续晃动，也可以将清洗下来的slurry、蜡液从晶片和陶瓷盘上带入到DI WATER中，减少晶片和陶瓷盘上slurry的黏附量，方便后续清洗工艺的工作。

作为一较佳实施例，所述加热元件30位于所述承载槽20内，并靠近所述承载槽20的侧壁，同时，所述加热元件30被实施为电加热丝或者电热棒。

优选地，所述晃动主体41被实施为碟簧，同时，所述碟簧的表面包覆有柔性套。

进一步优选地，所述承载槽20的底壁于靠近所述限位通孔201处设置有圆形凹陷部21。所述圆形凹陷部21与所述限位通孔201同心，并被配置为适于容纳所述晃动主体41，从而在安装过程中，给所述晃动主体41提供定位作用，便于所述晃动主体41的快速、准确安装，同时，在工作过程中，还能够给所述晃动主体41起到一定的限位作用，使所述晃动主体41的晃动更加均匀、稳定。

进一步优选地，所述晃动主体41的外围套设有限位套411，同时，所述限位套411位于所述承载盘50的下方，并与所述晃动主体41保持有预定的间隙，以限位所述晃动主体41，防止所述晃动主体41由于各种突发原因、或者意外情况等而出现偏摆幅度过大，导致所述承载盘50内的陶瓷盘以及晶片脱离所述承载盘50的情况发生。另外，所述限位套411还和所述承载盘50保持有一定的间隙距离，在所述承载盘50晃动的过程中，防止其触碰到所述限位套411。

作为一较佳实施例，所述动力机构42包括支撑件421、旋转电机422、L型连接杆423、滑动套筒424和转接杆425，其中所述旋转电机421通过所述支撑件421于所述超音波换能器60的下方悬空设置在所述底座10内，并通过旋转轴固定连接所述L型连接杆423，以此能够给所述转接杆425的晃动预留出足够的空间，此外，所述滑动套筒424设置在所述L型连接杆423的另一端，并以可相对滑动的方式套设在所述转接杆425上，而所述转接杆425的顶端穿过所述限位通孔201连接所述晃动主体41。在所述旋转电机422运转时，所述旋转轴带动所述L型连接杆423转动，所述L型连接杆423的另一端以所述旋转轴为轴心在竖向平面持续做圆周运动，期间，在该竖向平面的竖直方向，所述滑动套筒424在所述转接杆425上上下滑动，而在该竖向平面的水平方向，所述滑动套筒424带动所述转接杆425以所述承载槽20的底壁为支撑点，所述转接杆425的下端在水平方向摆动，相应的，所述转接杆425顶端的所述晃动主体41在所述承载槽20内在水平方向进行摆动，此外，结合所述滑动套筒424上下滑动时给所述转接杆425起到的反作用力，所述晃动主体41在竖直方向也会有轻微的移动，从而最终形成所述晃动主体41在所述承载槽20内的晃动。

优选地，所述支撑件421被实施为支撑架或支撑座。所述支撑件421支撑设置在所述底座10的底壁和所述旋转电机422之间。

进一步优选地，所述转接杆425的底端设置有限位凸起4251，同时，所述限位凸起4251在水平方向凸出所述滑动套筒424，以避免所述滑动套筒424向下的移动距离过大而脱离所述转接杆425。

本领域的技术人员应理解，上述描述及附图中所示的本实用新型的实施例只作为举例而并不限制本实用新型。本实用新型的优势已经完整并有效地实现。本实用新型的功能及结构原理已在实施例中展示和说明，在没有背离所述原理下，本实用新型的实施方式可以有任何变形或修改。

Claims (8)

1.超音波低温水域下蜡装置，其特征在于，包括：

底座；

承载槽，用于盛装去离子水，其中所述承载槽位于所述底座的顶部，所述承载槽的底壁于靠近中间的位置设置有贯穿的限位通孔，且所述承载槽内设置有温度传感器，用于感应所述去离子水的温度；

加热元件，位于所述承载槽内，或者设置在所述承载槽的侧壁内，用于加热所述去离子水；

晃动机构，包括晃动主体和动力机构，其中所述晃动主体位于所述承载槽内所述限位通孔的上方，所述动力机构以能够穿过所述限位通孔驱动所述晃动主体晃动的方式设置在所述底座内；

承载盘，浸没在所述去离子水中，并设置在所述晃动主体的顶部，通过柔性密封套连接所述承载槽的底壁，其中所述柔性密封套套设在所述晃动主体的外围；以及

超音波换能器，具有多个，均匀嵌设在所述底座的顶部，并正对所述承载槽。

2.如权利要求1所述超音波低温水域下蜡装置，其特征在于，所述加热元件位于所述承载槽内，并靠近所述承载槽的侧壁，所述加热元件被实施为电加热丝或加热棒。

3.如权利要求1所述超音波低温水域下蜡装置，其特征在于，所述晃动主体被实施为碟簧，所述碟簧的表面包覆有柔性套。

4.如权利要求3所述超音波低温水域下蜡装置，其特征在于，所述承载槽的底壁于靠近所述限位通孔处设置有圆形凹陷部，所述圆形凹陷部与所述限位通孔同心，并被配置为适于容纳所述晃动主体。

5.如权利要求4所述超音波低温水域下蜡装置，其特征在于，所述晃动主体的外围套设有限位套，所述限位套位于所述承载盘的下方，并与所述晃动主体保持有预定的间隙。

6.如权利要求1至5任一项所述超音波低温水域下蜡装置，其特征在于，所述动力机构包括支撑件、旋转电机、L型连接杆、滑动套筒和转接杆，其中所述旋转电机通过所述支撑件于所述超音波换能器的下方悬空设置在所述底座内，并通过旋转轴固定连接所述L型连接杆，所述滑动套筒设置在所述L型连接杆的另一端，并以可相对滑动的方式套设在所述转接杆上，所述转接杆的顶端穿过所述限位通孔连接所述晃动主体。

7.如权利要求6所述超音波低温水域下蜡装置，其特征在于，所述支撑件被实施为支撑架或支撑座。

8.如权利要求6所述超音波低温水域下蜡装置，其特征在于，所述转接杆的底端设置有限位凸起，所述限位凸起在水平方向凸出所述滑动套筒。

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