CN217909520U - 喷嘴过滤器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型旨在提供一种喷嘴过滤器,所述喷嘴过滤器,包括:第一过滤板,包括第一过滤孔;以及,垂直型挂钩部,固定到所述第一过滤板,本实用新型可以对喷嘴过滤器进行拆装,可以提升清洗喷嘴过滤器的便利性,与此同时,还可以实现喷嘴过滤器的再利用以及与其他喷嘴的交叉使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种喷嘴过滤器{Nozzle Filter},尤其涉及一种安装到真空蒸发源的喷嘴上的喷嘴过滤器。
背景技术
通常来讲,真空蒸发源可以为了在配置于高真空腔室内的基板上形成指定的薄膜而对薄膜形成用物质进行加热蒸发。真空蒸发源用于在半导体制造工程中在基板表面形成由指定物质构成的薄膜,或用于在大型平板显示装置的制造工程中在玻璃基板等的表面形成所需要的物质薄膜。
从真空蒸发源蒸发的蒸镀物质可以移动到基板表面并通过如吸附、蒸镀以及再蒸发等连续过程在基板上固化并形成薄膜。
此时,如果施加到蒸镀物质的温度不均匀,则蒸镀物质可能并不能得到汽化或升华而以颗粒形态的块状吸附到基板上,从而诱发显示装置的不良。
先行技术文献
专利文献
大韩民国专利注册编号第10-1209107号
实用新型内容
本实用新型拟解决的课题在于提供一种可以防止蒸镀物质颗粒喷射到喷嘴外部的喷嘴过滤器。
本实用新型拟解决的课题并不限定于在上述内容中提及的课题,相关从业人员将可以通过下述记载进一步明确理解未被提及的其他课题。
为了解决如上所述的课题,适用本实用新型的喷嘴过滤器的一方面(aspect),包括:第一过滤板,包括第一过滤孔;以及,垂直型挂钩部,固定到所述第一过滤板。
在若干实施例中,还包括:第二过滤板,包括第二过滤孔,固定到垂直型挂钩部;第二过滤板在第一方向上与第一过滤板相隔。
在若干实施例中,第二过滤板与第一过滤板相比更加接近喷嘴的出口,第一过滤孔的数量大于第二过滤孔的数量,第一过滤孔以及第二过滤孔在第一方向上不重叠。
通过将喷嘴过滤器配置在坩埚内部,可以防止在蒸镀物质蒸发时可能产生的块状形态的蒸发物质颗粒喷出到喷嘴外部。
此外,因为喷嘴过滤器可以对上部加热丝的热量的一部分进行阻隔,因此为了对蒸镀物质进行加热,可能需要增加上部加热丝的功率。而在上部加热丝的功率增加时,与没有喷嘴过滤器时的情况相比,喷嘴的温度也将随之增加。借助于喷嘴温度的增加,可以防止蒸镀物质被堆积在配置到喷嘴内部的内板中。
而且,喷嘴过滤器可以相对于喷嘴进行移动。当坩埚内部的压力过度增加时,喷嘴过滤器可以相对于喷嘴进行移动。借助于喷嘴过滤器的移动,坩埚内的气态的蒸镀物质等可以被喷出到喷嘴过滤器与坩埚之间。借此,可以使得坩埚的内部压力重新下降至适当的范围。因为喷嘴并不会从坩埚提起,而是只有喷嘴过滤器发生移动,因此可以防止因为喷嘴从坩埚提起而导致的问题。
此外,因为可以对喷嘴过滤器进行拆装,因此可以提升清洗喷嘴过滤器的便利性。与此同时,还可以实现喷嘴过滤器的再利用以及与其他喷嘴的交叉使用。
附图说明
图1是对适用本实用新型之实施例的真空蒸发源进行概要性图示的示意图。
图2是对图1中的A部分进行放大图示的示意图。
图3至图5是用于对图1中的内板进行说明的示意图。
图6至图8是用于对图1中的喷嘴过滤器进行说明的示意图。
图9是用于对喷嘴过滤器与内板之间的结合关系进行说明的示意图。
图10是对蒸镀物质颗粒的阻隔过程进行概要性图示的示意图。
图11是对喷嘴过滤器相对于喷嘴进行移动的状态进行概要性图示的示意图。
具体实施方式
本实用新型的优点和特征及其达成方法,将可以通过参阅结合附图进行详细说明的后续的实施例得到进一步明确。但是,本实用新型并不限定于在下述内容中公开的实施例,而是可以通过其他形态实现,所述实施例只是为了更加完整地公开本实用新型,并向具有本实用新型所属技术领域之一般知识的人员更加完整地介绍本实用新型的额范畴,本实用新型只应该通过权利要求书的范畴做出定义。附图中的层以及区域的相对大小可能会为了说明的明确性而被夸张。在整个说明书中,相同的参考编号代表相同的构成要素。
当记载为某个元件(elements)与其他元件“连接(connected to)”或“耦合(coupled to)”时,不仅包括与其他元件直接连接或耦合的情况,还包括在两者之间介有其他元件的情况。与此相反,当记载为某个元件与其他元件“直接连接(directly connectedto)”或“直接耦合(directly coupled to)”时,是指在两者之间没有其他元件的情况。在整个说明书中,相同的参考编号代表相同的构成要素。“和/或”包括所提及的各个项目以及一个以上的所有组合。
为了方便地对如图所示的一个元件或构成要素与其他元件或构成要素之间的相关关系进行说明,可以使用“下侧(below)”、“下方(beneath)”、“下部(lower)”、“上侧(above)”以及“上部(upper)”等空间上的相对术语。空间上的相对术语应该理解为除了附图中所图示的方向之外还包括在使用时或工作时元件的彼此不同的方向的含义。
虽然为了对不同的元件、构成要素和/或部分进行说明而使用如第一以及第二等术语,但是所述元件、构成要素和/或部分并不因为所述术语而受到限定。所述术语只是用于将一个元件、构成要素或部分与其他元件、构成要素或部分进行区分。因此,在下述内容中提及的第一元件、第一构成要素或第一部分在本实用新型的技术思想内也可以是第二元件、第二构成要素或第二部分。
在本说明书中所使用的术语只是用于对实施例进行说明,并不是为了对本实用新型做出限定。在本说明书中,单数型语句还包含复数型含义。在说明书中使用的“包含(comprises)”和/或“包括(comprising)”并不排除所提及的构成要素、步骤、动作和/或元件之外的一个以上的其他构成要素、步骤、动作和/或元件存在或被附加的可能性。
除非另有定义,否则在本说明书中使用的所有术语(包括技术以及科学术语)的含义与具有本实用新型所属技术领域之一般知识的人员所通常理解的含义相同。此外,除非另有明确的定义,否则不应该对通常所使用的已在词典中做出定义的术语做出过于理想化或夸张的解释。
图1是对适用本实用新型之实施例的真空蒸发源进行概要性图示的示意图。图2是对图1中的A部分进行放大图示的示意图。图3至图5是用于对图1中的内板进行说明的示意图。图6至图8是用于对图1中的喷嘴过滤器进行说明的示意图。图9是用于对喷嘴过滤器与内板之间的结合关系进行说明的示意图。图10是对蒸镀物质颗粒的阻隔过程进行概要性图示的示意图。图11是对喷嘴过滤器相对于喷嘴进行移动的状态进行概要性图示的示意图。
参阅图1至图9,适用本实用新型之实施例的真空蒸发源100可以是用于对薄膜形成用蒸镀物质进行蒸发的真空蒸发源。真空蒸发源100可以包括外壳110、带有倾斜的坩埚120;加热丝30U、30L;喷嘴130;内(inner)板150、155以及喷嘴过滤器160。
外壳110可以是构成真空蒸发源100的外廓的构成要素。外壳110如图1所示,包括内部空间部11。
坩埚120可以对薄膜形成用蒸镀物质进行收容。坩埚120可以是用于对薄膜形成用蒸镀物质进行蒸发的构成要素。坩埚120配置在外壳110的内部空间部11。
坩埚120包括用于对蒸镀物质进行收容的蒸镀物质收容空间。坩埚120可以向第一方向较长延长。在适用本实用新型之实施例的真空蒸发源中,第一方向可以是被收容在坩埚120中的蒸镀物质蒸发并喷出(effusion)的方向。
坩埚120可以根据蒸镀到基板上的蒸镀物质的特性,由如陶瓷等非金属性材质或金属性材质构成。坩埚120可以是一定直径的带有倾斜的圆筒形状的筒形态,或是一定直径的垂直的圆筒形状的筒形态,或是一定截面积的多边形刑天。坩埚120可以为了将在棱角部分产生的应力最小化而在棱角采用圆角形状。
坩埚120可以采用内部中空的筒形状。例如,坩埚120的一端部可以开放,而坩埚120的另一端部可以封闭。蒸镀物质可以通过坩埚120的一端部被收容到坩埚120中。此外,汽化或升华的蒸镀物质可以通过坩埚120的一端部喷出到真空蒸发源外部。
在外壳110内可以配置至少一个以上的坩埚120。作为一实例,在外壳110内可以一个坩埚120。作为另一实施例,在外壳110内可以配置两个坩埚120。在使用两个坩埚120的情况下,可以将两个坩埚120重叠使用。
被收容到坩埚120中的薄膜蒸镀用蒸镀物质可以是无机物质或有机物质中的一个。
加热丝30U、30L可以沿着坩埚120的外部侧壁配置。加热丝30U、30L可以对坩埚120的侧面进行加热。例如,加热丝30U、30L可以包括下部加热丝30L以及上部加热丝30U。下部加热丝30L与上部加热丝30U可以在第一方向上相隔。如图所示,沿着坩埚120的外部侧壁配置的加热丝也可以部分为上部加热丝以及下部加热丝。
反射板40可以配置在外壳110与加热丝30U、30L之间。反射板40可以将加热丝30U、30L的热量反射到坩埚120中。
喷嘴130可以是用于在薄膜形成用蒸镀物质蒸发的期间内提升其喷出力等的构成要素。喷嘴130可以配置在坩埚120的上部,即开放的坩埚120的一端部。喷嘴130具有可供蒸镀物质通过的喷嘴的出口130a。所蒸发的蒸镀物质最终通过喷嘴的出口130a。
喷嘴130包括朝向坩埚120的内侧面的外侧面以及与喷嘴130的外侧壁相反的面即内侧面130_ISW。喷嘴的出口130a可以通过喷嘴的内侧面130_ISW定义。
收容到坩埚120中的薄膜形成用蒸镀物质可以被加热丝30U、30L以及反射板40加热并蒸发。所蒸发的蒸镀物质将通过喷嘴的出口130a喷出到外部,从而被蒸镀到放置在真空蒸发源100的外部的基板(未图示)等上。
保温盖140可以配置在坩埚120的上部边缘与外壳110之间。保温盖140可以减缓坩埚120上部的冷却速度。
与图示不同,真空蒸发源100也可以不包括保温盖140。
内板150、155可以固定到喷嘴130上。内板150、155可以固定到喷嘴的内侧壁130_ISW上。例如,内板150、155可以通过焊接固定到喷嘴130上。但是,将内板150、155固定到喷嘴130的方法仅为示例性内容,并不限定于此。
内板150、155可以包括第一内板150以及第二内板155。第一内板150以及第二内板155可以在第一方向上相隔并固定到喷嘴130上。
第二内板155可以配置在第一内板150上。第二内板155可以配置在与第一内板150相比更加接近喷嘴的出口130a。第一内板150可以是下部内板,而第二内板155可以是上部内板。
图3是用于对第一内板150进行说明的示例性的平面图。图4是用于对第二内板155进行说明的示例性的平面图。图5是用于对第一内板150以及第二内板155固定到喷嘴(图2中的130)的形状进行说明的平面图。
在图3中,第一内板150包括第一板区域150P以及第一凸出区域150W。第一凸出区域150W可以从第一板区域150P凸出形成。第一内板150包括贯通第一板区域150P的第一内孔150H。
第一凸出区域150W被附着到喷嘴的内侧壁130_ISW上。通过将第一凸出区域150W固定到喷嘴的内侧壁130_ISW上,可以将第一内板150固定到喷嘴130上。因为第一凸出区域150W是从第一板区域150P凸出,因此在没有形成第一凸出区域150W的第一板区域150P与喷嘴的内侧壁130_ISW之间将形成沿着第一方向贯通的第一贯通区域。
在图4中,第二内板155包括第二板区域155P以及第二凸出区域155W。第二凸出区域155W可以从第二板区域155P凸出形成。第二内板155包括贯通第二板区域155P的第二内孔155H。
第二凸出区域155W被附着到喷嘴的内侧壁130_ISW上。通过将第二凸出区域155W固定到喷嘴的内侧壁130_ISW上,可以将第二内板155固定到喷嘴130上。在没有形成第二凸出区域155W的第二板区域155P与喷嘴的内侧壁130_ISW之间将形成沿着第一方向贯通的第二贯通区域。
在图2以及图5中,第一凸出区域150W以及第二凸出区域155W可以以在第一方向上不重叠的方式固定到喷嘴130上。此外,在第一内板150以及第二内板155固定到喷嘴130上的状态下,第一内孔150H以及第二内孔155H可以在第一方向上不重叠。
虽然是对在喷嘴130上附着两个内板150、155的情况进行了说明,但是并不限定于此。与图示不同,作为一实例,在喷嘴130上可以附着一个以上的内板。作为另一实例,在喷嘴13上可以附着三个以上的内板。
喷嘴过滤器160可以配置在坩埚120内部。喷嘴过滤器160可以配置在喷嘴130的下部。
喷嘴过滤器160可以结合到喷嘴130上。喷嘴过滤器160可以与第一内板150结合。喷嘴过滤器160可以以搭在第一内板150上的状态配置在坩埚120内部。借此,第一喷嘴过滤器160可以在坩埚120内部相对于喷嘴130在第一方向上移动。与其相关的信息,将在后续的内容中进行详细的说明。
喷嘴过滤器160可以包括第一过滤板161、第二过滤板162以及垂直型挂钩部163。第二过滤板162可以配置在第一过滤板161上。第二过滤板162可以配置在与第一过滤板161相比更加接近喷嘴的出口130a。第一过滤板161可以是下部过滤板,而第二过滤板162可以是上部过滤板。
图6是用于对第一过滤板161与垂直型挂钩部163的结合进行说明的示例性的示意图。图7是用于对包括第一过滤板161以及第二过滤板162的喷嘴过滤器160进行说明的示意图。图8是对图7中的喷嘴过滤器的示例性的侧面图。
在图6中,垂直型挂钩部163被附着在第一过滤板161的一侧面上。垂直型挂钩部163固定到第一过滤板161上。
第一过滤板161包括在第一方向上贯通第一过滤板161的长孔形态的第一过滤孔161H。
垂直型挂钩部163可以分为垂直延长部163V以及水平挂钩部163H。水平挂钩部163H例如可以是“┓”字形状的部分。垂直延长部163V可以是固定到第一过滤板161的部分。因为水平挂钩部163H为“┓”字形状,因此垂直型挂钩部163可以包括在垂直延长部163V与水平挂钩部163H之间定义的相隔空间163SP。
在图7以及图8中,第二过滤板162固定到垂直型挂钩部163。第二过滤板162固定到垂直延长部163V。第二过滤板162与第一过滤板161在图2中的第一方向上相隔。
第一过滤板161与第二过滤板162之间的间隔例如可以是0.2mm以上1mm以下。因为第一过滤板161以及第二过滤板162是以如上所述的较短的间隔得到固定,因此第一过滤板161以及第二过滤板162可以起到防止颗粒喷出到外部的过滤器作用。
第二过滤板162包括在第一方向上贯通第二过滤板162的第二过滤孔162H。
第一过滤板161以及第二过滤板162可以通过焊接固定到垂直型挂钩部163上。但是,将第一过滤板161以及第二过滤板162固定到垂直型挂钩部163的方法仅为示例性内容,并不限定于此。
虽未图示,为了维持第一过滤板161以及第二过滤板162之间的相隔距离,还可以进一步在第一过滤板161以及第二过滤板162之间的垂直延长部163V周边配置间隔板。
例如,第二过滤板162中所包含的第二过滤孔162H的数量小于第一过滤板161中所包含的第一过滤孔161H的数量。通过减少第二过滤孔162H的数量并使得第二过滤孔162H的贯通面积达到第二过滤板162的整体面积的7%以下,可以增加对蒸镀物质进行蒸发的坩埚120内部的压力。通过形成充分数量的第一过滤孔161H,可以防止蒸镀物质的氧化物堵孔第二过滤板162的第二过滤孔162H。
在图2以及图9中,喷嘴过滤器160可以与第一内板150结合。喷嘴过滤器160可以结合到第一内板150的第一凸出区域150W。
垂直型挂钩部163可以与第一内板150的第一凸出区域150W结合。垂直型挂钩部163可以被第一内板150的第一凸出区域150W阻挡。例如,第一内板150的第一凸出区域150W可以插入到垂直型挂钩部163的相隔空间163SP。
在第一凸出区域150W插入到垂直型挂钩部163的相隔空间163SP时,喷嘴过滤器160将与第一内板150结合。换言之,喷嘴过滤器160并不是固定到第一内板150上,而是以可拆装的方式结合。利用垂直型挂钩部163,可以将喷嘴过滤器160搭在第一内板150上。
喷嘴过滤器160不会固定到坩埚120或喷嘴130上。借此,可以在将喷嘴过滤器160从喷嘴130分离之后对喷嘴过滤器160进行清洗。即,可以提升清洗喷嘴过滤器160的便利性。此外,喷嘴过滤器160可以从真空蒸发源100分离,因此可以在其他真空蒸发源中对喷嘴过滤器160进行再利用。
虽然对喷嘴过滤器160包括第一过滤板161以及第二过滤板162的情况进行了图示,但是并不限定于此。作为一实例,喷嘴过滤器160可以只包括一个过滤板。包括一个过滤板的喷嘴过滤器160的示例性形态可以是如图6所示。作为另一实例,喷嘴过滤器160可以包括三个以上的过滤板。
在图10中,在对收容到坩埚120中的蒸发物质进行加热的情况下,可能会形成包含蒸发物质的块状形态的蒸发物质颗粒125DR。在蒸发物质颗粒125DR通过喷嘴的出口130a并蒸镀到基板(未图示)上的情况下,可能会诱发显示装置的不良。
通过在喷嘴130的下部配置喷嘴过滤器160,喷嘴过滤器160可以与第一内板150以及第二内板155一起防止蒸发物质颗粒125DR从喷嘴的出口130a喷出。即,通过追加配置喷嘴过滤器160,可以更加有效地阻隔蒸发物质颗粒125DR通过喷嘴的出口130a喷出。
除此之外,在上部加热丝30U中产生的热量的一部分可能会被喷嘴过滤器160阻隔而不会用于对蒸发物质进行加热。通过利用喷嘴过滤器160对上部加热丝30U的热量的一部分进行阻隔,可能会导致蒸镀物质的蒸发率的下降。而为了确保蒸发物质的蒸发率,可以提升上部加热丝30U的功率。
在上部加热丝30U的功率增加时,上部加热丝30U所围绕的喷嘴130以及内板150、155的温度也将随之增加。借助于喷嘴130温度的增加,可以防止蒸镀物质被堆积在配置到喷嘴130内部的内板150、155中。
在图11中,在倾斜型坩埚120的内部压力增加的情况下,喷嘴过滤器160可以相对于喷嘴130向第一方向进行移动。即,可以在喷嘴130不移动的状态下,仅使得喷嘴过滤器160向第一方向提起。这是因为在图2以及图9中,在第一凸出区域150W插入到垂直型挂钩部163的相隔空间163SP时,喷嘴过滤器160将与第一内板150结合。
在坩埚120的内部压力增加时,喷嘴过滤器160可以向第一方向提起。在喷嘴过滤器160向第一方向提起时,坩埚120内部的气相的蒸镀物质等可以向喷嘴过滤器160与坩埚120之间的边界160_E附近喷出。借此,过度升高的坩埚120的内部压力可以降低至适当的范围。
但是,在将喷嘴过滤器160与喷嘴130固定为一体型的情况下,在坩埚120的内部压力升高时,喷嘴130可能会从坩埚120提起。在如上所述的情况下,蒸镀物质可能会堆积在喷嘴130被提起的空间中。而因为堆积到所提起的空间中的物质,可能会导致喷嘴130与坩埚120之间的位置关系错位的问题发生。
利用真空蒸发源100的有机发光显示装置的制造方法如下。
可以将基板(未图示)移送到腔室(未图示)内部。在腔室(未图示)内部配置有对蒸镀物质进行收容的真空蒸发源100。
在配置在腔室(未图示)内部的真空蒸发源与基板(未图示)相隔的状态下,从真空蒸发源100发散出来的蒸镀物质将被蒸镀到基板(未图示)上,从而在基板(未图示)上形成蒸镀膜。
在基板(未图示)上完成薄膜的形成之后,可以从腔室(未图示)对基板(未图示)进行回送。
对于有机发光显示装置,可以利用适用如上所述的实施例的真空蒸发源100或有机发光显示装置的制造方法形成各个构成要素中的至少一部分。
例如,通过适用如上所述的实施例的真空蒸发源100或有机发光显示装置的制造方法,可以形成电极层或有机薄膜层以及有机薄膜保护层。例如,在有机发光显示装置包括中间层的情况下,可以通过适用如上所述的实施例的真空蒸发源100或有机发光显示装置的制造方法,形成中间层可包括的如孔注入层(HIL,Hole Injection Layer)、孔输送层(HTL,Hole Transport Layer)、发光层(EML,Emission Layer)、电子输送层(ETL,ElectronTransport Layer)、电子注入层(EIL,Electron Injection Layer)等有机薄膜层以及金属电极层。
在上述内容中对本实用新型的实施例进行了说明,但是具有本实用新型所属技术领域之一般知识的人员应该可以理解,本实用新型可以在不变更其技术思想或必要特征的情况下以其他具体形态实施。因此,在上述内容中记述的实施例在所有方面仅为示例性目的而非限定。
Claims (3)
1.一种喷嘴过滤器,作为安装在真空蒸发源的喷嘴上的喷嘴过滤器,其特征在于,
所述喷嘴过滤器,包括:
第一过滤板,包括第一过滤孔;以及,
垂直型挂钩部,固定到所述第一过滤板。
2.根据权利要求1所述的喷嘴过滤器,其特征在于,还包括:
第二过滤板,包括第二过滤孔,固定到所述垂直型挂钩部;
所述第二过滤板与所述第一过滤板在第一方向上相隔。
3.根据权利要求2所述的喷嘴过滤器,其特征在于,
所述第二过滤板与所述第一过滤板相比更加接近所述喷嘴的出口,
所述第一过滤孔的数量大于所述第二过滤孔的数量,
所述第一过滤孔以及所述第二过滤孔在所述第一方向上不重叠。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |