CN217903079U - 一种湿法化学腐蚀液处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及芯片表面处理技术领域，尤其涉及一种湿法化学腐蚀液处理装置，包括固定板和清洗槽，所述固定板的两侧对称螺合设置有螺栓，固定板通过螺栓和墙体连接，所述固定板的下部两侧对称设置有连杆，所述连杆的下部固定设置有连接板，所述连接板上固定安装有电机，电机的输出端通过联轴器安装有旋转轴，并且旋转轴的外侧对称设置有叶片，所述电机的一侧设置有烘干灯，所述连接板的下方设置有传送带，所述清洗槽的一侧设置有集水箱，所述集水箱的一侧设置有落料口。本实用新型中，芯片通过传送带经过清洗槽对表面的杂质进行超声波清洗，清洗后经过吹干和烘干，保证了芯片表面的清洁，设计简单，实用性强。

Description

一种湿法化学腐蚀液处理装置

技术领域

本实用新型涉及芯片表面处理技术领域，尤其涉及一种湿法化学腐蚀液处理装置。

背景技术

湿式蚀刻的化学反应属于液相与固相的反应。当湿蚀刻进行动作的时候，首先，溶液里的反应物利用扩散效应来通过一层厚度相当薄的边界层，以达到被蚀刻薄膜的表面。然后，这些反应物于薄膜表面的分子产生化学反应，并生成各种生成物。这些位于薄膜表面的生成物，也利用扩散效应而通过边界层到溶液里，而后随着溶液被排出。

在湿法化学腐蚀液处理的过程中，传统的工艺为将芯片放置在腐蚀液中处理后，自然晾干，这个过程需要很长时间，直接影响了生产的效率，为此，我们提出一种湿法化学腐蚀液处理装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种湿法化学腐蚀液处理装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种湿法化学腐蚀液处理装置，包括固定板和清洗槽，所述固定板的两侧对称螺合设置有螺栓，固定板通过螺栓和墙体连接，所述固定板的下部两侧对称设置有连杆，所述连杆的下部固定设置有连接板，所述连接板上固定安装有电机，电机的输出端通过联轴器安装有旋转轴，并且旋转轴的外侧对称设置有叶片，所述电机的一侧固定设置有烘干灯，所述连接板的下方设置有传送带，传送带的下方设置有驱动其运动的滚轮，所述清洗槽的一侧设置有集水箱，所述集水箱的一侧设置有落料口。

优选的，所述清洗槽的一侧设置有开关电源，清洗槽的底部设置有振动筛，振动筛的一侧设置有超声波换能器。

优选的，所述集水箱的底部设置有排水孔。

优选的，所述传送带上开设有通孔，所述通孔的直径为5mm-10mm。

优选的，所述开关电源和振动筛、超声波换能器电性连接。

优选的，所述落料口倾斜角度为30°-60°。

本实用新型的有益效果是：

通过设置传送带，传送带上设置有通孔，首先芯片经过清洗槽对表面的脏污进行清洗，然后启动电机，通过电机上的叶片对清洗后芯片的表面进行吹气，一部分的水珠和杂质被吹到集水箱，之后再经过烘干灯对芯片表面进行烘干，一体化程度高，降低了人工成本，提高了生产效率，设计简单、可操作性强。

附图说明

图1为本实用新型一种湿法化学腐蚀液处理装置的结构示意图；

图2为本实用新型一种湿法化学腐蚀液处理装置的传送带的局部俯视图。

其中：1、固定板；2、螺栓；3、连杆；4、连接板；5、电机；6、烘干灯；7、传送带；8、清洗槽；9、开关电源；10、振动筛；11、超声波换能器；12、集水箱；13、排水孔；14、通孔；15、落料口。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

如图1-2，一种湿法化学腐蚀液处理装置，包括固定板1和清洗槽8，清洗槽8的一侧设置有开关电源9，清洗槽8的底部设置有振动筛10，振动筛10的一侧设置有超声波换能器11，开关电源9和振动筛10、超声波换能器11电性连接，通过该设计，保证了芯片在清洗槽8中清洗的干净度；

固定板1的两侧对称螺合设置有螺栓2，固定板1通过螺栓2和墙体连接，固定板1的下部两侧对称设置有连杆3，连杆3的下部固定设置有连接板4，连接板4上固定安装有电机5，电机5的输出端通过联轴器安装有旋转轴，并且旋转轴的外侧对称设置有叶片，电机5的一侧固定设置有烘干灯6，连接板4的下方设置有传送带7，传送带7上开设有通孔14，通孔14的直径为5mm-10mm，通过该设计，实现了芯片上的水珠和杂质在叶片的作用下，吹到集水箱12内；

传送带7的下方设置有驱动其运动的滚轮，清洗槽8的一侧设置有集水箱12，集水箱12的底部设置有排水孔13，通过该设计，实现对集水箱12里水的排放；

集水箱12的一侧设置有落料口15，落料口15倾斜角度为30°-60°，通过该设计，保证了芯片下落过程中尽可能的减少撞击。

本实施例中，通过设置传送带7，传送带7上设置有通孔14，首先芯片经过清洗槽8对表面的脏污进行清洗，然后启动电机5，通过电机5上的叶片对清洗后芯片的表面进行吹气，一部分的水珠和杂质被吹到集水箱12，之后再经过烘干灯6对芯片表面进行烘干，一体化程度高，降低了人工成本，提高了生产效率，设计简单、可操作性强。

通过以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围。

Claims (6)

1.一种湿法化学腐蚀液处理装置，包括固定板(1)和清洗槽(8)，其特征在于，所述固定板(1)的两侧对称螺合设置有螺栓(2)，固定板(1)通过螺栓(2)和墙体连接，所述固定板(1)的下部两侧对称设置有连杆(3)，所述连杆(3)的下部固定设置有连接板(4)，所述连接板(4)上固定安装有电机(5)，电机(5)的输出端通过联轴器安装有旋转轴，并且旋转轴的外侧对称设置有叶片，所述电机(5)的一侧固定设置有烘干灯(6)，所述连接板(4)的下方设置有传送带(7)，传送带(7)的下方设置有驱动其运动的滚轮，所述清洗槽(8)的一侧设置有集水箱(12)，所述集水箱(12)的一侧设置有落料口(15)。

2.根据权利要求1所述的一种湿法化学腐蚀液处理装置，其特征在于，所述清洗槽(8)的一侧设置有开关电源(9)，清洗槽(8)的底部设置有振动筛(10)，振动筛(10)的一侧设置有超声波换能器(11)。

3.根据权利要求1所述的一种湿法化学腐蚀液处理装置，其特征在于，所述集水箱(12)底部设置有排水孔(13)。

4.根据权利要求1所述的一种湿法化学腐蚀液处理装置，其特征在于，所述传送带(7)上开设有通孔(14)，所述通孔(14)的直径为5mm-10mm。

5.根据权利要求2所述的一种湿法化学腐蚀液处理装置，其特征在于，所述开关电源(9)和振动筛(10)、超声波换能器(11)电性连接。

6.根据权利要求1所述的一种湿法化学腐蚀液处理装置，其特征在于，所述落料口(15)倾斜角度为30°-60°。

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