CN217832870U - 一种数控机床导轨用导轨清洗机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及数控机床导轨处理技术领域,尤其是一种数控机床导轨用导轨清洗机构,包括底座,底座两侧均固定安装有侧板,侧板上开设有多个螺纹孔,底座顶部固定安装有两个间隔设置的导杆,导杆上均滑动设置有滑座,滑座上开设有安装孔,滑座两侧均设置有清理机构。清理机构包括侧连接块,侧连接块端部固定安装有清理棉块,转轴两端均固定安装有圆筒,圆筒表面均涂抹有胶层。滑座可沿着导杆滑动,清理棉块与滑座同步移动,从而在滑座滑动的同时,清理棉块同步在导杆表面移动,清理棉块可清理导杆表面的污垢,同时清理棉块移动至导杆两端时,清理棉块可将导杆表面的污垢集中推向一端且落入凹槽内,污垢落在胶层表面并被吸附收集。
Description
技术领域
本实用新型涉及数控机床导轨处理技术领域,尤其涉及一种数控机床导轨用导轨清洗机构。
背景技术
数控机床导轨的作用:承受、固定、引导移动装置或设备并减少其摩擦。导轨表面上的纵向槽或脊,用于导引、固定机器部件、专用设备、仪器等。导轨通常采用机械加工方式或冷拔加工方式制成,其抗托强度一般应在370~520MPa。按其横向截面形状分主要有:T形导轨、L(或三角)形导轨、U形导轨、O形导轨、空心导轨等。
现有的数控机床导轨用导轨清洗通过人工定期对导轨表面进行清洗从而避免导轨表面的污垢增大导轨的摩擦力,而由于人工清理存在效率低下和清理不及时的缺陷,为此我们提出一种数控机床导轨用导轨清洗机构。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在数控机床导轨用导轨清洗通过人工定期对导轨表面进行清洗从而避免导轨表面的污垢增大导轨的摩擦力,而由于人工清理存在效率低下和清理不及时的缺点,而提出的一种数控机床导轨用导轨清洗机构。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
设计一种数控机床导轨用导轨清洗机构,包括底座,所述底座两侧均固定安装有侧板,所述侧板上开设有多个螺纹孔,所述底座顶部固定安装有两个间隔设置的导杆,所述导杆上均滑动设置有滑座,所述滑座上开设有安装孔,所述滑座两侧均设置有清理机构。
所述清理机构包括侧连接块,所述侧连接块端部固定安装有清理棉块,所述清理棉块下端面与导杆的上端面贴合,所述底座上开设有两个间隔设置的凹槽,所述凹槽贯穿底座,所述凹槽内可转动安装有转轴,所述转轴两端均固定安装有圆筒,所述圆筒表面均涂抹有胶层。
优选的,还包括同步机构,所述同步机构安装在底座上并与两侧的转轴相连。
优选的,所述同步机构包括两个皮带轮、皮带和转盘,所述转轴一端均贯穿底座,所述皮带轮固连在转轴上,所述皮带安装在两个皮带轮上,所述转盘固连在一侧的皮带轮上。
优选的,所述转盘上设置有防滑纹。
本实用新型提出的一种数控机床导轨用导轨清洗机构,有益效果在于:通过螺钉贯穿多个螺纹孔并螺纹连接在外部安装面上,从而对底座和侧板进行安装,通过将滑动的结构与滑座相连,滑座可沿着导杆滑动,清理棉块与滑座同步移动,从而在滑座滑动的同时,清理棉块同步在导杆表面移动,清理棉块可清理导杆表面的污垢,同时清理棉块移动至导杆两端时,清理棉块可将导杆表面的污垢集中推向一端且落入凹槽内,污垢落在胶层表面并被吸附收集。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种数控机床导轨用导轨清洗机构的结构示意图。
图2为本实用新型提出的一种数控机床导轨用导轨清洗机构的俯视图。
图3为本实用新型提出的一种数控机床导轨用导轨清洗机构的导杆处的部分结构放大示意图。
图中:底座1、侧板2、螺纹孔3、导杆4、滑座5、安装孔6、侧连接块7、清理棉块8、凹槽9、转轴10、圆筒11、胶层12、皮带轮13、皮带14、转盘15。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
实施例1:
参照图1-3,一种数控机床导轨用导轨清洗机构,包括底座1,底座1两侧均固定安装有侧板2,侧板2上开设有多个螺纹孔3,底座1顶部固定安装有两个间隔设置的导杆4,导杆4上均滑动设置有滑座5,滑座5上开设有安装孔6,滑座5两侧均设置有清理机构。清理机构包括侧连接块7,侧连接块7端部固定安装有清理棉块8,清理棉块8下端面与导杆4的上端面贴合,底座1上开设有两个间隔设置的凹槽9,凹槽9贯穿底座1,凹槽9内可转动安装有转轴10,转轴10两端均固定安装有圆筒11,圆筒11表面均涂抹有胶层12。
工作原理:通过螺钉贯穿多个螺纹孔3并螺纹连接在外部安装面上,从而对底座1和侧板2进行安装,通过将滑动的结构与滑座5相连,滑座5可沿着导杆4滑动,清理棉块8与滑座5同步移动,从而在滑座5滑动的同时,清理棉块8同步在导杆4表面移动,清理棉块8可清理导杆4表面的污垢,同时清理棉块8移动至导杆4两端时,清理棉块8可将导杆4表面的污垢集中推向一端且落入凹槽9内,污垢落在胶层12表面并被吸附收集。
实施例2:
参照图1-3,作为本实用新型的另一优选实施例,与实施例1的区别在于,还包括同步机构,同步机构安装在底座1上并与两侧的转轴10相连。同步机构包括两个皮带轮13、皮带14和转盘15,转轴10一端均贯穿底座1,皮带轮13固连在转轴10上,皮带14安装在两个皮带轮13上,转盘15固连在一侧的皮带轮13上。转盘15上设置有防滑纹。
工作原理:通过转动转盘15带动一侧的皮带轮13转动,两侧的皮带轮13通过皮带14传动而同步转动,从而带动两侧的转轴10同步转动,可带动两侧的圆筒11和胶层12转动,调节胶层12的接受面,使胶层12上的不同位置均吸附污垢。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种数控机床导轨用导轨清洗机构,包括底座(1),所述底座(1)两侧均固定安装有侧板(2),所述侧板(2)上开设有多个螺纹孔(3),其特征在于,所述底座(1)顶部固定安装有两个间隔设置的导杆(4),所述导杆(4)上均滑动设置有滑座(5),所述滑座(5)上开设有安装孔(6),所述滑座(5)两侧均设置有清理机构;
所述清理机构包括侧连接块(7),所述侧连接块(7)端部固定安装有清理棉块(8),所述清理棉块(8)下端面与导杆(4)的上端面贴合,所述底座(1)上开设有两个间隔设置的凹槽(9),所述凹槽(9)贯穿底座(1),所述凹槽(9)内可转动安装有转轴(10),所述转轴(10)两端均固定安装有圆筒(11),所述圆筒(11)表面均涂抹有胶层(12)。
2.根据权利要求1所述的数控机床导轨用导轨清洗机构,其特征在于,还包括同步机构,所述同步机构安装在底座(1)上并与两侧的转轴(10)相连。
3.根据权利要求2所述的数控机床导轨用导轨清洗机构,其特征在于,所述同步机构包括两个皮带轮(13)、皮带(14)和转盘(15),所述转轴(10)一端均贯穿底座(1),所述皮带轮(13)固连在转轴(10)上,所述皮带(14)安装在两个皮带轮(13)上,所述转盘(15)固连在一侧的皮带轮(13)上。
4.根据权利要求3所述的数控机床导轨用导轨清洗机构,其特征在于,所述转盘(15)上设置有防滑纹。
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