CN217800959U - 一种多轴光学元件复合抛光装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种多轴光学元件复合抛光装置，包括机架，所述机架上滑动安装有分别用于搭载小磨头抛光头和用于搭载磁流变抛光头的滑架，所述滑架能够通过滑动分别将小磨头抛光头和磁流变抛光头运送至相同位置。当对工件进行抛光时，搭载有小磨头抛光头的滑架首先驱动小磨头抛光头就位并对工件执行抛光，待粗加工完成，滑架驱动小磨头抛光头移出加工工位，此时搭载有磁流变抛光头的滑架驱动磁流变抛光头进入加工工位，并对工件执行抛光、完成精加工。上述粗加工和精加工过程中工件始终处于固定状态，无需进行转运，从而能够有效避免发生磕碰损坏，且免除了重新固定工件时的定位步骤，能够极大地加快抛光效率，并提升加工精度。

Description

一种多轴光学元件复合抛光装置

技术领域

本实用新型主要涉及抛光设备技术领域，尤其涉及一种多轴光学元件复合抛光装置。

背景技术

近年来，随着现代光学、微电子和固体电子学等相关学科领域的发展，光学系统中的光学零件表面质量精度要求越来越严格，光学零件的超光滑表面抛光技术也成为现在光学加工的重要领域之一。在对光学零件进行加工时，往往需要先用小磨头进行粗加工，而后转用磁流变完成精加工。现有技术中，搭载小磨头和搭载磁流变的机床是独立的，也就是说，光学零件在搭载有小磨头的机床上完成粗加工后，需要转运到搭载有磁流变的机床上进行精加工，该转运过程中不但需要耗费人力，而且存在磕碰损坏的风险。不仅如此，为了确保加工精度，必须对光学零件在第二台机床上的位置、角度进行调节以使其与在第一台机床上时的加工初始坐标一致，该调节过程难度大、耗时长，且难以达到预期效果，最终导致因光学零件在前后两台机床上的初始坐标不能完全重叠而产生加工误差、严重影响抛光精度。因此，亟需一种在同一机床上同时安装有小磨头和磁流变的复合抛光装置。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种多轴光学元件复合抛光装置。

为解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案：

一种多轴光学元件复合抛光装置，包括机架，所述机架上滑动安装有分别用于搭载小磨头抛光头和用于搭载磁流变抛光头的滑架，所述滑架能够通过滑动分别将小磨头抛光头和磁流变抛光头运送至相同位置。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述机架包括底座，所述底座顶面立设有冂形架，所述冂形架的横梁上滑动安装有滑架。

所述底座上设置有用于承载工件的载物台，所述载物台位于滑架的下方。

所述载物台与底座沿X轴向滑动相连，工件与所述载物台固定并跟随移动。

所述载物台包括与底座沿X轴向滑动相连的下滑板，所述下滑板沿Y轴向滑动安装有上滑板，工件与所述上滑板固定并跟随移动。

所述上滑板上设有转台一，所述转台一绕Z轴向旋转，工件与所述转台一固定并跟随移动。

所述X轴向、所述Y轴向与所述Z轴向两两垂直。

所述滑架包括与机架沿A轴向滑动相连的基座，所述基座沿B轴向滑动安装有滑块，小磨头抛光头和磁流变抛光头与所述滑块固定并跟随移动。

所述滑块上设有转台二，所述转台二绕C轴向旋转，小磨头抛光头和磁流变抛光头与所述转台二固定并跟随移动。

所述A轴向、所述B轴向与所述C轴向两两垂直。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

当对工件进行抛光时，搭载有小磨头抛光头的滑架首先驱动小磨头抛光头就位并对工件执行抛光，待粗加工完成，滑架驱动小磨头抛光头移出加工工位，此时搭载有磁流变抛光头的滑架驱动磁流变抛光头进入加工工位，并对工件执行抛光、完成精加工。上述粗加工和精加工过程中工件始终处于固定状态，无需进行转运，从而能够有效避免发生磕碰损坏，且免除了重新固定工件时的定位步骤，能够极大地加快抛光效率，并提升加工精度。

附图说明

图1是多轴光学元件复合抛光装置的结构示意图(视角一)；

图2是多轴光学元件复合抛光装置的结构示意图(视角二)。

图中各标号表示：1、机架；11、底座；12、冂形架；121、横梁；13、载物台；131、下滑板；132、上滑板；133、转台一；2、小磨头抛光头；3、磁流变抛光头；4、滑架；41、基座；42、滑块；43、转台二；5、工件。

具体实施方式

以下将结合说明书附图和具体实施例对本实用新型做进一步详细说明。

如图1和图2所示，本实施例的多轴光学元件复合抛光装置，包括机架1，机架1上滑动安装有分别用于搭载小磨头抛光头2和用于搭载磁流变抛光头3的滑架4，滑架4能够通过滑动分别将小磨头抛光头2和磁流变抛光头3运送至相同位置。滑架4有两个，其中一个滑架4上安装有小磨头抛光头2、另一个滑架4上安装有磁流变抛光头3；当对工件5进行抛光时，搭载有小磨头抛光头2的滑架4首先驱动小磨头抛光头2就位并对工件5执行抛光，待粗加工完成，滑架4驱动小磨头抛光头2移出加工工位，此时搭载有磁流变抛光头3的滑架4驱动磁流变抛光头3进入加工工位，并对工件5执行抛光、完成精加工。上述粗加工和精加工过程中工件5始终处于固定状态，无需进行转运，从而能够有效避免发生磕碰损坏，且免除了重新固定工件5时的定位步骤，能够极大地加快抛光效率，并提升加工精度。

本实施例中，机架1包括底座11，底座11顶面立设有冂形架12，冂形架12的横梁121上滑动安装有滑架4。通过设置冂形架12，利用冂形架12的横梁121为滑架4提供安装基础，滑架4能够沿横梁121的长度方向滑动，从而实现驱动小磨头抛光头2和磁流变抛光头3进出抛光工位。

本实施例中，底座11上设置有用于承载工件5的载物台13，载物台13位于滑架4的下方。载物台13与底座11沿X轴向滑动相连，工件5与载物台13固定并跟随移动。载物台13包括与底座11沿X轴向滑动相连的下滑板131，下滑板131沿Y轴向滑动安装有上滑板132，工件5与上滑板132固定并跟随移动。上滑板132上设有转台一133，转台一133绕Z轴向旋转，工件5与转台一133固定并跟随移动。通过设置下滑板131、上滑板132和转台一133，使得固定在转台一133上的工件能够分别跟随下滑板131、上滑板132获得沿X轴向、Y轴向移动的能力，并跟随转台一133获得沿Z轴向旋转的能力，从而极大地增加了对工件5加工的角度选择，提高抛光作业的灵活程度。

本实施例中，滑架4包括与机架1沿A轴向滑动相连的基座41，基座41沿B轴向滑动安装有滑块42，小磨头抛光头2和磁流变抛光头3与滑块42固定并跟随移动。滑块42上设有转台二43，转台二43绕C轴向旋转，小磨头抛光头2和磁流变抛光头3与转台二43固定并跟随移动。通过设置基座41、滑块42和转台二43，使得固定在转台二43上的小磨头抛光头2和磁流变抛光头3能够分别跟随基座41、滑块42获得沿A轴向、B轴向移动的能力，并跟随转台二43获得沿C轴向旋转的能力，从而极大地增加了对工件5加工的角度选择，提高抛光作业的灵活程度。

本实施例中，X轴向、Y轴向与Z轴向两两垂直，A轴向、B轴向与C轴向两两垂直，且X轴向与C轴向平行、Y轴向与A轴向平行、Z轴向与B轴向平行。

虽然本实用新型已以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限定本实用新型。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围的情况下，都可利用上述揭示的技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均应落在本实用新型技术方案保护的范围内。

Claims (10)

1.一种多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)上滑动安装有分别用于搭载小磨头抛光头(2)和用于搭载磁流变抛光头(3)的滑架(4)，所述滑架(4)能够通过滑动分别将小磨头抛光头(2)和磁流变抛光头(3)运送至相同位置。

2.根据权利要求1所述的多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：所述机架(1)包括底座(11)，所述底座(11)顶面立设有冂形架(12)，所述冂形架(12)的横梁(121)上滑动安装有滑架(4)。

3.根据权利要求2所述的多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：所述底座(11)上设置有用于承载工件(5)的载物台(13)，所述载物台(13)位于滑架(4)的下方。

4.根据权利要求3所述的多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：所述载物台(13)与底座(11)沿X轴向滑动相连，工件(5)与所述载物台(13)固定并跟随移动。

5.根据权利要求4所述的多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：所述载物台(13)包括与底座(11)沿X轴向滑动相连的下滑板(131)，所述下滑板(131)沿Y轴向滑动安装有上滑板(132)，工件(5)与所述上滑板(132)固定并跟随移动。

6.根据权利要求5所述的多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：所述上滑板(132)上设有转台一(133)，所述转台一(133)绕Z轴向旋转，工件(5)与所述转台一(133)固定并跟随移动。

7.根据权利要求6所述的多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：所述X轴向、所述Y轴向与所述Z轴向两两垂直。

8.根据权利要求1-6中任一项所述的多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：所述滑架(4)包括与机架(1)沿A轴向滑动相连的基座(41)，所述基座(41)沿B轴向滑动安装有滑块(42)，小磨头抛光头(2)和磁流变抛光头(3)与所述滑块(42)固定并跟随移动。

9.根据权利要求8所述的多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：所述滑块(42)上设有转台二(43)，所述转台二(43)绕C轴向旋转，小磨头抛光头(2)和磁流变抛光头(3)与所述转台二(43)固定并跟随移动。

10.根据权利要求9所述的多轴光学元件复合抛光装置，其特征在于：所述A轴向、所述B轴向与所述C轴向两两垂直。

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