CN217594958U - 镀膜遮蔽装置及镀膜系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种镀膜遮蔽装置及镀膜系统，镀膜遮蔽装置包括底座、第一喷头和第二喷头，底座用于承接镀膜件并能够围绕竖向中心轴线自旋转，第一喷头位于底座的上方并能够向下方喷出遮蔽药剂，第二喷头位于底座的前侧并能够向后侧喷出遮蔽药剂，第二喷头能够沿左右方向移动。本实用新型提供的镀膜遮蔽装置用于在镀膜件开始镀膜之前，将非镀膜面喷涂上均匀的遮蔽涂层，镀膜完成后通过水溶方式对非镀膜面涂层进行有效褪除。如此便可以对镀膜件的非镀膜面进行有效保护，解决非镀膜面污染的技术问题，而且采用涂层遮蔽，技术受约束性较低，可适用于多种复杂外形尺寸工件。

Description

镀膜遮蔽装置及镀膜系统

技术领域

本实用新型属于镀膜技术领域，尤其涉及一种镀膜遮蔽装置及镀膜系统。

背景技术

近年来随着真空镀膜技术的不断发展，需要通过表面膜层提升性能的产品日益增多，所以此项技术得到大家的广泛应用。真空镀膜技术通常采用PVD/CVD两种方式，成膜材料均以气相状态呈现，因此整个真空环境下产品表面均会存在膜层附着。但实际产品需求大多只需要单面成膜。遇到类似情况行业中多采用嵌入式治具方式进行处理，此方式在镀膜面的边缘还是会存在缝隙，膜材分子会顺势进行渗透，造成非镀膜面污染，并且治具加工精度相对较高，边缘处理不得当镀膜过程中极易造成色差异常。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种镀膜遮蔽装置及镀膜系统，旨在解决现有技术中的非镀膜面污染的技术问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种镀膜遮蔽装置，其中，所述镀膜遮蔽装置包括：

底座，用于承接镀膜件并能够围绕竖向中心轴线自旋转；

第一喷头，位于底座的上方并能够向下方喷出遮蔽药剂；

第二喷头，位于底座的前侧并能够向后侧喷出遮蔽药剂，第二喷头能够沿左右方向移动。

在本实用新型实施例中，第一喷头和第二喷头均为雾化喷头。

在本实用新型实施例中，镀膜遮蔽装置还包括操作台，底座、第一喷头和第二喷头均设于操作台的上台面。

在本实用新型实施例中，操作台的上台面设有沿左右方向延伸的滑轨，滑轨上设有能够沿滑轨延伸方向移动的滑块，第二喷头为连接于滑块上的移动喷头。

在本实用新型实施例中，镀膜遮蔽装置还包括位于操作台的下方的电机，电机穿过操作台连接底座并用于驱动底座自旋转。

在本实用新型实施例中，镀膜遮蔽装置还包括安装于操作台的底部的框架，框架用于将电机固定安装在操作台的下方。

在本实用新型实施例中，还提出一种镀膜系统，该镀膜系统包括如上所述的镀膜遮蔽装置。

在本实用新型实施例中，镀膜系统还包括固烤设备，固烤设备用于将遮蔽药剂固化。

在本实用新型实施例中，固烤设备为烤箱。

在本实用新型实施例中，遮蔽药剂为水溶性油墨。

通过上述技术方案，本实用新型实施例所提供的镀膜遮蔽装置具有如下的有益效果：

本实用新型提供的镀膜遮蔽装置在对镀膜件进行喷涂作业前需要使用耐高温带粘性膜或高温胶带等同类产品贴合在镀膜面，由第一喷头和第二喷头对镀膜件进行全方位的遮蔽药剂喷洒，第二喷头和能够自旋转的底座相配合，使镀膜件水平方向的四周均匀的受到第二喷头的喷涂，而第一喷头对镀膜件的顶面进行喷涂，待非镀膜面全部形成均匀的外表遮蔽涂层之后，最后进入固烤环境加热，使遮蔽药剂牢固的附着在镀膜件的非镀膜面表面。遮蔽完成的镀膜件即可开始正常镀膜，镀膜完成后镀膜件根据其膜层自身结构特性进行相应的静置时间，然后通过水溶方式对非镀膜面涂层进行有效褪除，完成产品清洗后便可实现本实用新型的镀膜的全部流程。本实用新型提供的镀膜遮蔽装置可以对镀膜件的非镀膜面进行有效保护，解决非镀膜面污染的技术问题，而且采用涂层遮蔽，技术受约束性较低，可适用于多种复杂外形尺寸工件。

本实用新型的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是根据本实用新型一实施例中镀膜遮蔽装置的结构示意图；

图2是根据本实用新型一实施例中隧道炉的结构示意图；

图3是根据本实用新型一实施例中镀膜机的结构示意图；

图4是根据本实用新型一实施例中水溶机的结构示意图。

附图标记说明

标号	名称	标号	名称
				10	操作台	14	滑轨
11	底座	141	滑块
				12	第一喷头	20	电机
13	第二喷头	21	框架
				31	隧道式固烤仓	41	镀膜靶材
32	传送带	42	镀膜治具
				51	清洗架	52	溶解槽

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施例进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

下面参考附图描述根据本实用新型的镀膜遮蔽装置。

如图1所示，在本实用新型的实施例中，提供一种镀膜遮蔽装置，其中，镀膜遮蔽装置包括底座11、第一喷头12和第二喷头13，底座11用于承接镀膜件并能够围绕竖向中心轴线自旋转，第一喷头12位于底座11的上方并能够向下方喷出遮蔽药剂，第二喷头13位于底座11的前侧并能够向后侧喷出遮蔽药剂，第二喷头13能够沿左右方向移动。需要进行镀膜的镀膜件的表面一般分为镀膜面和非镀膜面两部分，顾名思义，镀膜面需要进行镀膜操作，非镀膜面不需要进行镀膜操作。在镀膜件的镀膜面开始镀膜之前，需要对镀膜件的非镀膜面进行涂层遮蔽操作，本实用新型提供的镀膜遮蔽装置，由第一喷头12和第二喷头13对镀膜件进行全方位的遮蔽药剂喷洒，第二喷头13和能够自旋转的底座11相配合，使镀膜件水平方向的四周均匀的受到第二喷头13的喷涂，而第一喷头12对镀膜件的顶面进行喷涂，待非镀膜面全部形成均匀的外表遮蔽涂层之后，最后进入固烤环境加热，使遮蔽药剂牢固的附着在镀膜件的非镀膜面表面。遮蔽完成的镀膜件即可开始正常镀膜，镀膜完成后镀膜件根据其膜层自身结构特性进行相应的静置时间，然后通过水溶方式对非镀膜面涂层进行有效褪除，完成产品清洗后便可实现本实用新型的镀膜的全部流程。本实用新型提供的镀膜遮蔽装置可以对镀膜件的非镀膜面进行有效保护，而且采用涂层遮蔽，技术受约束性较低，可适用于多种复杂外形尺寸工件。

需要注意的是，镀膜遮蔽装置对镀膜件进行喷涂作业前需要使用耐高温带粘性膜或高温胶带等同类产品贴合在镀膜面上，以防止喷涂作业过程中对镀膜面所造成的污染。

在本实用新型实施例中，第一喷头12和第二喷头13均为雾化喷头，雾化喷头将遮蔽药剂雾化后对镀膜件进行喷涂，不仅增大了喷洒的范围，并且对非镀膜面的喷涂更加均匀。

在本实用新型实施例中，镀膜遮蔽装置还包括操作台10，底座11、第一喷头12和第二喷头13均设于操作台10的上台面，操作人员可以通过观察操作台10上底座11、第一喷头12和第二喷头13的状态来监控整个镀膜遮蔽装置的遮蔽药剂喷涂工作。

在本实用新型实施例中，操作台10的上台面设有沿左右方向延伸的滑轨14，滑轨14上设有能够沿滑轨14延伸方向移动的滑块141，第二喷头13为连接于滑块141上的移动喷头。为了提高镀膜遮蔽装置的遮蔽药剂喷洒效果，扩大喷洒的范围，在操作台10上设置滑轨14和滑块141，将第二喷头13设置为移动喷头，根据实际工况和不同镀膜件大小形状差异的需要，通过调整第二喷头13的左右方向的位置，达到对各种镀膜件均有均匀全面的喷涂效果。具体的，操作人员可以通过操作滑轨14上滑块141的左右移动实现第二喷头13的左右移动。

在本实用新型实施例中，镀膜遮蔽装置还包括位于操作台10的下方的电机20，电机20穿过操作台10连接底座11并用于驱动底座11自旋转。电机20用于给底座11提供自旋转的动力，当第一喷头12和第二喷头13开始喷洒遮蔽药剂时，电机20开始工作，带动底座11旋转；当第一喷头12和第二喷头13停止喷洒遮蔽药剂时，电机20停止工作，底座11和镀膜件不再旋转，这时操作人员即可从操作平台上拿出镀膜件，对镀膜件进行下一步的镀膜操作。其中，电机20设置在操作平台的下方能够更好保护电机20，防止操作人员在工作平台上作业时误触电机20，不仅提高了镀膜遮蔽装置的操作安全系数，而且能够保护电机20。

在本实用新型实施例中，镀膜遮蔽装置还包括安装于操作台10的底部的框架21，框架21用于将电机20固定安装在操作台10的下方。可选的，在框架21和电机20的接触面上可以加装一个垫板，垫板对电机20可以起到减震缓冲的作用，进而提高底座11旋转作业时的稳定性，防止镀膜件由于震动从底座11上脱出。

在本实用新型的实施例中，还提出一种镀膜系统，该镀膜系统包括如上所述的镀膜遮蔽装置，由于该镀膜系统采用了上述镀膜遮蔽装置的所有实施例，因此具有上述所有实施例所带来的有益效果。

在本实用新型实施例中，镀膜系统还包括固烤设备，固烤设备用于将遮蔽药剂固化。遮蔽涂层喷涂完成后进行固烤，使用设备不做限定，温度控制需考虑产品材质及具体特性，参考数据120℃/60min，实际设定可采用温高时短、温低时长进行合理调控。优选的，固烤设备为隧道炉，如图2所示，隧道炉包括隧道式固烤仓31和传送带32，将遮蔽涂层喷涂完成后的镀膜件样品整体放置于传送带32上，将隧道式固烤仓31调至设定合理的固烤温度，然后通传送带32将镀膜件送入，通过控制传送带32的移动速度能够控制镀膜件位于隧道式固烤仓31的固烤时间。但是本使用新型的固烤设备的适用范围不限于此，还可以为烤箱、层式炉等其他的固烤设备。

遮蔽涂层固烤完成后进行镀膜操作，优选的，镀膜设备优选为镀膜机，如图3所示，镀膜机的内腔中设有镀膜靶材41和镀膜治具42，镀膜靶材41是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在镀膜件上形成各种功能薄膜的溅射源，而镀膜件贴在的镀膜治具42接受镀膜靶材41的溅射镀膜。但是本使用新型的固烤设备的适用范围不限于此，还可以为其他的镀膜设备。

在本实用新型实施例中，遮蔽药剂为水溶性油墨，在镀膜件的镀膜操作完成后镀膜件根据其膜层自身结构特性进行相应的静置时间，然后通过水溶方式对非镀膜面的遮蔽涂层进行有效褪除，完成产品清洗后便可实现本实用新型遮蔽镀膜的全部流程。优选的，水溶设备可以为超声波水溶机，如图4所示，超声波水溶机包括用于盛放水溶液的溶解槽52，溶解槽52中设有清洗架51，将镀膜完成后的镀膜件放入超声波水溶机的清洗架51上，利用超声波的空化效应可以使非镀膜面上的遮蔽涂层快速溶解，但是本使用新型的水溶设备的适用范围不限于此，还可以为其他的水溶设备。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本实用新型的限制，本领域的普通技术人员在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种镀膜遮蔽装置，其特征在于，所述镀膜遮蔽装置包括：

底座(11)，用于承接镀膜件并能够围绕竖向中心轴线自旋转；

第一喷头(12)，位于所述底座(11)的上方并能够向下方喷出遮蔽药剂；

第二喷头(13)，位于所述底座(11)的前侧并能够向后侧喷出所述遮蔽药剂，所述第二喷头(13)能够沿左右方向移动。

2.根据权利要求1所述的镀膜遮蔽装置，其特征在于，所述第一喷头(12)和所述第二喷头(13)均为雾化喷头。

3.根据权利要求1或2所述的镀膜遮蔽装置，其特征在于，所述镀膜遮蔽装置还包括操作台(10)，所述底座(11)、第一喷头(12)和第二喷头(13)均设于所述操作台(10)的上台面。

4.根据权利要求3所述的镀膜遮蔽装置，其特征在于，所述操作台(10)的上台面设有沿左右方向延伸的滑轨(14)，所述滑轨(14)上设有能够沿所述滑轨(14)延伸方向移动的滑块(141)，所述第二喷头(13)为连接于所述滑块(141)上的移动喷头。

5.根据权利要求3所述的镀膜遮蔽装置，其特征在于，所述镀膜遮蔽装置还包括位于所述操作台(10)的下方的电机(20)，所述电机(20)穿过所述操作台(10)连接所述底座(11)并用于驱动所述底座(11)自旋转。

6.根据权利要求5所述的镀膜遮蔽装置，其特征在于，所述镀膜遮蔽装置还包括安装于所述操作台(10)的底部的框架(21)，所述框架(21)用于将所述电机(20)固定安装在所述操作台(10)的下方。

7.一种镀膜系统，其特征在于，所述镀膜系统包括根据权利要求1至6中任意一项所述的镀膜遮蔽装置。

8.根据权利要求7所述的镀膜系统，其特征在于，所述镀膜系统还包括固烤设备，所述固烤设备用于将所述遮蔽药剂固化。

9.根据权利要求8所述的镀膜系统，其特征在于，所述固烤设备为烤箱。

10.根据权利要求8所述的镀膜系统，其特征在于，所述遮蔽药剂为水溶性油墨。

Images