CN217579050U - 一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，具体涉及真空镀膜领域，包括箱体，所述箱体的上方安装有真空抽气泵，所述真空抽气泵的右侧插设有延伸至箱体内部的真空管，所述箱体的左右两侧靠近上方处均设有高脉冲磁控溅射靶，所述箱体的左右两侧靠近下方处均设有复合磁性离子发生器，且两个所述高脉冲磁控溅射靶和两个复合磁性离子发生器的内端均贯穿箱体，并延伸至箱体的内部；本实用新型利用设置的固定圈、齿圈、齿轮、电机、竖杆和基片台这些部件之间的相互配合使用，可实现基片台进行旋转的效果，同时基片台在齿圈上均匀设置，使得基片台在转动时，使基片台上的模具的镀膜相对均匀完整，增加了装置的镀膜质量。

Description

一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构。

背景技术

随着科学技术的飞速发展，工模具涂层的技术已经得到普遍应用，在镀制工模具涂层时，涂层的硬度、摩擦系数是非常重要的问题，涂层装置的硬度低、摩擦系数大，会严重影响涂层的特性，涂层的硬度和摩擦系数与材料的离化率和颗粒的细腻程度有关。

1、现有的真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构在使用时，通常对模具的镀膜效果差，难以均匀的对模具进行镀膜，从而影响到镀膜的质量；

2、现有的真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构在使用时，不便于在方便移动的同时，也可以对装置整体的位置进行固定，装置整体在使用时会因外力而发生移动，不便于使用，为此我们提出一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构用于解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，包括箱体，所述箱体的上方安装有真空抽气泵，所述真空抽气泵的右侧插设有延伸至箱体内部的真空管，所述箱体的左右两侧靠近上方处均设有高脉冲磁控溅射靶，所述箱体的左右两侧靠近下方处均设有复合磁性离子发生器，且两个所述高脉冲磁控溅射靶和两个复合磁性离子发生器的内端均贯穿箱体，并延伸至箱体的内部，所述箱体的底部插设有阳极层离子源本体，所述箱体内部的上下两侧均安装有多个真空加热器，所述箱体的下方靠近四角处均安装有支撑腿，四个所述支撑腿的底端均安装有支撑板，横向相邻的支撑板之间设有一个转轴，两个所述转轴的左右两端均贯穿相邻的支撑板，并延伸至支撑板的外侧，两个所述转轴上均套设有两个左右设置的滚轮，所述箱体的前侧通过合页转动安装有门体，所述门体的前侧安装有把手，所述箱体的内部设有旋转机构，两个所述转轴上均设有固定机构。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述旋转机构包括固定圈，所述箱体的内部设有固定圈，所述固定圈的左右两侧均安装有安装杆，且两个所述安装杆的外端均安装在箱体的内壁上，所述固定圈的内部设有齿圈，所述齿圈的内部靠近下方处啮合有齿轮，所述箱体的后侧安装有电机，所述电机的输出端贯穿箱体，并延伸至齿圈的内部与齿轮之间相连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述齿圈的前侧通过活动轴转动安装有多个均匀设置的竖杆，且多个所述竖杆的前侧均安装有基片台。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述齿圈的上下两侧均安装有第一滑块，所述固定圈的内侧开设有圆形滑槽，且两个所述第一滑块均滑动安装在圆形滑槽的内部。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述固定机构包括圆板，所述转轴的左右两端均安装有圆板，两个所述圆板的边缘处均开设有多个开槽，两个所述圆板的上方均设有第一L形杆，两个所述第一L形杆的内端均安装有第二滑块，相应的两个所述支撑腿上均开设有与第二滑块相适配的滑槽，且两个所述第二滑块均滑动安装在相邻的滑槽内部，两个所述第一L形杆的外侧均安装有拉环。

作为本实用新型的一种优选技术方案，两个所述第二滑块的上方均安装有弹簧，且两个所述弹簧远离第二滑块的一端均安装在相邻的滑槽内壁上。

作为本实用新型的一种优选技术方案，两个所述第一L形杆的上方均设有横板，两个所述横板均安装在相邻的支撑腿上，两个所述横板的上方均贴合有拨块，两个所述拨块的下方均安装有第二L形杆，两个所述第一L形杆的上方均安装有固定槽，两个所述第二L形杆远离拨块的一端均延伸至相邻的固定槽内部。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

1.本实用新型利用设置的固定圈、齿圈、齿轮、电机、竖杆和基片台这些部件之间的相互配合使用，可实现基片台进行旋转的效果，同时基片台在齿圈上均匀设置，使得基片台在转动时，使基片台上的模具的镀膜相对均匀完整，增加了装置的镀膜质量；

2.本实用新型利用设置的圆板、第一L形杆、第二滑块、弹簧、固定槽和第二L形杆这些部件之间的相互配合使用，可通过第一L形杆插入进圆板上的开槽内部，可对圆板进行固定，从而可实现对滚轮的转动限制，保证了装置整体使用时的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图，

图2为本实用新型局部侧视图，

图3为本实用新型图1中A处放大图，

图4为本实用新型图1中B处放大图。

图中：1、箱体；2、支撑腿；3、支撑板；4、滚轮；5、真空抽气泵；6、真空管；7、高脉冲磁控溅射靶；8、复合磁性离子发生器；9、阳极层离子源本体；10、真空加热器；11、固定圈；12、安装杆；13、齿圈；14、电机；15、齿轮；16、基片台；17、第一滑块；18、圆板；19、第一L形杆；20、第二滑块；21、弹簧；22、横板；23、拨块；24、第二L形杆；25、固定槽；26、竖杆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例：如图1-4所示，本实用新型提供了一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，包括箱体1，箱体1的上方安装有真空抽气泵5，真空抽气泵5的右侧插设有延伸至箱体1内部的真空管6，箱体1的左右两侧靠近上方处均设有高脉冲磁控溅射靶7，箱体1的左右两侧靠近下方处均设有复合磁性离子发生器8，且两个高脉冲磁控溅射靶7和两个复合磁性离子发生器8的内端均贯穿箱体1，并延伸至箱体1的内部，箱体1的底部插设有阳极层离子源本体9，箱体1内部的上下两侧均安装有多个真空加热器10，箱体1的下方靠近四角处均安装有支撑腿2，四个支撑腿2的底端均安装有支撑板3，横向相邻的支撑板3之间设有一个转轴，两个转轴的左右两端均贯穿相邻的支撑板3，并延伸至支撑板3的外侧，两个转轴上均套设有两个左右设置的滚轮4，箱体1的前侧通过合页转动安装有门体，门体的前侧安装有把手，箱体1的内部设有旋转机构，两个转轴上均设有固定机构；

旋转机构包括固定圈11，箱体1的内部设有固定圈11，固定圈11的左右两侧均安装有安装杆12，且两个安装杆12的外端均安装在箱体1的内壁上，固定圈11的内部设有齿圈13，齿圈13的上下两侧均安装有第一滑块17，固定圈11的内侧开设有圆形滑槽，且两个第一滑块17均滑动安装在圆形滑槽的内部，第一滑块17的设置，可便于对齿圈13进行限位和支撑，使其在固定圈11内部转动的更稳定，齿圈13的前侧通过活动轴转动安装有多个均匀设置的竖杆26，且多个竖杆26的前侧均安装有基片台16，转动安装的竖杆26的设置，可使得基片台16通过自身重力，底部始终朝向下方进行转动，便于使用，齿圈13的内部靠近下方处啮合有齿轮15，箱体1的后侧安装有电机14，电机14的输出端贯穿箱体1，并延伸至齿圈13的内部与齿轮15之间相连接，此机构可利用设置的固定圈11、齿圈13、齿轮15、电机14、竖杆26和基片台16这些部件之间的相互配合使用，可实现基片台16进行旋转的效果，同时基片台16在齿圈13上均匀设置，使得基片台16在转动时，使基片台16上的模具的镀膜相对均匀完整，增加了装置的镀膜质量；

固定机构包括圆板18，转轴的左右两端均安装有圆板18，两个圆板18的边缘处均开设有多个开槽，两个圆板18的上方均设有第一L形杆19，两个第一L形杆19的上方均设有横板22，两个横板22均安装在相邻的支撑腿2上，两个横板22的上方均贴合有拨块23，两个拨块23的下方均安装有第二L形杆24，两个第一L形杆19的上方均安装有固定槽25，两个第二L形杆24远离拨块23的一端均延伸至相邻的固定槽25内部，当需要对滚轮4取消固定，使得本装置进行移动时，可向上拉动拉环，拉环带动第一L形杆19向上移动，使得第一L形杆19脱离开槽，解除对滚轮4的固定，当移动至相应的位置，拨动拨块23，拨块23带动第二L形杆24插入至固定槽25内部，从而可对第一L形杆19进行固定，以此，实现对滚轮4的固定进行解除，然后即可对本装置进行移动，两个第一L形杆19的内端均安装有第二滑块20，两个第二滑块20的上方均安装有弹簧21，且两个弹簧21远离第二滑块20的一端均安装在相邻的滑槽内壁上，弹簧21可给第二滑块20一个向下的力，便于其插在开槽内部，相应的两个支撑腿2上均开设有与第二滑块20相适配的滑槽，且两个第二滑块20均滑动安装在相邻的滑槽内部，两个第一L形杆19的外侧均安装有拉环，此机构可利用设置的圆板18、第一L形杆19、第二滑块20、弹簧21、固定槽25和第二L形杆24这些部件之间的相互配合使用，可通过第一L形杆19插入进圆板18上的开槽内部，可对圆板18进行固定，从而可实现对滚轮4的转动限制，保证了装置整体使用时的稳定性。

工作原理：本实用新型在使用时，首先通过滚轮4将本装置移动的合适的位置，然后依次拨动四个拨块23，拨块23带动第二L形杆24脱离固定槽25，解除对第一L形杆19的固定，然后第一L形杆19会在弹簧21的回弹力作用下向下移动，使得第一L形杆19插入进开槽的内部，对圆板18进行固定，实现对转轴的固定，从而可对滚轮4进行转动限制，防止本装置在工作时因外力作用发生移动，影响到镀膜的工作，真空抽气泵5的输出端连接真空管6，真空抽气泵5可抽离箱体1内部的空气，使箱体1内部处于真空状态，启动电机14，电机14可带动齿轮15转动，齿轮15通过啮合带动齿圈13进行转动，齿圈13可带动多个竖杆26随之转动，多个竖杆26可带动基片台16进行转动，基片台16会在重力的作用下底部始终朝向下方进行转动，从而使基片台16内的模具在箱体1内部均匀的转动，且箱体1内部的真空加热器10进行加热，然后通过箱体1内部的阳极层离子源本体9，对箱体1进行离子源清洗，且箱体1内部的两个复合磁性离子发生器8，可进行电弧轰击打底，箱体1内部的两个高脉冲磁控溅射靶7，可进行高脉冲磁控溅射镀膜，以此完成镀膜，便于使用。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，包括箱体（1），所述箱体（1）的上方安装有真空抽气泵（5），所述真空抽气泵（5）的右侧插设有延伸至箱体（1）内部的真空管（6），所述箱体（1）的左右两侧靠近上方处均设有高脉冲磁控溅射靶（7），所述箱体（1）的左右两侧靠近下方处均设有复合磁性离子发生器（8），且两个所述高脉冲磁控溅射靶（7）和两个复合磁性离子发生器（8）的内端均贯穿箱体（1），并延伸至箱体（1）的内部，所述箱体（1）的底部插设有阳极层离子源本体（9），所述箱体（1）内部的上下两侧均安装有多个真空加热器（10），其特征在于：所述箱体（1）的下方靠近四角处均安装有支撑腿（2），四个所述支撑腿（2）的底端均安装有支撑板（3），横向相邻的支撑板（3）之间设有一个转轴，两个所述转轴的左右两端均贯穿相邻的支撑板（3），并延伸至支撑板（3）的外侧，两个所述转轴上均套设有两个左右设置的滚轮（4），所述箱体（1）的前侧通过合页转动安装有门体，所述门体的前侧安装有把手，所述箱体（1）的内部设有旋转机构，两个所述转轴上均设有固定机构。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，其特征在于：所述旋转机构包括固定圈（11），所述箱体（1）的内部设有固定圈（11），所述固定圈（11）的左右两侧均安装有安装杆（12），且两个所述安装杆（12）的外端均安装在箱体（1）的内壁上，所述固定圈（11）的内部设有齿圈（13），所述齿圈（13）的内部靠近下方处啮合有齿轮（15），所述箱体（1）的后侧安装有电机（14），所述电机（14）的输出端贯穿箱体（1），并延伸至齿圈（13）的内部与齿轮（15）之间相连接。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，其特征在于：所述齿圈（13）的前侧通过活动轴转动安装有多个均匀设置的竖杆（26），且多个所述竖杆（26）的前侧均安装有基片台（16）。

4.根据权利要求2所述的一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，其特征在于：所述齿圈（13）的上下两侧均安装有第一滑块（17），所述固定圈（11）的内侧开设有圆形滑槽，且两个所述第一滑块（17）均滑动安装在圆形滑槽的内部。

5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，其特征在于：所述固定机构包括圆板（18），所述转轴的左右两端均安装有圆板（18），两个所述圆板（18）的边缘处均开设有多个开槽，两个所述圆板（18）的上方均设有第一L形杆（19），两个所述第一L形杆（19）的内端均安装有第二滑块（20），相应的两个所述支撑腿（2）上均开设有与第二滑块（20）相适配的滑槽，且两个所述第二滑块（20）均滑动安装在相邻的滑槽内部，两个所述第一L形杆（19）的外侧均安装有拉环。

6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，其特征在于：两个所述第二滑块（20）的上方均安装有弹簧（21），且两个所述弹簧（21）远离第二滑块（20）的一端均安装在相邻的滑槽内壁上。

7.根据权利要求5所述的一种真空镀膜的高脉冲工模具涂层装置结构，其特征在于：两个所述第一L形杆（19）的上方均设有横板（22），两个所述横板（22）均安装在相邻的支撑腿（2）上，两个所述横板（22）的上方均贴合有拨块（23），两个所述拨块（23）的下方均安装有第二L形杆（24），两个所述第一L形杆（19）的上方均安装有固定槽（25），两个所述第二L形杆（24）远离拨块（23）的一端均延伸至相邻的固定槽（25）内部。

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