CN217552090U - 一种单晶金刚石的抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及加工设备技术领域，名称是一种单晶金刚石的抛光装置，包括装置架，在装置架上安装有电动机带动的转轴，所述的转轴下面连接有抛光盘，还有要抛光的单晶金刚石放置平台在抛光盘的下面，所述的抛光盘包括基体和安装柄，还有多个研磨块安装在抛光盘的下面，所述的研磨块之间是研磨块间隙；还有金属微粉粘接在研磨块间隙之间并形成微粉粘接体，所述的研磨块的侧边粘接着微粉粘接体侧面，所述的微粉粘接体中间还有横向贯穿孔和纵向贯穿孔，所述横向贯穿孔的两端通向外面，所述纵向贯穿孔上面连通横向贯穿孔、下面在微粉粘接体下面有出口。这样的单晶金刚石的抛光装置具有研磨块不易发生脱落和损坏、提高对单晶金刚石的抛光精度、保证产品质量的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及加工设备技术领域，具体地说是涉及单晶金刚石的抛光装置。
背景技术
在对单晶金刚石的加工中，单晶金刚石的表面需要抛光，所使用的设备就是单晶金刚石的抛光装置。
所述的单晶金刚石的抛光装置包括装置架，在装置架上安装有电动机带动的转轴，所述的转轴下面连接有抛光盘，还有要抛光的单晶金刚石放置平台在抛光盘的下面，所述的抛光盘包括基体和安装柄，还有多个研磨块安装在抛光盘的下面。
现有技术中，所述的研磨块之间是间隙，并且间隙之间没有填充物料，这样的单晶金刚石的抛光装置具有不经久耐用的缺点，致使研磨块常常发生脱落和损坏，影响了对单晶金刚石的抛光精度，不能保证产品的质量。
发明内容
本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种使研磨块不易发生脱落和损坏、提高对单晶金刚石的抛光精度、保证产品质量的单晶金刚石的抛光装置。
本实用新型的技术方案是这样实现的：一种单晶金刚石的抛光装置，包括装置架，在装置架上安装有电动机带动的转轴，所述的转轴下面连接有抛光盘，还有要抛光的单晶金刚石放置平台在抛光盘的下面，所述的抛光盘包括基体和安装柄，还有多个研磨块安装在抛光盘的下面，所述的研磨块之间是研磨块间隙；其特征是：还有金属微粉粘接在研磨块间隙之间并形成微粉粘接体，所述的研磨块的侧边粘接着微粉粘接体侧面，所述的微粉粘接体中间还有横向贯穿孔和纵向贯穿孔，所述横向贯穿孔的两端通向外面，所述纵向贯穿孔上面连通横向贯穿孔、下面在微粉粘接体下面有出口。
进一步地讲，所述的微粉粘接体在相邻的研磨块之间形成圆弧形的凹面型结构。
进一步地讲，所述的放置平台上面具有夹持单晶金刚石的夹具，所述的放置平台还包括下面的左右滑台和前后滑台。
进一步地讲，所述的放置平台下面还有水平调节螺孔，还有所述的调节螺丝安装在水平调节螺孔中，所述的放置平台下面是工作台，所述的工作台是和装置架一体的。
进一步地讲，所述的放置平台上面周围还具有围挡，围挡和放置平台形成盛装水的水槽，所述的放置平台上面就在水槽里面。
本实用新型的有益效果是：这样的单晶金刚石的抛光装置具有研磨块不易发生脱落和损坏、提高对单晶金刚石的抛光精度、保证产品质量的优点。
附图说明
图1是本实用新型的侧面结构示意图。
图2是图1中的A—A方向剖面示意图。
图3是图1中的B—B方向剖面示意图。
图4是图1中的C处放大图。
图5是图2中的D—D方向抛剖面示意图。
其中： 1、装置架 2、电动机 3、转轴 4、抛光盘 41、基体 42、安装柄 43、微粉粘接体 431、横向贯穿孔 432、纵向贯穿孔 4321、出口 44、凹面型结构 45、研磨块 5、放置平台51、左右滑台 52、前后滑台 53、调节螺丝 6、水槽。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
如图1、2、3、4、5所示，一种单晶金刚石的抛光装置，包括装置架1，在装置架上安装有电动机2带动的转轴3，所述的转轴下面连接有抛光盘4，还有要抛光的单晶金刚石放置平台5在抛光盘的下面，所述的抛光盘包括基体41和安装柄42，还有多个研磨块45安装在抛光盘的下面，所述的研磨块之间是研磨块间隙；其特征是：还有金属微粉粘接在研磨块间隙之间并形成微粉粘接体43，所述的研磨块的侧边粘接着微粉粘接体侧面，所述的微粉粘接体中间还有横向贯穿孔431和纵向贯穿孔432，所述横向贯穿孔的两端通向外面,即所述横向贯穿孔两端透气，所述纵向贯穿孔上面连通横向贯穿孔、下面在微粉粘接体下面有出口4321。
本实用新型由于上述的设置，具有抛光盘经久耐用的优点，保证了研磨块不易发生脱落和损坏、便于提高对单晶金刚石的抛光精度、能够保证产品质量，实现本实用新型的目的。
进一步地讲，所述的微粉粘接体在相邻的研磨块之间形成圆弧形的凹面型结构44。
如图4所示，本实用新型这样设置，保证了研磨块可以起到最好的研磨作用，还具有便于排屑的优点。
进一步地讲，所述的放置平台上面具有夹持单晶金刚石的夹具，所述的放置平台还包括左右滑台51和前后滑台52。
如图1所示，本实用新型这样设置，还具有便于移动要抛光的单晶金刚石的优点。
进一步地讲，所述的放置平台下面还有水平调节螺孔，还有调节螺丝53安装在水平调节螺孔中，所述的放置平台下面是工作台，所述的工作台是和装置架一体的。
如图1所示，本实用新型这样设置，还具有便于调整放置平台水平位置的优点。
进一步地讲，所述的放置平台上面周围还具有围挡6，围挡和放置平台形成盛装水的水槽，所述的放置平台上面就在水槽里面。
如图1所示，本实用新型这样设置，还具有可以实现在研磨的过程中，将单晶金刚石放在有水的环境中，保证研磨质量、减少抛光盘损耗的优点。
以上所述仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型的结构特征并不限于此，任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围内。
Claims (5)
1.一种单晶金刚石的抛光装置，包括装置架，在装置架上安装有电动机带动的转轴，所述的转轴下面连接有抛光盘，还有要抛光的单晶金刚石放置平台在抛光盘的下面，所述的抛光盘包括基体和安装柄，还有多个研磨块安装在抛光盘的下面，所述的研磨块之间是研磨块间隙；其特征是：还有金属微粉粘接在研磨块间隙之间并形成微粉粘接体，所述的研磨块的侧边粘接着微粉粘接体侧面，所述的微粉粘接体中间还有横向贯穿孔和纵向贯穿孔，所述横向贯穿孔的两端通向外面，所述纵向贯穿孔上面连通横向贯穿孔、下面在微粉粘接体下面有出口。
2.根据权利要求1所述的单晶金刚石的抛光装置，其特征是：所述的微粉粘接体在相邻的研磨块之间形成圆弧形的凹面型结构。
3.根据权利要求1或2所述的单晶金刚石的抛光装置，其特征是：所述的放置平台上面具有夹持单晶金刚石的夹具，所述的放置平台还包括下面的左右滑台和前后滑台。
4.根据权利要求1或2所述的单晶金刚石的抛光装置，其特征是：所述的放置平台下面还有水平调节螺孔，还有调节螺丝安装在水平调节螺孔中，所述的放置平台下面是工作台，所述的工作台是和装置架一体的。
5.根据权利要求1或2所述的单晶金刚石的抛光装置，其特征是：所述的放置平台上面周围还具有围挡，围挡和放置平台形成盛装水的水槽，所述的放置平台上面就在水槽里面。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202221598239.XU CN217552090U (zh) | 2022-06-25 | 2022-06-25 | 一种单晶金刚石的抛光装置 |
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Publications (1)
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| CN202221598239.XU Active CN217552090U (zh) | 2022-06-25 | 2022-06-25 | 一种单晶金刚石的抛光装置 |
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2022
- 2022-06-25 CN CN202221598239.XU patent/CN217552090U/zh active Active
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