CN217546384U - 一种多喷枪等离子处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种多喷枪等离子处理装置，包括主体，主体具有腔室且腔室内间隔设有至少两个喷枪，喷枪的相对两端分别设有接头及喷嘴且接头伸出腔室外，还包括层叠设置的导流板及分流板，导流板上设有分别与喷嘴连通的导流通道，分流板上设有与导流通道连通的分流通道及与分流通道连通的出气口。本实用新型提供的多喷枪等离子处理装置通过多个喷枪同时运行可提升单位时间内产生的等离子体的数量并通过导流通道及分流通道引导等离子体喷出，使多喷枪等离子处理装置能够达到宽幅处理范围的同时将多个喷枪产生的等离子体集中，有效改善因等离子体分散导致等离子体到达产品表面后能量减弱，利于提升多喷枪等离子处理装置的处理效果。

Description

一种多喷枪等离子处理装置

技术领域

本实用新型涉及等离子处理技术领域，尤其涉及一种多喷枪等离子处理装置。

背景技术

等离子体是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，等离子体是一种很好的导电体，利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体，等离子体物理的发展为材料、能源、信息、环境空间、空间物理、地球物理等科学的进一步发展提供了新的技术和工艺，所以等离子体的应用非常的广泛，包括数码行业、电子行业、汽车行业及印刷包装行业等。

现有等离子处理设备上的喷枪分为直流喷枪和旋转喷枪两种，其中直流喷枪适用于需处理范围小而窄的产品，其处理范围一般为6-8mm，旋转喷枪则适用于需处理范围大的产品，其处理范围可达到80-90mm，但是随着处理范围的增加，从喷枪中喷出的等离子体也会分散，导致等离子体到达待处理产品的表面后能量减弱，造成等离子体处理效果不佳。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种处理宽范围时能够使能量集中的多喷枪等离子处理装置。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种多喷枪等离子处理装置，包括主体，主体具有腔室且腔室内间隔设有至少两个喷枪，喷枪的相对两端分别设有接头及喷嘴且接头伸出腔室外，还包括层叠设置的导流板及分流板，导流板上设有分别与喷嘴连通的导流通道，分流板上设有与导流通道连通的分流通道及与分流通道连通的出气口。

进一步的，所述主体包括相配合的第一壳体及第二壳体，所述第一壳体上设有与所述喷枪的侧面贴合的第一卡块，所述第二壳体上设有与所述喷枪的侧面贴合的第二卡块，所述第一卡块及所述第二卡块分别从所述喷枪的相对两侧夹持所述喷枪。

进一步的，所述第一壳体靠近所述第二壳体的一面上设有与外界连通的第一容置槽，所述第二壳体上设有与所述第一容置槽连通的第二容置槽且所述第二容置槽与外界连通，所述第一容置槽及所述第二容置槽围成的空间内设有风扇。

进一步的，所述第一容置槽的底面设有多个第一散热孔且所述第一散热孔贯穿所述第一壳体，所述第二容置槽的底面设有多个第二散热孔且所述第二散热孔贯穿所述第二壳体。

进一步的，所述第一壳体远离所述第二壳体的一面间隔设有多个第一散热槽，每个所述第一散热槽分别与部分所述第一散热孔连通，所述第二壳体远离所述第一壳体的一面间隔设有多个第二散热槽，每个所述第二散热槽分别与部分所述第二散热孔连通。

进一步的，所述导流通道包括设置在所述导流板靠近所述分流板的一面上的第一凹槽及多个通孔，所述通孔分别与所述第一凹槽连通且所述通孔分别与所述喷嘴一一对应配合。

进一步的，所述通孔的内周壁上设有第一螺纹部，所述喷嘴靠近所述导流板的一端具有与所述第一螺纹部相配合的第二螺纹部。

进一步的，所述分流通道包括第二凹槽，所述第二凹槽设置在所述分流板靠近所述导流板的一面上且所述出气口分别与所述第二凹槽连通。

进一步的，所述第二凹槽的宽度沿其长度方向从中间向两边逐渐增大，且所述第二凹槽的深度沿其长度方向从中间向两边逐渐减小。

进一步的，所述出气口沿所述第二凹槽的长度方向排成一列。

本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供的多喷枪等离子处理装置采用间隔设置在主体内的多个喷枪同时产生等离子体，多个喷枪产生的等离子体从喷枪的喷嘴处进入导流板上的导流通道中，等离子体在导流通道内聚集后进入分流板上与导流通道连通的分流通道，再从分流板上的出气口处喷出到达待处理产品的表面进行处理，通过多个喷枪同时运行可提升单位时间内产生的等离子体的数量并通过导流通道及分流通道引导等离子体喷出，使多喷枪等离子处理装置能够达到宽幅处理范围的同时将多个喷枪产生的等离子体集中，有效改善因等离子体分散导致等离子体到达产品表面后能量减弱，利于提升多喷枪等离子处理装置的处理效果。

附图说明

图1为本实用新型实施例一的多喷枪等离子处理装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例一的多喷枪等离子处理装置的部分爆炸图；

图3为本实用新型实施例一的多喷枪等离子处理装置的剖视图；

图4为图3中A处的放大图；

图5为本实用新型实施例一的多喷枪等离子处理装置中喷枪的结构示意图；

图6为本实用新型实施例一的多喷枪等离子处理装置中第一壳体的结构示意图；

图7为本实用新型实施例一的多喷枪等离子处理装置中第二壳体的仰视图；

图8为本实用新型实施例一的多喷枪等离子处理装置中导流板的结构示意图；

图9为本实用新型实施例一的多喷枪等离子处理装置中分流板的结构示意图。

标号说明：

1、主体；2、喷枪；21、接头；22、喷嘴；23、第二螺纹部；24、旋风轮；25、电极；3、导流板；31、导流通道；32、第一凹槽；33、通孔；34、第一螺纹部；4、分流板；41、分流通道；42、第二凹槽；43、出气口；5、第一壳体；51、第一卡块；52、第一容置槽；53、第一散热孔；54、第一散热槽；6、第二壳体；61、第二卡块；62、第二容置槽；63、第二散热孔；64、第二散热槽；7、风扇。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。

请参照图1至图9，一种多喷枪等离子处理装置，包括主体1，主体1具有腔室且腔室内间隔设有至少两个喷枪2，喷枪2的相对两端分别设有接头21及喷嘴22且接头21伸出腔室外，还包括层叠设置的导流板3及分流板4，导流板3上设有分别与喷嘴22连通的导流通道31，分流板4上设有与导流通道31连通的分流通道41及与分流通道41连通的出气口43。

从上述描述可知，本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供的多喷枪等离子处理装置通过多个喷枪2同时运行可提升单位时间内产生的等离子体的数量并通过导流通道31及分流通道41引导等离子体喷出，使多喷枪等离子处理装置能够达到宽幅处理范围的同时将多个喷枪2产生的等离子体集中，有效防止因等离子体分散导致等离子体到达产品表面后能量减弱，利于提升多喷枪等离子处理装置的处理效果。

进一步的，所述主体1包括相配合的第一壳体5及第二壳体6，所述第一壳体5上设有与所述喷枪2的侧面贴合的第一卡块51，所述第二壳体6上设有与所述喷枪2的侧面贴合的第二卡块61，所述第一卡块51及所述第二卡块61分别从所述喷枪2的相对两侧夹持所述喷枪2。

由上述描述可知，主体1由第一壳体5及第二壳体6组合而成，第一壳体5与第二壳体6组装为一体后第一卡块51及第二卡块61分别从喷枪2的相对两侧将喷枪2夹住，以使喷枪2在主体1内的位置保持稳定。

进一步的，所述第一壳体5靠近所述第二壳体6的一面上设有与外界连通的第一容置槽52，所述第二壳体6上设有与所述第一容置槽52连通的第二容置槽62且所述第二容置槽62与外界连通，所述第一容置槽52及所述第二容置槽62围成的空间内设有风扇7。

由上述描述可知，通过在主体1上设置第一容置槽52和第二容置槽62围成供风扇7安装的空间，风扇7转动时可将主体1内的热量排出主体1外进行散热，确保喷枪2的温度保持在适宜的范围内使喷枪2运行稳定。

进一步的，所述第一容置槽52的底面设有多个第一散热孔53且所述第一散热孔53贯穿所述第一壳体5，所述第二容置槽62的底面设有多个第二散热孔63且所述第二散热孔63贯穿所述第二壳体6。

由上述描述可知，采用第一散热孔53及第二散热孔63分别将第一容置槽52与外界及第二容置槽62与外界连通，使主体1内的热量能够在风扇7的吹动下快速从第一散热孔53及第二散热孔63处排出主体1外。

进一步的，所述第一壳体5远离所述第二壳体6的一面间隔设有多个第一散热槽54，每个所述第一散热槽54分别与部分所述第一散热孔53连通，所述第二壳体6远离所述第一壳体5的一面间隔设有多个第二散热槽64，每个所述第二散热槽64分别与部分所述第二散热孔63连通。

由上述描述可知，设置第一散热槽54及第二散热槽64以增加第一壳体5及第二壳体6的表面积，使主体1传导热量的效率更高，利于提高多喷枪等离子处理装置的散热效率。

进一步的，所述导流通道31包括设置在所述导流板3靠近所述分流板4的一面上的第一凹槽32及多个通孔33，所述通孔33分别与所述第一凹槽32连通且所述通孔33分别与所述喷嘴22一一对应配合。

由上述描述可知，导流通道31包括相连的第一凹槽32及多个通孔33，通孔33与喷嘴22一一对应配合使喷嘴22中喷出的等离子体由通孔33进入第一凹槽32中，以使等离子体汇聚在第一凹槽32内。

进一步的，所述通孔33的内周壁上设有第一螺纹部34，所述喷嘴22靠近所述导流板3的一端具有与所述第一螺纹部34相配合的第二螺纹部23。

由上述描述可知，喷嘴22与导流板3通过第一螺纹部34与第二螺纹部23的配合进行连接，使喷嘴22与导流板3之间的连接紧密，以防等离子从喷嘴22与导流板3之间的间隙泄漏。

进一步的，所述分流通道41包括第二凹槽42，所述第二凹槽42设置在所述分流板4靠近所述导流板3的一面上且所述出气口43分别与所述第二凹槽42连通。

由上述描述可知，采用与第一凹槽32连通的第二凹槽42引导第一凹槽32内的等离子体分别进入各个出气口43中，使多喷枪等离子处理装置能够连续稳定的喷出等离子体火焰。

进一步的，所述第二凹槽42的宽度沿其长度方向从中间向两边逐渐增大，且所述第二凹槽42的深度沿其长度方向从中间向两边逐渐减小。

由上述描述可知，将第二凹槽42设置为两边宽、中间窄以及两边浅、中间深，使第二凹槽42内距离通孔33越远的位置等离子体越集中，确保每个出气口43内均能喷出平整的等离子体火焰，并使多喷枪等离子处理装置喷出的等离子体火焰均匀分布。

进一步的，所述出气口43沿所述第二凹槽42的长度方向排成一列。

由上述描述可知，将出气口43设置为沿第二凹槽42的长度方向排成一列使第二凹槽42内的等离子体均匀的进入各个出气口43中，确保多喷枪等离子处理装置喷出的等离子体均匀分布。

实施例一

请参照图1至图9，本实用新型的实施例一为：一种多喷枪等离子处理装置，用于激发氮气、氧气、氢气、氩气、氦气、甲烷或丙烷等工作气体产生等离子体，并将产生的等离子体喷向待处理产品的表面，以达到清洁产品表面、使产品表面活化或去除产品表面静电等效果。

如图1和图2所示，所述多喷枪等离子处理装置包括主体1，所述主体1具有腔室且腔室内间隔设有两个喷枪2，所述喷枪2的两端分别设有接头21及喷嘴22，所述喷枪2具有所述接头21的一端伸出所述腔室外以便于将所述喷枪2与高压线及气管等接通，两个所述喷枪2可分别产生等离子体，所述主体1的一侧设有导流板3，所述导流板3上设有导流通道31且所述导流通道31分别与两个所述喷嘴22连通以将两个所述喷枪2中产生的等离子体集中，还包括分流板4，所述分流板4位于所述导流板3远离所述喷枪2的一面，且所述分流板4远离所述导流板3的一面外露于所述主体1，所述分流板4上设有与所述导流通道31连通的分流通道41及与所述分流通道41流通的出气口43，集中在所述导流通道31中的等离子体在所述分流通道41的引导下分别进入相应的出气口43中并喷出所述主体1外到达待处理产品的表面，使多喷枪等离子处理装置能够达到宽幅处理范围的同时将多个喷枪2产生的等离子体集中，有效防止因等离子体分散导致的处理效果不佳。

请结合图2和图6，在本实施例中，所述主体1包括第一壳体5及第二壳体6，所述第一壳体5与所述第二壳体6组合后围成所述腔室，且所述第一壳体5上设有第一卡块51，所述第二壳体6上设有第二卡块61，所述第一卡块51及所述第二卡块61分别具有与所述喷枪2的侧面贴合的曲面，所述第一壳体5与所述第二壳体6组装为一体后所述第一卡块51及所述第二卡块61分别从所述喷枪2的相对两侧夹持所述喷枪2以将所述喷枪2固定，使所述喷枪2在所述主体1上的位置保持稳定。

如图3和图5所示，所述喷枪2内还设有旋风轮24及电极25，所述旋风轮24与所述电极25靠近所述接头21的一端相连，从所述接头21处进入所述喷枪2的高压线与所述电极25电性连接，且所述旋风轮24上绕其轴向间隔设有多个孔，工作气体输入所述喷枪2后先穿过所述旋风轮24上的孔再与所述电极25作用产生等离子体，使工作气体均匀输入并与所述电极25充分作用以产生足量的等离子体。

请参照图2、图6和图7，为了加快所述多喷枪等离子处理装置散热，所述第一壳体5靠近所述第二壳体6的一面上设有第一容置槽52，所述第二壳体6靠近所述第一壳体5的一面上设有第二容置槽62，所述第一容置槽52及所述第二容置槽62分别与外界连通，所述第一壳体5与所述第二壳体6组合后所述第一容置槽52与所述第二容置槽62连通且所述第一容置槽52与所述第二容置槽62围成的空间内安装有风扇7，所述风扇7与所述第一壳体5或第二壳体6中的一个固定连接，所述风扇7转动时可将所述主体1内的热量吹出所述主体1外，以加速所述多喷枪等离子处理装置内的热量散失，确保安装于所述主体1内的所述喷枪2的温度保持在适宜的范围内使所述喷枪2运行稳定。

详细的，所述第一容置槽52的底面设有多个第一散热孔53，所述第一散热孔53贯穿所述第一壳体5以将所述第一容置槽52与外界环境连通，且多个所述第一散热孔53在所述第一壳体5上排列为矩阵，所述第二容置槽62的底面设有多个贯穿所述第二壳体6的第二散热孔63，所述第二散热孔63用于连通所述第二容置槽62与外界环境，多个所述第二散热孔63在所述第二壳体6上也排列为矩阵，所述主体1内的热量在所述风扇7的吹动下从所述第一散热孔53及所述第二散热孔63处排出所述主体1外，使所述主体1内的热量快速排出。

如图2和图7所示，所述第一壳体5远离所述第二壳体6的一面间隔设有多个第一散热槽54，每个所述第一散热槽54分别与排成一列的所述第一散热孔53连通，所述第二壳体6远离所述第一壳体5的一面间隔设有多个第二散热槽64，每个所述第二散热槽64分别与排成一列的所述第二散热孔63连通，设置所述第一散热槽54及所述第二散热槽64可增加所述第一壳体5及所述第二壳体6的表面积，以提升所述第一壳体5及所述第二壳体6传导热量的效率，进一步提升所述多喷枪等离子处理装置的散热效率。

请结合图3、图4和图8，所述导流通道31包括第一凹槽32及两个分别与所述第一凹槽32连通的通孔33，所述第一凹槽32位于所述导流板3靠近所述分流板4的一面，所述通孔33与所述喷嘴22一一对应配合以将所述喷枪2产生的等离子体全部引导至所述第一凹槽32中后再由所述分流板4引导喷出所述多喷枪等离子处理装置外，以将所述喷枪2产生的等离子体集中，避免等离子体分散导致等离子体到达产品表面后部分区域能量不足。

具体的，为了使所述喷枪2与所述导流板3紧密连接，所述通孔33的内周壁上设有第一螺纹部34，所述喷嘴22靠近所述导流板3的一端具有与所述第一螺纹部34相配合的第二螺纹部23，通过转动所述喷枪2使所述第一螺纹部34与所述第二螺纹部23咬合即可将所述喷枪2固定在所述导流板3上，同时使所述喷嘴22与所述导流板3之间的连接紧密，防止从所述喷嘴22处喷出的等离子体从所述喷嘴22与所述导流板3之间的间隙泄漏。

优选的，所述喷嘴22的内腔呈圆锥形，且所述喷嘴22的开口处的直径为6mm，以使所述喷枪2中的等离子体在所述喷嘴22处集中后再进入所述导流板3中，且所述通孔33的直径为6mm、深度为2mm，确保等离子体能够顺利通过所述通孔33并进入所述第一凹槽32中。

如图3、图4和图9所示，所述分流通道41包括第二凹槽42，所述第二凹槽42位于所述分流板4靠近所述导流板3的一面且所述出气口43分别与所述第二凹槽42连通，所述出气口43沿所述第二凹槽42的长度方向排成一列，且两个所述通孔33分别靠近所述第二凹槽42的相对两端设置，所述分流板4与所述导流板3组合后所述第二凹槽42与所述第一凹槽32连通，使所述第一凹槽32内的等离子体分别沿所述第二凹槽42进入各个所述出气口43以使所述多喷枪等离子处理装置能够连续稳定地喷出等离子体火焰。可选的，所述出气口43的直径为0.5mm。

详细的，为了使所述出气口43中喷出的等离子体火焰均匀分布，所述第二凹槽42的宽度沿其长度方向从中间向两边逐渐增大，且所述第二凹槽42的深度沿其长度方向从中间向两边逐渐减小，即将所述第二凹槽42设置为两边宽、中间窄以及两边浅、中间深的形状，且所述第二凹槽42两端最大宽度为6mm，使从靠近所述第二凹槽42两端的两个所述通孔33内进入的等离子体在距离所述通孔33越远的位置越集中，进而使从距离所述通孔33近的所述出气口43喷出的等离子体及从距离所述通孔33远的所述出气口43喷出的等离子的强度保持一致，确保从所述多喷枪等离子处理装置中喷出的火焰平整、分布均匀，以获得良好的处理效果。

综上所述，本实用新型提供的多喷枪等离子处理装置通过导流板上的导流通道引导多个喷枪产生的等离子体聚集并由分流板上的分流通道引导导流通道内的等离子体从各个出气口中喷出，使多喷枪等离子处理装置能够达到宽幅处理范围的同时将多个喷枪产生的等离子体集中，有效改善因等离子体分散导致的等离子体到达产品表面后能量减弱，满足大范围处理需求的同时增强多喷枪等离子处理装置的处理效果；多喷枪等离子处理装置采用在主体内设置风扇，并在主体上设置第一散热孔、第一散热槽、第二散热孔及第二散热槽的方式提高多喷枪等离子处理装置的散热效率，使喷枪激发工作气体时产生的热量能够快速排出主体外，确保喷枪能够在适宜的温度范围内运行；多喷枪等离子处理装置的分流板上的第二凹槽采用两边宽、中间窄以及两边浅、中间深的形状，使从各个出气口内喷出的等离子体均匀分布，以确保获得良好的处理效果。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种多喷枪等离子处理装置，其特征在于：包括主体，主体具有腔室且腔室内间隔设有至少两个喷枪，喷枪的相对两端分别设有接头及喷嘴且接头伸出腔室外，还包括层叠设置的导流板及分流板，导流板上设有分别与喷嘴连通的导流通道，分流板上设有与导流通道连通的分流通道及与分流通道连通的出气口。

2.根据权利要求1所述的多喷枪等离子处理装置，其特征在于：所述主体包括相配合的第一壳体及第二壳体，所述第一壳体上设有与所述喷枪的侧面贴合的第一卡块，所述第二壳体上设有与所述喷枪的侧面贴合的第二卡块，所述第一卡块及所述第二卡块分别从所述喷枪的相对两侧夹持所述喷枪。

3.根据权利要求2所述的多喷枪等离子处理装置，其特征在于：所述第一壳体靠近所述第二壳体的一面上设有与外界连通的第一容置槽，所述第二壳体上设有与所述第一容置槽连通的第二容置槽且所述第二容置槽与外界连通，所述第一容置槽及所述第二容置槽围成的空间内设有风扇。

4.根据权利要求3所述的多喷枪等离子处理装置，其特征在于：所述第一容置槽的底面设有多个第一散热孔且所述第一散热孔贯穿所述第一壳体，所述第二容置槽的底面设有多个第二散热孔且所述第二散热孔贯穿所述第二壳体。

5.根据权利要求4所述的多喷枪等离子处理装置，其特征在于：所述第一壳体远离所述第二壳体的一面间隔设有多个第一散热槽，每个所述第一散热槽分别与部分所述第一散热孔连通，所述第二壳体远离所述第一壳体的一面间隔设有多个第二散热槽，每个所述第二散热槽分别与部分所述第二散热孔连通。

6.根据权利要求1所述的多喷枪等离子处理装置，其特征在于：所述导流通道包括设置在所述导流板靠近所述分流板的一面上的第一凹槽及多个通孔，所述通孔分别与所述第一凹槽连通且所述通孔分别与所述喷嘴一一对应配合。

7.根据权利要求6所述的多喷枪等离子处理装置，其特征在于：所述通孔的内周壁上设有第一螺纹部，所述喷嘴靠近所述导流板的一端具有与所述第一螺纹部相配合的第二螺纹部。

8.根据权利要求6所述的多喷枪等离子处理装置，其特征在于：所述分流通道包括第二凹槽，所述第二凹槽设置在所述分流板靠近所述导流板的一面上且所述出气口分别与所述第二凹槽连通。

9.根据权利要求8所述的多喷枪等离子处理装置，其特征在于：所述第二凹槽的宽度沿其长度方向从中间向两边逐渐增大，且所述第二凹槽的深度沿其长度方向从中间向两边逐渐减小。

10.根据权利要求8所述的多喷枪等离子处理装置，其特征在于：所述出气口沿所述第二凹槽的长度方向排成一列。

Images