CN217517017U - 一种具有自动加热装置的新型镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,包括真空罩与基台,基台的台面上可拆卸的密封扣合安装有真空罩,基台的内部设置有蒸发源,基台的上部安装有可升降调节的蒸发盘,蒸发盘的侧部安装有蒸发加热圈,蒸发盘的底部安装有蒸发加热板。本实用在蒸发源的金属气体自进料管通向蒸发盘时,采用蒸发加热圈与蒸发加热板配合对蒸发盘进行加热,侧面与底面的共同加热使得蒸发盘可获得均匀有效的温度传导,使得蒸发源出来的金属气体保持合适的温度以进行有效的镀膜;同时设置可进行升降的蒸发盘,对蒸发盘的高度进行调整,从而适应不同的工件镀膜场景,使得本新型镀膜装置获得更好的适用性。
Description
技术领域
本实用新型涉及自动加热镀膜技术领域,具体为一种具有自动加热装置的新型镀膜装置。
背景技术
镀膜是利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。现有技术中金属蒸发真空镀膜方式中镀膜金属材料在蒸发源处变为金属蒸气,随后经过蒸发盘发生为向上的金属蒸气,从而对上方的工件进行镀膜,然而从蒸发源处到蒸发盘的过程,金属蒸气的温度会发生变化,则会对实际的金属镀膜效果产生影响,因此我们需要提出一种具有自动加热装置的新型镀膜装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,包括真空罩与基台,所述基台的台面上可拆卸的密封扣合安装有真空罩,所述基台的内部设置有蒸发源,所述基台的上部安装有可升降调节的蒸发盘,所述蒸发盘的侧部安装有蒸发加热圈,所述蒸发盘的底部安装有蒸发加热板;
所述基台上插接安装有进料管,所述蒸发盘的底部一体成型有进料通道,所述进料管密封插接于进料通道中,所述基台上安装有支撑架,所述支撑架的顶部通过滑轨安装有可水平调节的镀膜工件,所述镀膜工件位于蒸发盘的正上方,所述镀膜工件和蒸发盘均位于真空罩的内部。
优选的,所述真空罩的底部与基台之间设置有真空密封件,所述真空罩的内部设置有真空抽气组件。
优选的,所述滑轨安装于支撑架的顶部底端,所述镀膜工件可拆卸的设置于滑轨的滑块上,所述滑轨的滑块上安装有用于镀膜工件加热的工件加热器。
优选的,所述基台上安装有至少两组步进式的电动伸缩推杆,所述蒸发盘安装于两组电动伸缩推杆的活塞杆上。
优选的,所述进料管的顶部外侧设置有密封圈,所述进料管通过密封圈密封插接于进料通道中。
优选的,所述蒸发加热圈的顶部固定连接有固定圈,所述蒸发加热圈通过固定圈安装于蒸发盘上,所述蒸发加热板上开设有用于让位进料管的让位孔。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
通过蒸发盘、蒸发加热圈、蒸发加热板、进料管与密封圈等结构的设计,在蒸发源的金属气体自进料管通向蒸发盘时,采用蒸发加热圈与蒸发加热板配合对蒸发盘进行加热,侧面与底面的共同加热使得蒸发盘可获得均匀有效的温度传导,使得蒸发源出来的金属气体保持合适的温度以进行有效的镀膜;同时设置可进行升降的蒸发盘,可根据工件的形状大小、镀膜位置或者方式对蒸发盘的高度进行调整,从而适应不同的工件镀膜场景,使得本新型镀膜装置获得更好的适用性。
本实用新型的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点可通过在说明书以及附图中所指出的结构来实现和获得。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型图1中A处的放大结构示意图;
图3为本实用新型蒸发加热结构和进料管等结构的示意图。
图中:1、真空罩;2、基台;3、支撑架;4、滑轨;5、工件加热器;6、镀膜工件;7、蒸发盘;8、蒸发加热圈;9、蒸发加热板;10、蒸发源;11、电动伸缩推杆;12、进料管;13、进料通道;14、密封圈;15、让位孔;16、固定圈。
具体实施方式
在不同附图中以相同标号来标示相同或类似组件;另外请了解文中诸如“第一”、“第二”、“第三”、“上”、“下”、“前”、“后”、“内”、“外”、“端”、“部”、“段”、“宽度”、“厚度”、“区”等等及类似用语仅便于看图者参考图中构造以及仅用于帮助描述本实用新型而已,并非是对本实用新型的限定。
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3,本实用新型提供的实施例:
一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,包括真空罩1与基台2,所述基台2的台面上可拆卸的密封扣合安装有真空罩1,所述基台2的内部设置有蒸发源10,所述基台2的上部安装有可升降调节的蒸发盘7,所述蒸发盘7的侧部安装有蒸发加热圈8,所述蒸发盘7的底部安装有蒸发加热板9;
所述基台2上插接安装有进料管12,所述蒸发盘7的底部一体成型有进料通道13,所述进料管12密封插接于进料通道13中,所述基台2上安装有支撑架3,所述支撑架3的顶部通过滑轨4安装有可水平调节的镀膜工件6,所述镀膜工件6位于蒸发盘7的正上方,所述镀膜工件6和蒸发盘7均位于真空罩1的内部;所述真空罩1的底部与基台2之间设置有真空密封件,所述真空罩1的内部设置有真空抽气组件。
所述滑轨4安装于支撑架3的顶部底端,所述镀膜工件6可拆卸的设置于滑轨4的滑块上,所述滑轨4的滑块上安装有用于镀膜工件6加热的工件加热器5;所述基台2上安装有至少两组步进式的电动伸缩推杆11,所述蒸发盘7安装于两组电动伸缩推杆11的活塞杆上。
新型镀膜装置在实际使用时,通过蒸发盘7、蒸发加热圈8、蒸发加热板9、进料管12与密封圈14等结构的设计,在蒸发源10的金属气体自进料管12通向蒸发盘7时,采用蒸发加热圈8与蒸发加热板9配合对蒸发盘7进行加热,侧面与底面的共同加热使得蒸发盘7可获得均匀有效的温度传导,使得蒸发源10出来的金属气体保持合适的温度以进行有效的镀膜;同时设置可进行升降的蒸发盘7,可根据工件的形状大小、镀膜位置或者方式对蒸发盘7的高度进行调整,从而适应不同的工件镀膜场景,使得本新型镀膜装置获得更好的适用性。
所述进料管12的顶部外侧设置有密封圈14,所述进料管12通过密封圈14密封插接于进料通道13中;所述蒸发加热圈8的顶部固定连接有固定圈16,所述蒸发加热圈8通过固定圈16安装于蒸发盘7上,所述蒸发加热板9上开设有用于让位进料管12的让位孔15。
本申请文件的控制方式是通过控制器来自动控制,控制器的控制电路通过本领域的技术人员简单编程即可实现,属于本领域的公知常识,并且本申请文件主要用来保护机械装置,所以本申请文件不再详细解释控制方式和电路连接,该装置通过内置电源或者外置电源进行供电。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,包括真空罩(1)与基台(2),其特征在于:所述基台(2)的台面上可拆卸的密封扣合安装有真空罩(1),所述基台(2)的内部设置有蒸发源(10),所述基台(2)的上部安装有可升降调节的蒸发盘(7),所述蒸发盘(7)的侧部安装有蒸发加热圈(8),所述蒸发盘(7)的底部安装有蒸发加热板(9);
所述基台(2)上插接安装有进料管(12),所述蒸发盘(7)的底部一体成型有进料通道(13),所述进料管(12)密封插接于进料通道(13)中,所述基台(2)上安装有支撑架(3),所述支撑架(3)的顶部通过滑轨(4)安装有可水平调节的镀膜工件(6),所述镀膜工件(6)位于蒸发盘(7)的正上方,所述镀膜工件(6)和蒸发盘(7)均位于真空罩(1)的内部。
2.根据权利要求1所述的一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,其特征在于:所述真空罩(1)的底部与基台(2)之间设置有真空密封件,所述真空罩(1)的内部设置有真空抽气组件。
3.根据权利要求1所述的一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,其特征在于:所述滑轨(4)安装于支撑架(3)的顶部底端,所述镀膜工件(6)可拆卸的设置于滑轨(4)的滑块上,所述滑轨(4)的滑块上安装有用于镀膜工件(6)加热的工件加热器(5)。
4.根据权利要求1所述的一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,其特征在于:所述基台(2)上安装有至少两组步进式的电动伸缩推杆(11),所述蒸发盘(7)安装于两组电动伸缩推杆(11)的活塞杆上。
5.根据权利要求1所述的一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,其特征在于:所述进料管(12)的顶部外侧设置有密封圈(14),所述进料管(12)通过密封圈(14)密封插接于进料通道(13)中。
6.根据权利要求1所述的一种具有自动加热装置的新型镀膜装置,其特征在于:所述蒸发加热圈(8)的顶部固定连接有固定圈(16),所述蒸发加热圈(8)通过固定圈(16)安装于蒸发盘(7)上,所述蒸发加热板(9)上开设有用于让位进料管(12)的让位孔(15)。
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CN202220912001.3U Active CN217517017U (zh) | 2022-04-19 | 2022-04-19 | 一种具有自动加热装置的新型镀膜装置 |
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- 2022-04-19 CN CN202220912001.3U patent/CN217517017U/zh active Active
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