CN217479595U - 一种晶体硅应力释放设备的输送结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种晶体硅应力释放设备的输送结构，涉及晶体硅的输送技术领域，用于解决现有技术中晶体硅输送机构的结构较为复杂，制造成本高的问题，本实用新型包括炉体，所述炉体的一端下部安装有输送电机，所述输送电机的电机轴上安装有主动链轮，所述炉体的另一端下部通过转轴安装有从动链轮，所述主动链轮和从动链轮间安装有链条，所述链条上安装有多个推动块，所述炉体内安装有可与推动块接触的托架，所述托架与炉体间安装有滑动机构。本实用新型通过上述技术方案可以更加便于对晶体硅进行输送，同时该输送机构只需要一个输送电机和一条链条，不需要多个滚轮，从而极大的简化了该输送机构的结构，降低了相应的制造成本。

Description

一种晶体硅应力释放设备的输送结构

技术领域

本实用新型涉及晶体硅的输送技术领域，更具体的是涉及一种晶体硅应力释放设备的输送结构。

背景技术

目前国内多晶硅、单晶硅行业大多采用简单的人工破碎，人工破碎存在许多弊端，例如产品质量不稳定，易产生非硅，生产效率低，占用面积大，人工成本高、防护用品消耗大，随着机械破碎技术的成熟，从而取代人工破碎，机械破碎虽然效率高，占用人工少，但晶体硅未进行应力释放时，采用机械破碎会产生较大的硅粉料占比，通常是传统人工破碎的三倍，造成硅料的损耗，所以急需一种能对晶体硅破碎前进行应力释放的设备。

现有技术中对晶体硅破碎前进行应力释放的设备包括上料机构、真空箱、加热炉、后段转运室、第一水箱和输送机构，上料机构用于将待破碎的多晶硅从上料台送入真空箱内；输送机构用于将多晶硅从真空箱送入加热炉内，且用于将加热炉内的多晶硅送入第一水箱；真空箱上与上料机构靠近的位置设置有上料门，真空箱上与加热炉连接的位置设置有可开闭的前段炉门，上料门打开则允许上料机构上料，前段炉门打开则允许输送机构将多晶硅送入加热炉内，上料门和前段炉门关闭则真空箱形成密封空间；加热炉用于对多晶硅进行加热，加热炉上与后段转运室连接的位置设置有后段炉门，前段炉门和后段炉门关闭则加热炉形成封闭空间；第一水箱用于盛放冷却水，且位于后段转运室的下方，该设备通过步进输送机构将晶体硅送入加热炉内加热后，再通过冷却水进行快速冷却，这样即可释放晶体硅的应力。

但是，上述晶体硅应力释放设备的输送机构包括安装在炉体下部两边且沿其长度方向设置的多个电机和链轮，相对的两个链轮间安装有滚筒，通过多个链条将多个链轮依次连接起来，再通过多个电机分段式的带动多个链条和链轮旋转，链轮再带动承载有晶体硅的托架移动，从而完成对晶体硅的输送。但是，上述输送机构包括多个电机、多个链轮、多个链条和多个滚筒，这样使得该输送机构较为复杂、制造成本高，以及不便于对晶体硅进行输送。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：为了解决现有技术中晶体硅输送机构的结构较为复杂，制造成本高，不便于对晶体硅进行输送的问题，本实用新型提供一种晶体硅应力释放设备的输送结构，以减化晶体硅输送机构的结构，降低其制造成本，同时更便于对晶体硅进行输送。

本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案：

一种晶体硅应力释放设备的输送结构，包括炉体，所述炉体的一端下部安装有输送电机，所述输送电机的电机轴上安装有主动链轮，所述炉体的另一端下部通过转轴安装有从动链轮，所述主动链轮和从动链轮间安装有链条，所述链条上安装有多个推动块，所述炉体内安装有可与推动块接触的托架，所述托架与炉体间安装有滑动机构。

滑动机构的优选结构为：所述滑动机构包括安装在炉体内底面且沿其长度方向设置的多个第一滑轨，所述托架的底面安装有多个滑轮，所述滑轮位于第一滑轨上。

优选的，所述托架的顶面安装有多组放置组件，每组所述放置组件包括相对设置的两个放置块，两个所述放置块间形成V形放置槽。

进一步的，所述炉体的两端均安装有提升机构，所述提升机构包括安装在炉体上的两个架体，两个所述架体上均安装有位于竖直方向的提升杆，两个所述提升杆的上端安装有同一连接梁，两个所述提升杆的下端连接有同一提升梁，所述提升梁的顶面安装有与多个第一滑轨一一对应的多个第二滑轨，所述炉体上安装有与连接梁连接的提升动力组件。

优选的，所述提升动力组件包括安装在炉体上的提升电机，所述提升电机的电机轴上安装有穿过架体的传动轴，所述传动轴的两端均安装有涡轮，所述连接梁的底面两端均安装有与涡轮啮合的蜗杆。

优选的，所述架体内安装有两个滚轮，所述提升杆位于两个滚轮间，且均与两个滚轮接触。

本实用新型的有益效果如下：

(1)本实用新型中输送电机旋转带动主动链轮旋转，主动链轮再带动链条和从动链轮旋转，推动块随着链条移动，推动块再推动托架和晶体硅沿着滑动机构移动，从而可以更加便于对晶体硅进行输送，同时该输送机构只需要一个输送电机和一条链条，不需要多个滚轮，从而极大的简化了该输送机构的结构，降低了相应的制造成本，更加便于对晶体硅的输送。

(2)本实用新型中当推动块推动托架移动时，托架底面的滑轮会在第一滑轨上滑动，而第一滑轨巧妙的设计在炉体内的底面，从而可以更大程度的利用相关零部件，进而可以更大程度的简化该输送机构的结构，以及更加便于对晶体硅的输送。

(3)本实用新型中架体内安装有两个滚轮，提升杆位于两个滚轮间，且均与两个滚轮接触，当提升杆上下移动时会带动两个滚轮旋转，两个滚轮与提升杆间滑动接触，从而可以减少提升杆的磨损，同时也可以对提升杆起到限位的作用。

(4)本实用新型中将晶体硅放置在两个放置块间的V形放置槽内，这样可以使晶体硅的放置更加稳定，从而可以减少晶体硅在上料时掉落的风险。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构简图；

图2为本实用新型除去炉体的立体结构简图；

图3为本实用新型炉体的局部立体结构简图；

图4为本实用新型托架的局部立体结构简图；

图5为本实用新型图2中A处的放大示意图；

图6为本实用新型提升机构的立体结构简图；

图7为本实用新型提升梁的立体结构简图；

附图标记：1输送电机，2炉体，3提升机构，4推动块，5从动链轮，6链条，7托架，8第一滑轨，9滑轮，10放置块，11V形放置槽，12提升电机，13涡轮，14蜗杆，15连接梁，16滚轮，17架体，18传动轴，19第二滑轨，20提升梁，21提升杆。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

实施例1

如图1-图2所示，本实施例提供一种晶体硅应力释放设备的输送结构，包括炉体2，炉体2的一端下部安装有输送电机1，输送电机1的电机轴上安装有主动链轮，炉体2的另一端下部通过转轴安装有从动链轮5，主动链轮和从动链轮5间安装有链条6，链条6上安装有多个推动块4，炉体2内安装有可与推动块4接触的托架7，托架7与炉体2间安装有滑动机构。

工作原理：当需要对晶体硅进行输送时，将晶体硅放置在托架7上，然后为常规的输送电机1通电，输送电机1通电后带动主动链轮旋转，主动链轮再带动链条6和从动链轮5旋转，推动块4随着链条6移动，推动块4再推动托架7和晶体硅沿着滑动机构移动，从而可以更加便于对晶体硅进行输送，同时该输送机构只需要一个输送电机1和一条链条6，不需要多个滚轮16，从而极大的简化了该输送机构的结构，并降低了相应的制造成本，以及更加便于对晶体硅的输送。

实施例2

如图1-图7所示，在上述实施例1的基础上，本实施例给出了滑动机构的优选结构为：滑动机构包括安装在炉体2内底面且沿其长度方向设置的多个第一滑轨8，托架7的底面安装有多个滑轮9，滑轮9位于第一滑轨8上。

工作原理：当推动块4推动托架7移动时，托架7底面的滑轮9会在第一滑轨8上滑动，而第一滑轨8巧妙的设计在炉体2内的底面，从而可以更大程度的利用相关零部件，进而可以更大程度的简化该输送机构的结构，以及更加便于对晶体硅的输送，其中第一滑轨8可以做成向下的凹形机构，或者向上的凸起机构，总之便于滑轮9在第一滑轨8上滑动即可。

优选的，托架7的顶面安装有多组放置组件，每组放置组件包括相对设置的两个放置块10，两个放置块10间形成V形放置槽11，将晶体硅放置在两个放置块10间的V形放置槽11内，这样可以使晶体硅的放置更加稳定，从而可以减少晶体硅在上料时掉落的风险。

实施例3

如图1和图6所示，在上述实施例1的基础上，本实施例给出了便于提升晶体硅的优选结构为：炉体2的两端均安装有提升机构3，提升机构3包括安装在炉体2上的两个架体17，两个架体17上均安装有位于竖直方向的提升杆21，两个提升杆21的上端安装有同一连接梁15，两个提升杆21的下端连接有同一提升梁20，提升梁20的顶面安装有与多个第一滑轨8一一对应的多个第二滑轨19，炉体2上安装有与连接梁15连接的提升动力组件，提升动力组件包括安装在炉体2上的提升电机12，提升电机12的电机轴上安装有穿过架体17的传动轴18，传动轴18的两端均安装有涡轮13，连接梁15的底面两端均安装有与涡轮13啮合的蜗杆14。

本实施例中：在炉体2的两端均设置提升机构3是为了便于将高处的带晶体硅的托架7运到链条6处，以及便于将链条6处的带晶体硅的托架7提升到高处；对带晶体硅的托架7进行提升时，通过链条6带动托架7到达炉体2一端的提升机构3处，由于提升梁20的顶面安装有与多个第一滑轨8一一对应的多个第二滑轨19，因此位于第一滑轨8上的托架7在惯性的作用下，会直接滑动到第二滑轨19上，当托架7滑动到第二滑轨19上后，为常规的提升电机12通电，提升电机12通电后带动传动轴18旋转，传动轴18再同时带动两个涡轮13旋转，由于涡轮13与蜗杆14啮合，所以涡杆旋转的时候会在竖直方向向上移动，当蜗杆14向上移动的时候会带动连接梁15向上移动，连接梁15再依次带动提升杆21和提升梁20向上移动，提升梁20再将位于托架7上的晶体硅提升到高处；当带晶体硅的托架7位于炉体2另一端的提升机构3上，并需要从高度下降到链条6处时，通过常规的方式控制该处的提升电机12反向旋转，依据上述原理蜗杆14会向下移动，并依次带动连接梁15、提升杆21、提升梁20和带晶体硅的托架7向下移动，当托架7移动到与链条6接触时，链条6会将托架7带动到第一滑轨8上，再由推动块4推动托架7；因此，通过在炉体2的两端分别设置该提升机构3，可以更加方便、高效的使带晶体硅的托架7上升或下降。

优选的，架体17内安装有两个滚轮16，提升杆21位于两个滚轮16间，且均与两个滚轮16接触，当提升杆21上下移动时会带动两个滚轮16旋转，两个滚轮16与提升杆21间滑动接触，从而可以减少提升杆21的磨损，同时也可以对提升杆21起到限位的作用。

Claims (7)

1.一种晶体硅应力释放设备的输送结构，包括炉体(2)，所述炉体(2)的一端下部安装有输送电机(1)，所述输送电机(1)的电机轴上安装有主动链轮，其特征在于：所述炉体(2)的另一端下部通过转轴安装有从动链轮(5)，所述主动链轮和从动链轮(5)间安装有链条(6)，所述链条(6)上安装有多个推动块(4)，所述炉体(2)内安装有可与推动块(4)接触的托架(7)，所述托架(7)与炉体(2)间安装有滑动机构。

2.根据权利要求1所述的一种晶体硅应力释放设备的输送结构，其特征在于：所述滑动机构包括安装在炉体(2)内底面且沿其长度方向设置的多个第一滑轨(8)，所述托架(7)的底面安装有多个滑轮(9)，所述滑轮(9)位于第一滑轨(8)上。

3.根据权利要求1所述的一种晶体硅应力释放设备的输送结构，其特征在于：所述托架(7)的顶面安装有多组放置组件，每组所述放置组件包括相对设置的两个放置块(10)，两个所述放置块(10)间形成V形放置槽(11)。

4.根据权利要求2所述的一种晶体硅应力释放设备的输送结构，其特征在于：所述炉体(2)的两端均安装有提升机构(3)。

5.根据权利要求4所述的一种晶体硅应力释放设备的输送结构，其特征在于：所述提升机构(3)包括安装在炉体(2)上的两个架体(17)，两个所述架体(17)上均安装有位于竖直方向的提升杆(21)，两个所述提升杆(21)的上端安装有同一连接梁(15)，两个所述提升杆(21)的下端连接有同一提升梁(20)，所述提升梁(20)的顶面安装有与多个第一滑轨(8)一一对应的多个第二滑轨(19)，所述炉体(2)上安装有与连接梁(15)连接的提升动力组件。

6.根据权利要求5所述的一种晶体硅应力释放设备的输送结构，其特征在于：所述提升动力组件包括安装在炉体(2)上的提升电机(12)，所述提升电机(12)的电机轴上安装有穿过架体(17)的传动轴(18)，所述传动轴(18)的两端均安装有涡轮(13)，所述连接梁(15)的底面两端均安装有与涡轮(13)啮合的蜗杆(14)。

7.根据权利要求5所述的一种晶体硅应力释放设备的输送结构，其特征在于：所述架体(17)内安装有两个滚轮(16)，所述提升杆(21)位于两个滚轮(16)间，且均与两个滚轮(16)接触。

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