CN217449932U - 一种硅晶圆研磨液供料系统 - Google Patents
一种硅晶圆研磨液供料系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN217449932U CN217449932U CN202220889253.9U CN202220889253U CN217449932U CN 217449932 U CN217449932 U CN 217449932U CN 202220889253 U CN202220889253 U CN 202220889253U CN 217449932 U CN217449932 U CN 217449932U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pipeline
- silicon wafer
- pump
- storage bucket
- former
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种硅晶圆研磨液供料系统，涉及硅晶圆加工设备技术领域，包括原料支撑台和主体支撑台，原料支撑台上放置有第一原料桶和第二原料桶，主体支撑台上安装有搅拌桶和中转桶，搅拌桶的上端有两个原料泵，原料泵分别与第一原料桶和第二原料桶连通，搅拌桶的下方通过管道连接有中转泵，中转泵的出口端通过管道与中转桶的上方连通，中转桶的下端通过管道连接有输出泵，输出泵的出口管道上设有换热器。本实用新型可保证供液的过程中温度保持在合理的范围内，可周期性清洗，可精确快速的提供混合好的研磨液，整体设计紧凑集成度高，方便移动，混合效率高，温度保持和供料都非常精确，非常适合在本行业推广使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅晶圆加工设备技术领域，具体为一种硅晶圆研磨液供料系统。
背景技术
随着科技的进步，智能化的不断发展，越来越多的地方都需要使用芯片，芯片的每一步的工艺要求都是非常高的，其中的一个工艺步骤是需要将硅晶圆进行研磨，达到需要的标准等级，而CMP研磨液(Slurry)是平坦化工艺中的研磨材料和化学添加剂的混合物，Slurry主要是由研磨剂(Abrasive)、表面活性剂、PH缓冲胶、氧化剂和防腐剂等成分组成，其他添加剂一般根据所需研磨材料不同而所选取的不同类型的研磨液，由此可分为晶圆表面研磨液、金属铜研磨液和金属钨研磨液以及其他特殊研磨液。针对硅晶圆的研磨加工，我公司技术人员针对客户的需求设计了一种专用的研磨液供料系统，具有混合效率高，整体设计紧凑，制造成本低的特点，移动性强。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种硅晶圆研磨液供料系统，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅晶圆研磨液供料系统，包括原料支撑台和主体支撑台，所述原料支撑台上放置有第一原料桶和第二原料桶，所述主体支撑台上安装有搅拌桶(搅拌桶上方设有现成的搅拌器)和中转桶(只是将混合好的研磨液中转使用，可根据情况打入纯水混合比例然后在进行供液)，所述搅拌桶的上端通过管道连接有两个原料泵，两个原料泵的入口端分别通过管道与第一原料桶和第二原料桶连通，搅拌桶的下方通过管道连接有中转泵，所述中转泵的出口端通过管道与中转桶的上方连通，所述中转桶的下端通过管道连接有输出泵，所述输出泵的出口管道上设有换热器。
进一步的：所述换热器的换热端上下部分别连接在冷却液入口管路和冷却液出口管路上，并且换热器的出口端管道上依次安装有过滤器、流量计和电导率传感器，并且过滤器的左右两侧都安装有压力传感器。
进一步的：所述冷却液入口管路和冷却液出口管路之间设有氮气供气管路，所述氮气供气管路中部安装有氮气罐，所述氮气罐的出口处通过管道分别连接在第一原液桶、第二原液桶、搅拌桶和中转桶的曝气管，可轻度的调节混合液中的水分。
进一步的：所述冷却液入口管路的上端设有纯水管路，并且纯水管路分别通过管道与搅拌桶、中转桶和过滤器的上端连接，左侧末端的纯水管路设有手持清洗枪，纯水管路有两个作用一个是对搅拌的时候提供纯水还可以对后期的维护进行清洗操作。
进一步的：所述原料支撑台和主体支撑台的下方都安装有万向轮和可调支撑柱，所述第一原料桶和第二原料桶下方都设有电子秤，并且电子秤的上端均匀分布有阻尼式的导向轮，导向轮对放置原料桶更加方便。
优选的：所述原料泵和中转泵采用隔膜泵，所述输出泵采用磁力泵。
优选的：所述原料支撑台和主体支撑台上方都设有外壳框架，侧方都设有检修门，主体支撑台上的外壳框架的右侧设有工业控制电脑，所有的电气部件都与工业控制电脑电性联通。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型设计有两个原液桶、搅拌罐和中转罐，为了保持一定的低温增加了氮气罐和换热器，保证的搅拌和中转放置以及的供液的过程中温度保持在合理的范围内，关键部件的上端设计增加纯水管道，可提供纯水还可周期性清洗，通过各个泵的控制可精确快速的提供混合好的研磨液，整体设计紧凑集成度高下方设有轮子可方便移动，并且混合效率高，温度保持和供料都非常精确，非常适合在本行业推广使用。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型正视图；
图3为本实用新型原理图；
图4为本实用新型状态图；
图5为A处放大示意图；
图6为B处放大示意图；
图7为本实用新型整体外观图。
图中：1、原料支撑台，2、第一原料桶，3、第二原料桶，4、主体支撑台，5、原料泵，6、搅拌桶，7、中转泵，8、中转桶，9、输出泵，10、氮气罐，11、换热器，12、过滤器，13、纯水管路，14、冷却液入口管路，15、氮气供气管路，16、冷却液出口管路，17、输出管路，18、流量计，19、电导率传感器，20、万向轮，21、可调支撑柱，22、电子秤，23、导向轮，24、外壳框架，25、工业控制电脑。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，以下基于实施例对本实用新型进行描述，但是值得说明的是，本实用新型并不限于这些实施例，在下文对本实用新型的细节描述中，详尽描述了一些特定的细节部分，然而，对于没有详尽描述的部分，本领域技术人员也可以完全理解本实用新型。
此外，本领域普通技术人员应当理解，所提供的附图只是为了说明本实用新型的目的、特征和优点，附图并不是实际按照比例绘制的。
同时，除非上下文明确要求，否则整个说明书和权利要求书中的“包括”、“包含”等类似词语应当解释为包含的含义而不是排他或穷举的含义；也就是说，是“包含但不限于”的含义。
请参阅图1-图7，本实用新型提供一种技术方案：包括原料支撑台1和主体支撑台4，所述原料支撑台1上放置有第一原料桶2和第二原料桶3，所述主体支撑台4上安装有搅拌桶6和中转桶8，所述搅拌桶6的上端通过管道连接有两个原料泵5，两个原料泵5的入口端分别通过管道与第一原料桶2和第二原料桶3连通，搅拌桶6的下方通过管道连接有中转泵7，所述中转泵7的出口端通过管道与中转桶8的上方连通，所述中转桶8的下端通过管道连接有输出泵9，所述输出泵9的出口管道上设有换热器11。
所述换热器11的换热端上下部分别连接在冷却液入口管路14和冷却液出口管路16上，并且换热器11的出口端管道上依次安装有过滤器12、流量计18和电导率传感器19，并且过滤器12的左右两侧都安装有压力传感器。
所述冷却液入口管路14和冷却液出口管路16之间设有氮气供气管路15，所述氮气供气管路15中部安装有氮气罐10，所述氮气罐10的出口处通过管道分别连接在第一原液桶2、第二原液桶3、搅拌桶6和中转桶8的曝气管。
所述冷却液入口管路14的上端设有纯水管路13，并且纯水管路13分别通过管道与搅拌桶6、中转桶8和过滤器12的上端连接，左侧末端的纯水管路13设有手持清洗枪。
所述原料支撑台1和主体支撑台4的下方都安装有万向轮20和可调支撑柱21，所述第一原料桶2和第二原料桶3下方都设有电子秤22，并且电子秤22的上端均匀分布有阻尼式的导向轮23。
所述原料泵5和中转泵7采用隔膜泵，所述输出泵9采用磁力泵。
所述原料支撑台1和主体支撑台4上方都设有外壳框架24，侧方都设有检修门，主体支撑台4上的外壳框架24的右侧设有工业控制电脑25，所有的电气部件都与工业控制电脑25电性联通。
在使用本实用新型时，首先将第一原料桶2和第二原料桶3装满原液，根据自己研究的配方比例输入到工业控制电脑25中，然后会自动的控制两个原料泵5的供液情况，纯水管路13通过电磁阀和流量计的控制对搅拌桶6加入定量纯水，通过管路输入到搅拌桶6中，然后搅拌桶6上设有的搅拌器进行搅拌工作，一定时间之后通过中转泵7打入到中转桶8中等待供料，通过中转桶8下方的输出泵进行供液操作，为了保持一定的温度因此增加了一个换热器11对供出的研磨液提供一定的温度保持，防止有大颗粒的杂质的出现增加过滤器12，有效的监控研磨液的参数值增加流量计18和电导率传感器19，如果需要改变电导率可通过纯水管路13利用电磁阀对搅拌桶6增加纯水即可，如果需要减少混合液的水分可通入干燥的氮气即可,可“吹干”混合液中的水分，整个过程由工业控制电脑25可实现命令的输出，调节好的研磨液通过输出管路17可到达工位进行下一步的操作，整个原理可通过图3可知晓，为了提高效率输出管路17的输出末端采用多个出口，并且每个管道上都安装有电磁阀，可实现多路输出的操作，实现高效的目的。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：包括原料支撑台(1)和主体支撑台(4)，所述原料支撑台(1)上放置有第一原料桶(2)和第二原料桶(3)，所述主体支撑台(4)上安装有搅拌桶(6)和中转桶(8)，所述搅拌桶(6)的上端通过管道连接有两个原料泵(5)，两个原料泵(5)的入口端分别通过管道与第一原料桶(2)和第二原料桶(3)连通，搅拌桶(6)的下方通过管道连接有中转泵(7)，所述中转泵(7)的出口端通过管道与中转桶(8)的上方连通，所述中转桶(8)的下端通过管道连接有输出泵(9)，所述输出泵(9)的出口管道上设有换热器(11)。
2.根据权利要求1所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述换热器(11)的换热端上下部分别连接在冷却液入口管路(14)和冷却液出口管路(16)上，并且换热器(11)的出口端管道上依次安装有过滤器(12)、流量计(18)和电导率传感器(19)，并且过滤器(12)的左右两侧都安装有压力传感器。
3.根据权利要求2所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述冷却液入口管路(14)和冷却液出口管路(16)之间设有氮气供气管路(15)，所述氮气供气管路(15)中部安装有氮气罐(10)，所述氮气罐(10)的出口处通过管道分别连接在第一原料桶(2)、第二原料桶(3)、搅拌桶(6)和中转桶(8)的曝气管上。
4.根据权利要求3所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述冷却液入口管路(14)的上端设有纯水管路(13)，并且纯水管路(13)分别通过管道与搅拌桶(6)、中转桶(8)和过滤器(12)的上端连接，左侧末端的纯水管路(13)设有手持清洗枪。
5.根据权利要求1所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述原料支撑台(1)和主体支撑台(4)的下方都安装有万向轮(20)和可调支撑柱(21)，所述第一原料桶(2)和第二原料桶(3)下方都设有电子秤(22)，并且电子秤(22)的上端均匀分布有阻尼式的导向轮(23)。
6.根据权利要求1所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述原料泵(5)和中转泵(7)采用隔膜泵，所述输出泵(9)采用磁力泵。
7.根据权利要求1所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述原料支撑台(1)和主体支撑台(4)上方都设有外壳框架(24)，侧方都设有检修门，主体支撑台(4)上的外壳框架(24)的右侧设有工业控制电脑(25)，所有的电气部件都与工业控制电脑(25)电性联通。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202220889253.9U CN217449932U (zh) | 2022-04-18 | 2022-04-18 | 一种硅晶圆研磨液供料系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202220889253.9U CN217449932U (zh) | 2022-04-18 | 2022-04-18 | 一种硅晶圆研磨液供料系统 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN217449932U true CN217449932U (zh) | 2022-09-20 |
Family
ID=83269287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202220889253.9U Active CN217449932U (zh) | 2022-04-18 | 2022-04-18 | 一种硅晶圆研磨液供料系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN217449932U (zh) |
-
2022
- 2022-04-18 CN CN202220889253.9U patent/CN217449932U/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN113334245B (zh) | 一种研磨液供给系统 | |
| CN101648365A (zh) | Cmp抛光液供应系统 | |
| CN217449932U (zh) | 一种硅晶圆研磨液供料系统 | |
| CN203125329U (zh) | 用于化学机械抛光设备的抛光液供应装置 | |
| CN204825349U (zh) | 一体化染化料助剂配送系统 | |
| CN104476383A (zh) | 一种硅晶片循环抛光装置及循环抛光方法 | |
| CN218760112U (zh) | 一种恒压恒流冷却液温控系统 | |
| CN209029342U (zh) | 气体循环单元及半导体机台 | |
| CN116533140A (zh) | 抛光液换热装置和抛光机 | |
| CN206868165U (zh) | 一种用于回收洗酸水的再配酸系统 | |
| CN219849015U (zh) | 一种半导体化学研磨液输送混料装置 | |
| CN219798855U (zh) | 一种研磨液混配取样阀箱 | |
| CN212059325U (zh) | 流量测试系统 | |
| JP2002016030A (ja) | 研磨液の調製方法および調製装置 | |
| CN219922773U (zh) | 一种用于半导体研磨液供应系统的混配桶 | |
| CN219925708U (zh) | 一种半导体研磨液全自动供应系统 | |
| CN220136736U (zh) | 一种用于研磨液供应系统的液体取样单元 | |
| CN104947355B (zh) | 一体化染化料助剂配送系统及工艺 | |
| CN201959759U (zh) | 一种引流扰动器及回流贮液装置 | |
| KR20010025870A (ko) | 슬러리 공급 장치 | |
| CN220818710U (zh) | 一种闭式冷却塔冷却水循环系统 | |
| CN215281523U (zh) | 一种用于cmp抛光设备的供液装置 | |
| CN212206248U (zh) | 一种污水计量循环装置 | |
| CN221156160U (zh) | 一种改进型研磨液系统循环机构 | |
| CN212409486U (zh) | 一种车载换热器清洗机 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20230922 Address after: No. 5-4-1, Building 27-5, Shengsheng 3rd Road, Dalian Economic and Technological Development Zone, Liaoning Province, 116600 (4) Patentee after: Counterclockwise Chip Technology (Dalian) Co.,Ltd. Address before: 116600-3, No. 98-4, Tieshan East Road, Dalian Economic and Technological Development Zone, Liaoning Province Patentee before: Mingieerfa intelligent industrial technology (Dalian) Co.,Ltd. |