CN217296602U - 一种基材导正机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种基材导正机构,包括一箱体、一调节装置和一负压辅助组件，所述调节装置包括主调节部件和的副调节部件，所述主调节部件设置在所述箱体内，且与所述箱体形成一密闭空间，所述副调节部件设置在箱体外，通过所述负压辅助组件使得所述箱体与所述调节装置形成的相对密闭腔体内形成区部负压对材料进行吸附,本实用新型的吸附部件将被纠偏材料吸附在纠偏辊表面，增加材料与纠偏辊之间的摩擦力，从而在纠偏辊摆动时能够更顺利推动纠偏材料左右晃动，进而实现提高纠偏效率和效果。

Description

一种基材导正机构

技术领域

本实用新型涉及涂布技术领域，具体地说，是一种基材导正机构。

背景技术

涂布机用于新材料涂布复合领域，在基材涂覆涂层后需要进行干燥处理，为了追求更高的干燥效率，气浮式干燥箱被广泛用于涂布机行业。但是由于气浮式干燥箱没有传统烘箱的导辊支撑，基材更容易跑偏，严重跑偏会造成材料卷取缠绕，造成生产中断，需要停机重新引纸启动，不仅造成大量材料和人力的浪费，而且还会影响产品质量。因此亟需设计一种避免材料跑偏的机构。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术的不足，提供一种能够增大摩擦力的基材导正机构。

一种基材导正机构，包括一箱体、一调节装置和一负压辅助组件，所述调节装置包括主调节部件和的副调节部件，所述主调节部件设置在所述箱体内，且与所述箱体形成一密闭空间，所述副调节部件设置在箱体外，所述负压辅助组件设置在所述箱体的一侧，所述负压辅助组件的吸气端穿过所述箱体的侧壁，与该密闭空间相连通。

优选的，所述主调节部件包括纠偏辊组件，所述副调节部件包括摆动组件，通过所述摆动组件和纠偏辊组件配合避免材料发生偏移。

优选的，所述箱体通过摆动架设置在底座上，所述底座设置在烘箱之间，并固定在烘道机架上。

优选的，所述摆动组件包括一摆动架和摆动滑轨，所述摆动滑轨设置在所述底座上，所述摆动架滑动设置在所述摆动滑轨上，所述摆动架内安装有纠偏辊，所述纠偏辊随着所述摆动架的摆动。

优选的，摆动架内还设置有纠偏执行单元，所述纠偏执行单元包括纠偏探头、控制器和纠偏执行器，所述纠偏探头和所述纠偏执行器电性连接至所述控制器，所述纠偏执行器驱动所述纠偏辊组件。

优选的，所述纠偏辊组件包括设置连接在箱体内壁上的多组纠偏辊，所述纠偏辊还连接有一独立的传动系统，所述独立的传动系统与整机转速相同。

优选的，所述摆动滑轨分别设置在所述摆动架两侧，分别与所述纠偏辊的两端相对应。

优选的，所述负压辅助组件还包括一吸附部件；所述吸附部件包括一吸风机和一吸风管，所述吸风管一端连接所述密闭腔体，另一端连接至所述吸风机；所述吸风机设置在所述底座的一侧。

优选的，所述吸风机和所述独立的传动系统共同设置在烘道机架上。

本实用新型优点在于：

1、本实用新型的吸附部件将被纠偏材料吸附在纠偏辊表面，增加材料与纠偏辊之间的摩擦力，从而在纠偏辊摆动时能够更顺利推动纠偏材料左右晃动，进而实现提高纠偏效率和效果。

2、本实用新型的纠偏探头将监测的材料运动轨迹转化为信息传送到控制器，经过控制器转换将指令传送至摆动架，从而使得摆动架在摆动滑轨上按照给定的幅度和频率摆动，从而更加精确的方便对材料进行纠偏。

3、本实用新型的纠偏辊与导辊的传送速度一致，即可避免材料在纠偏辊表面打滑划伤。

4、本实用新型的摆动组件和纠偏辊组件的配合，即可实现同时进行纠偏和输送，从而避免了材料由于偏移导致的生产滞后。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中涉及的技术方案对应附图加以简单说明，显而易见的，本说明书中所描述的附图仅仅是本实用新型的一些可能的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出任何创造性劳动的基础上，可以依据以下附图获得与本实用新型技术方案相同或相似的其他附图。

附图1是本实用新型一种基材导正机构在一实施例的立体示意图；

附图2是本实用新型一种基材导正机构在一实施例的正面示意图；

附图3是本实用新型一种基材导正机构在一实施例的摆动架示意图；

附图4是本实用新型一种基材导正机构在一实施例的纠偏辊示意图。

附图中涉及的附图标记和组成部分如下所示：

1、箱体；2、调节装置；201、纠偏辊；202、摆动架；203、纠偏执行器；204、纠偏探头；3、负压辅助组件；301、传动系统；302、吸风管；303、吸风机。

具体实施方式

本实用新型的一种基材导正机构，通过调节装置内的摆动组件和纠偏辊组件避免材料的偏移。

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型所描述的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，本说明书中所描述的实施例仅是本实用新型的一部分可行技术方案，本领域普通技术人员基于本实用新型的实施例，在没有作出任何创造性劳动的基础上得到的其他实施例，应当视为属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，本实用新型实施例中所使用的“第一”“第二”等描述近用于描述目的，不应当理解为其指示或隐含指示所限定的技术特征的数量，由此，本说明书个实施例中限定有“第一”“第二”的特征可以表明包括至少一个该被限定的技术特征。

本说明书中所记载的本实用新型的各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时，应当认为该技术方案的结合不存在。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案是：如附图1-4所示，一种基材导正机构，包括一箱体1、一调节装置2和一负压辅助组件3，所述调节装置2包括主调节部件和的副调节部件，所述主调节部件设置在所述箱体1内，且与所述箱体1形成一相对密闭空间，所述副调节部件设置在箱体外，所述负压辅助组件3设置在所述箱体1的一侧，所述负压辅助组件3的吸气端穿过所述箱体1的侧壁，与该密闭空间相连通。

具体的，调节装置2可以被用于实时感应和调节材料的运动状态及轨迹，负压辅助组件3用于提供吸力，被纠偏材料与调节装置2中的主调节部件直接接触，为了更好的保证纠偏效果，因此需要增大材料与调节装置2之间的静摩擦力，箱体1和调节装置2组成相对密闭腔体，从而为负压辅助组件3提供形成局部负压的密闭条件，负压辅助组件3将被纠偏材料吸附在调节装置2表面，增加材料与调节装置2之间的摩擦力，从而在调节装置2对材料进行调整时能够更顺利推动纠偏材料左右晃动，进而实现提高纠偏效率和效果。

优选的，所述主调节部件包括纠偏辊组件，所述副调节部件包括摆动组件，通过所述摆动组件和纠偏辊组件配合避免材料发生偏移。

具体的，纠偏辊组件用于持续支撑和接触材料，摆动组件用于根据材料的偏移左右晃动，通过摆动组件和纠偏辊组件的配合，即可实现同时进行纠偏和输送，从而避免了材料由于偏移导致的生产滞后。

优选的，所述箱体1通过摆动架设置在底座上，所述底座设置在烘箱之间，并固定在烘道机架上。

具体的，底座用于支撑箱体1，使得箱体1内调节纠偏辊组件的母线的高度与材料输送高度相当，避免材料弯折角度过大影响输送和烘干，底座设置在烘箱之间，根据烘道长度设置相应数量的底座，从而可以对因重力自然下坠的材料进行支撑同时进行纠偏，进而提高了材料的涂布效果。

优选的，所述摆动组件包括一摆动架202和摆动滑轨，所述摆动滑轨设置在所述底座上，所述摆动架202滑动设置在所述摆动滑轨上，所述摆动架202内安装有纠偏辊201，所述纠偏辊201随着所述摆动架202的摆动。

具体的，摆动组件包括一摆动架202和摆动滑轨，摆动滑轨为摆动架202摆动的轨迹和支撑，摆动架202滑动设置在摆动滑轨上，摆动滑轨设置在底座上，通过摆动滑轨对摆动架202摆动的限制，避免了摆动架202随着材料的偏移进行无序滑动，将材料偏移转化为摆动架202的有序摆动，进而能够方便对材料进行纠偏。

优选的，摆动架202内还设置有纠偏执行单元，所述纠偏执行单元包括纠偏探头204、控制器和纠偏执行器203，所述纠偏探头204和所述纠偏执行器203电性连接至所述控制器，所述纠偏执行器203驱动所述纠偏辊组件。

具体的，摆动架202内设置有纠偏执行单元，纠偏执行单元用于检测材料是否发生偏移，根据材料漂移对摆动架202进行调整，纠偏执行单元包括纠偏探头204、控制器和纠偏执行器203，纠偏探头204用于实时监测材料的运动轨迹，纠偏探头204和纠偏执行器203电性连接至控制器，纠偏探头204将监测的材料运动轨迹转化为信息传送到控制器，经过控制器转换将指令传送至纠偏辊组件，从而使得纠偏辊组件带动摆动架202在摆动滑轨上按照给定的幅度和频率摆动，从而更加精确的方便对材料进行纠偏。纠偏执行器203一端连接在纠偏辊组件上，另一端连接在固定的底座上。

优选的，所述纠偏辊组件包括设置连接在箱体1内壁上的多组纠偏辊201，所述纠偏辊201还连接到传动系统。

具体的，纠偏辊组件包括设置在箱体1内壁上的多组纠偏辊201，纠偏辊201与箱体1无摩擦滑动，既能够充分保证对箱体的相对封闭，也能够确保气体能过向箱体内流动形成负压；由于被纠偏材料与纠偏辊201之间没有包角，仅仅只靠材料本身拉动纠偏辊201旋转十分不现实，并且材料再受到额外的摩擦力时，更易发生偏移，从而造成纠偏的困难，因此纠偏辊组件还可以链接到主机的传动系统或一独立的传动系统301，通过独立的传统系统，使得纠偏辊组件拥有独立的运转速度，不会被材料本身的输送速度所影响，从而更好的配合摆动组件。纠偏辊组件的独立传动系统与整机转速相同，纠偏辊201与导辊的传送速度一致，即可避免材料在纠偏辊201表面打滑划伤。

优选的，所述摆动滑轨分别设置在所述摆动架202两侧，分别与所述纠偏辊201的两端相对应。

具体的，纠偏辊201设置在摆动架202内，纠偏辊201的数量优选为两根，摆动滑轨分别设置再摆动架202的两侧，分别与纠偏辊201两端相对应，从而使得纠偏辊201在运动时左右两侧保持同步，避免了对材料的纠偏的误差。

优选的，所述负压辅助组件3还包括一吸附部件；所述吸附部件包括一吸风机303和一吸风管302，所述吸风管302一端连接所述密闭腔体，另一端连接至所述吸风机303；所述吸风机303设置在所述底座的一侧。

具体的，吸附部件包括一吸风机303和一吸风管302，吸风机303通过吸风管302将由箱体1和纠偏辊201形成的密闭腔体内的空气抽出，从而形成局部负压，进而更好的对被纠偏材料进行吸附，提高了纠偏效率和效果，选用基本的吸风机303以及吸风管302，有效的节约了成本，提高了经济效益。

优选的，所述吸风机303和所述传动系统301共同设置在烘道机架上。

具体的，吸风机303和传动系统301共同设置在烘道机架上，独立传动系统设置在纠偏辊201轴向的一侧，从而能够更好的进行动力传递，同时吸风机303与独立的传动系统同侧，避免了吸风机排出的风在传输过程中对材料的影响。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和补充，这些改进和补充也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (9)

1.一种基材导正机构，其特征在于：包括一箱体(1)、一调节装置(2)和一负压辅助组件(3)，所述调节装置(2)包括主调节部件和的副调节部件，所述主调节部件设置在所述箱体(1)内，且与所述箱体(1)形成一密闭空间，所述副调节部件设置在箱体外，所述负压辅助组件(3)设置在所述箱体(1)的一侧，所述负压辅助组件(3)的吸气端穿过所述箱体(1)的侧壁，与该密闭空间相连通。

2.根据权利要求1所述的一种基材导正机构，其特征在于：所述主调节部件包括纠偏辊组件，所述副调节部件包括摆动组件，通过所述摆动组件和纠偏辊组件配合避免材料发生偏移。

3.根据权利要求2所述的一种基材导正机构，其特征在于：所述箱体(1)通过摆动架设置在底座上，所述底座设置在烘箱之间，并固定在烘道机架上。

4.根据权利要求3所述的一种基材导正机构，其特征在于：所述摆动组件包括一摆动架(202)和摆动滑轨，所述摆动滑轨设置在所述底座上，所述摆动架(202)滑动设置在所述摆动滑轨上，所述摆动架(202)内安装有纠偏辊(201)，所述纠偏辊(201)随着所述摆动架(202)的摆动。

5.根据权利要求4所述的一种基材导正机构，其特征在于：摆动架(202)内还设置有纠偏执行单元，所述纠偏执行单元包括纠偏探头(204)、控制器和纠偏执行器(203)，所述纠偏探头(204)和所述纠偏执行器(203)电性连接至所述控制器，所述纠偏执行器(203)驱动所述纠偏辊组件。

6.根据权利要求5所述的一种基材导正机构，其特征在于：所述纠偏辊组件包括设置连接在箱体(1)内壁上的多组纠偏辊(201)，所述纠偏辊(201)还连接到传动系统。

7.根据权利要求6所述的一种基材导正机构，其特征在于：所述摆动滑轨分别设置在所述摆动架(202)两侧，分别与所述纠偏辊(201)的两端相对应。

8.根据权利要求7所述的一种基材导正机构，其特征在于：所述负压辅助组件(3)还包括一吸附部件；所述吸附部件包括一吸风机(303)和一吸风管(302)，所述吸风管(302)一端连接所述密闭空间，另一端连接至所述吸风机(303)；所述吸风机(303)设置在所述底座的一侧。

9.根据权利要求8所述的一种基材导正机构，其特征在于：所述吸风机(303)和独立的传动系统(301)共同设置在烘道机架上。

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