CN217248631U - 抑菌制剂加工用真空均质乳化机 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了抑菌制剂加工技术领域的抑菌制剂加工用真空均质乳化机,包括主机台,主机台上侧设有升降机台,升降机台一端下侧匹配设有锅盖,锅盖下侧匹配设有均质锅体,均质锅体下端设有支撑底座,支撑底座上侧对称固定设有两个支撑柱,均质锅体侧面与两个支撑柱转动连接,一个支撑柱侧面匹配设有控制均质锅体转动的转动轮,支撑底座下侧匹配设有若干支撑轮,支撑底座上侧固定设有推把,支撑底座下侧匹配设有定位座,定位座与两个支撑柱之间匹配设有两个定位杆。本实用新型在抑菌制剂生产加工后,可将均质锅体移出,进行单独清洗操作,不会占用工位,实现工位的充分使用,有效提高了生产效率。

Description

抑菌制剂加工用真空均质乳化机
技术领域
本实用新型涉及抑菌制剂加工技术领域,尤其涉及抑菌制剂加工用真空均质乳化机。
背景技术
真空均质乳化机是用于使具有一定粘度的液体与物料进行捏合、溶解均质、细化、乳化、研磨等的设备,适用于牙膏、化妆品、药品乳膏等行业,因此可常用于抑菌制剂的加工生产,真空均质乳化机原理是物料在水锅、油锅内通过加热、搅拌进行混合反应后,由真空泵吸入锅体,通过锅盖上部的中心搅拌、聚四氟乙烯刮板始终迎合搅拌锅形体,扫净挂壁粘料,使被刮取的物料不断产生新界面,再经过叶片与回转叶片的剪断、压缩、折叠,使其搅拌、混合而向下流往锅体下方的均质器内,物料在通过告诉旋转的切割轮与固定的切割套之间所产生的强力的剪断、冲击、乱流等过程,物料在剪切缝中被切割,迅速破碎成直径较小的微粒,由于乳化锅处于真空状态,物料在搅拌过程中产生的气泡及时被抽走。
现有的抑菌制剂加工用真空均质乳化机,在搅拌过后,需要对锅体和搅拌桨进行清洗,以再次进行生产操作,由于锅体内部空间较大,因此相对与搅拌桨的清洗时间更长,搅拌桨在清洗过后,锅体依然需要一定时间的清洗,此时锅体占用工位,影响整体工作效率。
如中国专利:CN 213791131 U公开了一种真空均质乳化机,包括机架、电机、运输管道、均质锅、均质锅盖、搅拌装置、真空泵和真空压力表,所述均质锅与机架连接,均质锅盖设置于均质锅上,所述搅拌装置包括第一搅拌轴、第二搅拌轴和搅拌叶片,所述第一搅拌轴和第二搅拌轴上均设置有上下布置的搅拌桨,所述第一搅拌轴和第二搅拌轴设置于均质锅盖底部并且均与均质锅盖转动连接,所述电机连接第一搅拌轴和第二搅拌轴,所述第一搅拌轴和第二搅拌轴的转动方向相反,所述搅拌叶片固定连接于均质锅内壁上。
该实用新型存在一些不足之处:其设置的均质锅与机架连接,与机架为整体设置,因此不能单独移出清洗,在进行清洗操作时,其设置的搅拌轴和搅拌桨在清洗完毕,后依然需要等待均质锅的清洗,因此较为耗费时间,此时锅体占用工位,影响整体工作效率。
为此,我们提出抑菌制剂加工用真空均质乳化机来解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的抑菌制剂加工用真空均质乳化机。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
抑菌制剂加工用真空均质乳化机,包括主机台,所述主机台上侧设有升降机台,所述升降机台一端下侧匹配设有锅盖,所述锅盖下侧匹配设有均质锅体,所述均质锅体下端设有支撑底座,所述支撑底座上侧对称固定设有两个支撑柱,两个所述支撑柱对称设置在均质锅体侧面,且均质锅体侧面与两个支撑柱转动连接,一个所述支撑柱侧面匹配设有控制均质锅体转动的转动轮,所述支撑底座下侧匹配设有若干支撑轮,所述支撑底座上侧固定设有推把,所述支撑底座下侧匹配设有定位座,所述定位座与两个支撑柱之间匹配设有两个定位杆。
优选地,所述支撑底座呈水平设置,所述支撑底座呈U字型,且均质锅体位于支撑底座中间位置。
优选地,若干所述支撑轮均匀对称设置在支撑底座下侧,所述支撑轮通过支架与支撑底座下侧固定连接。
优选地,所述推把侧面形状呈折弯状,所述推把上端高度高于均质锅体上端。
优选地,所述定位座与支撑底座形状匹配,所述定位座对称设有两个限位槽,且两个限位槽分别与若干支撑轮匹配。
优选地,所述定位座一端竖直固定设有侧边固定块,两个所述定位杆呈水平对称设置,且均与侧边固定块侧面固定连接,两个所述支撑柱均固定设有套筒,两个所述定位杆分别与两个套筒匹配,所述定位杆侧面固定套设有环状块,所述定位杆一端设螺纹孔,且螺纹匹配设有螺纹杆,所述螺纹杆一端同轴固定设有旋转块,所述旋转块面积大于定位杆的截面积,所述环状块与定位杆端面长度与套筒相同。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:
本实用新型通过设置与均质锅体匹配的支撑底座和两个支撑柱,均质锅体与支撑底座以及支撑柱呈一体设置,通过在支撑底座下侧设置支撑轮,可实现将支撑底座和均质锅体的移动,同时通过设置定位座和对应的定位杆,配合支撑柱上的套筒,从而实现对支撑底座和均质锅体定位效果,便于进行抑菌制剂的加工,在加工过后,需要对均质锅体进行清洗时,可将该均质锅体移出,进行单独清洗操作,并将另一个清洗过后的均质锅体定位到定位座上,之后在对现有的搅拌桨清洗过后,便可直接进行生产操作,均质锅体的清洗不会占用工位,实现工位的充分使用,有效提高了生产效率。
附图说明
图1为本实用新型提出的抑菌制剂加工用真空均质乳化机的结构示意图;
图2为本实用新型提出的抑菌制剂加工用真空均质乳化机的正视结构示意图;
图3为本实用新型提出的抑菌制剂加工用真空均质乳化机中的均质锅体移出后的结构示意图。
图中:1主机台、2升降机台、3锅盖、4均质锅体、5支撑底座、6支撑柱、7转动轮、8支撑轮、9推把、10定位座、11定位杆、12侧边固定块、13套筒、14环状块、15螺纹杆、16旋转块。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-3,抑菌制剂加工用真空均质乳化机,包括主机台1,主机台1为整个设备的支撑和控制平台,主机台1上侧设有升降机台2,升降机台2一端下侧匹配设有锅盖3,升降机台2用于升降锅盖3,锅盖3下侧设有搅拌桨,同时升降机台2上固定设有驱动搅拌桨的电机,锅盖3下侧匹配设有均质锅体4,均质锅体4为盛放物料的器皿,用于生产抑菌制剂;
均质锅体4下端设有支撑底座5,支撑底座5呈水平设置,支撑底座5呈U字型,且均质锅体4位于支撑底座5中间位置,支撑底座5上侧对称固定设有两个支撑柱6,两个支撑柱6对称设置在均质锅体4侧面,且均质锅体4侧面与两个支撑柱6转动连接,两个支撑柱6与均质锅体4通过转轴连接,对均质锅体4起到支撑的作用,一个支撑柱6侧面匹配设有控制均质锅体4转动的转动轮7,通过转动轮7可控制转轴转动,进而控制均质锅体4转动倾斜,实现均质锅体4的倒料;
支撑底座5下侧匹配设有若干支撑轮8,若干支撑轮8均匀对称设置在支撑底座5下侧,支撑轮8通过支架与支撑底座5下侧固定连接,支撑底座5上侧固定设有推把9,推把9侧面形状呈折弯状,推把9上端高度高于均质锅体4上端,通过推把9可推动支撑底座5和均质锅体4整体移动,推把4部影响均质锅体4的倾倒操作;
支撑底座5下侧匹配设有定位座10,定位座10与支撑底座5形状匹配,定位座10对称设有两个限位槽,且两个限位槽分别与若干支撑轮8匹配,两个限位槽起到限位的作用,可将支撑底座5推至定位座10上;
定位座10与两个支撑柱6之间匹配设有两个定位杆11,定位座10一端竖直固定设有侧边固定块12,两个定位杆11呈水平对称设置,且均与侧边固定块12侧面固定连接,两个支撑柱6均固定设有套筒13,两个定位杆11分别与两个套筒13匹配,两个定位杆11可分别插入两个套筒13内,实现定位的作用,定位杆11侧面固定套设有环状块14,定位杆11一端设螺纹孔,且螺纹匹配设有螺纹杆15,螺纹杆15一端同轴固定设有旋转块16,旋转块16面积大于定位杆11的截面积,环状块14与定位杆11端面长度与套筒相同,通过将螺纹杆15拧入对应的螺纹孔中,使得旋转块16挤压套筒13,套筒13位于旋转块16和环状块14之间,旋转块16配合环状块14实现紧固的作用,进而固定支撑柱6和整体支撑底座5以及均质锅体4。
本实用新型中,该装置的工作原理如下:
在抑菌制剂加工过后,需要对均质锅体4进行清洗时,旋转拧动两个旋转块16,将对应的两个螺纹杆15拧出,通过推把9拉动支撑底座5和均质锅体4从定位座10上整体移动,之后对该均质锅体4进行单独清洗操作,在对均质锅体4单独清洗前,搅拌桨已经清洗完毕;此时再将另一个清洗过后的均质锅体4设置到定位座10上,通过推把9推动对应的支撑底座5和均质锅体4整体移动到定位座10上,使得对应的两个定位杆11分别插入两个套筒13内,通过旋转块16将螺纹杆15拧入对应的螺纹孔中,使得旋转块16挤压套筒13,旋转块16配合环状块14紧固套筒13,进而固定支撑柱6和整体支撑底座5以及均质锅体4,之后可直接进行生产操作。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.抑菌制剂加工用真空均质乳化机,包括主机台(1),所述主机台(1)上侧设有升降机台(2),所述升降机台(2)一端下侧匹配设有锅盖(3),其特征在于,所述锅盖(3)下侧匹配设有均质锅体(4),所述均质锅体(4)下端设有支撑底座(5),所述支撑底座(5)上侧对称固定设有两个支撑柱(6),两个所述支撑柱(6)对称设置在均质锅体(4)侧面,且均质锅体(4)侧面与两个支撑柱(6)转动连接,一个所述支撑柱(6)侧面匹配设有控制均质锅体(4)转动的转动轮(7),所述支撑底座(5)下侧匹配设有若干支撑轮(8),所述支撑底座(5)上侧固定设有推把(9),所述支撑底座(5)下侧匹配设有定位座(10),所述定位座(10)与两个支撑柱(6)之间匹配设有两个定位杆(11)。
2.根据权利要求1所述的抑菌制剂加工用真空均质乳化机,其特征在于,所述支撑底座(5)呈水平设置,所述支撑底座(5)呈U字型,且均质锅体(4)位于支撑底座(5)中间位置。
3.根据权利要求1所述的抑菌制剂加工用真空均质乳化机,其特征在于,若干所述支撑轮(8)均匀对称设置在支撑底座(5)下侧,所述支撑轮(8)通过支架与支撑底座(5)下侧固定连接。
4.根据权利要求1所述的抑菌制剂加工用真空均质乳化机,其特征在于,所述推把(9)侧面形状呈折弯状,所述推把(9)上端高度高于均质锅体(4)上端。
5.根据权利要求1所述的抑菌制剂加工用真空均质乳化机,其特征在于,所述定位座(10)与支撑底座(5)形状匹配,所述定位座(10)对称设有两个限位槽,且两个限位槽分别与若干支撑轮(8)匹配。
6.根据权利要求1所述的抑菌制剂加工用真空均质乳化机,其特征在于,所述定位座(10)一端竖直固定设有侧边固定块(12),两个所述定位杆(11)呈水平对称设置,且均与侧边固定块(12)侧面固定连接,两个所述支撑柱(6)均固定设有套筒(13),两个所述定位杆(11)分别与两个套筒(13)匹配,所述定位杆(11)侧面固定套设有环状块(14),所述定位杆(11)一端设螺纹孔,且螺纹匹配设有螺纹杆(15),所述螺纹杆(15)一端同轴固定设有旋转块(16),所述旋转块(16)面积大于定位杆(11)的截面积,所述环状块(14)与定位杆(11)端面长度与套筒相同。
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