CN217155748U - 一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，包括：烘干风机，位于测漏壳体左侧，所述烘干风机前端连接有烘干管道；烘干板，位于测漏壳体上端表面，所述烘干板下端内侧设置有研磨头本体；检测槽块，位于测漏壳体内部，所述检测槽块连接在研磨头本体下端处；衔接管，位于检测槽块上端，所述衔接管表面安装有控制阀。本实用新型解决了现有的气密性检测仪无法较为直观的观察到吸附腔是否产生气漏，且由于外界环境因素导致检测结果不准确，缺乏不受环境因素影响的测漏设备的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及反光机构领域，具体涉及一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备。
背景技术
晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，在晶圆抛光时，使用研磨头内部的吸附腔用来吸附晶圆，进行抛光打磨，研磨头长时间使用后，需要对吸附腔气密性进行检测，但现有的气密性检测仪无法较为直观的观察到吸附腔是否产生气漏，且由于外界环境因素导致检测结果不准确，缺乏不受环境因素影响的测漏设备的问题。
实用新型内容
为克服现有技术所存在的缺陷，现提供一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，以解决在现有的气密性检测仪无法较为直观的观察到吸附腔是否产生气漏，且由于外界环境因素导致检测结果不准确，缺乏不受环境因素影响的测漏设备的问题。
为实现上述目的，提供一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，包括：
烘干风机，位于测漏壳体左侧，所述烘干风机前端连接有烘干管道；
烘干板，位于测漏壳体上端表面，所述烘干板下端内侧设置有研磨头本体；
检测槽块，位于测漏壳体内部，所述检测槽块连接在研磨头本体下端处；
衔接管，位于检测槽块上端，所述衔接管表面安装有控制阀。
进一步的，所述测漏壳体前端表面设置有可视窗；且检测槽块位于可视窗处，所述可视窗左侧固定有控制面板。
进一步的，所述测漏壳体下端中部设置有排水口，所述测漏壳体下端内部设置有伸缩柱槽，所述伸缩柱槽内壁连接有液压柱。
进一步的，所述烘干管道通过三通管道接头连接有分支管道，所述烘干板表面设置有三组出风口；出风口与分支管道相连接。
进一步的，所述研磨头本体上端表面连接有吸附管道，所述研磨头本体内部设置有吸附腔道；且吸附腔道与吸附管道相连通。
进一步的，所述吸附腔道下端连接有五组吸附槽孔，所述吸附槽孔下端吸附有检测管口块，所述检测管口块上表面固定有密封垫圈。
进一步的，所述衔接管上端连接有检测管口块；下端连通有检测槽块，所述检测槽块、衔接管检测管口块构成研磨头本体的气密性检测结构。
进一步的，所述检测槽块槽内固定有变色块；且变色块为无水硫酸铜块，所述检测槽块下端槽壁表面安装有加热板。
本实用新型的有益效果在于，本实用新型的用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备利用检测槽块上端的衔接管与研磨头下端表面的吸附孔进行吸附，使检测槽块与研磨头相吸附，放置在测漏设备充满水的槽内，通过观察检测槽块内部的变色块是否发生变色，来判断研磨头是否产生气漏，方便直接、明了的观察气密性检测的结果，同时便于直接的得到准确的检测结果，避免受到环境因素的影响导致检测结果不准确，通过烘干风机向出风口排风，对检测后的研磨头进行烘干，便于保障检测后的研磨头处于干燥状态，解决了缺乏不受环境因素影响的测漏设备的问题。
附图说明
图1为本实用新型实施例的气密性测漏设备正视结构示意图。
图2为本实用新型实施例的气密性测漏设备正视剖面结构示意图。
图3为本实用新型实施例的气密性测漏设备烘干状态的正视结构示意图。
图4为本实用新型实施例的衔接管和检测槽块结构示意图。
图5为本实用新型实施例的检测管口块俯视结构示意图。
1、测漏壳体；11、排水口；12、可视窗；13、控制面板；14、液压柱；15、伸缩柱槽；2、烘干风机；21、烘干管道；3、烘干板；31、分支管道；32、出风口；4、研磨头本体；41、吸附管道；42、吸附腔道；43、吸附槽孔；5、检测槽块；51、变色块；52、加热板；6、衔接管；61、检测管口块；62、控制阀；63、密封垫圈。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。
图1为本实用新型实施例的气密性测漏设备正视结构示意图、图2为本实用新型实施例的气密性测漏设备正视剖面结构示意图、图3为本实用新型实施例的气密性测漏设备烘干状态的正视结构示意图、图4为本实用新型实施例的衔接管和检测槽块结构示意图、图5为本实用新型实施例的检测管口块俯视结构示意图。
参照图1至图5所示，本实用新型提供了一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，包括：烘干风机2、烘干板3、检测槽块5和衔接管6。
烘干风机2，位于测漏壳体1左侧，烘干风机2前端连接有烘干管道21。
烘干板3，位于测漏壳体1上端表面，烘干板3下端内侧设置有研磨头本体4。
检测槽块5，位于测漏壳体1内部，检测槽块5连接在研磨头本体4下端处。
衔接管6，位于检测槽块5上端，衔接管6表面安装有控制阀62。
现有的气密性检测仪无法较为直观的观察到吸附腔是否产生气漏，且由于外界环境因素导致检测结果不准确，缺乏不受环境因素影响的测漏设备的问题。因此，本实用新型的用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备利用检测槽块上端的衔接管与研磨头下端表面的吸附孔进行吸附，使检测槽块与研磨头相吸附，放置在测漏设备充满水的槽内，通过观察检测槽块内部的变色块是否发生变色，来判断研磨头是否产生气漏，方便直接、明了的观察气密性检测的结果，同时便于直接的得到准确的检测结果，避免受到环境因素的影响导致检测结果不准确，通过烘干风机向出风口排风，对检测后的研磨头进行烘干，便于保障检测后的研磨头处于干燥状态，解决了缺乏不受环境因素影响的测漏设备的问题。
测漏壳体1前端表面设置有可视窗12；且检测槽块5位于可视窗12处，可视窗12左侧固定有控制面板13。
可视窗12用于观察测漏壳体1水槽内的检测槽块5内部的变色块51变色情况，便于直观观察到气漏情况。控制面板13用于控制测漏壳体1上下移动和烘干风机2的启动。
测漏壳体1下端中部设置有排水口11，测漏壳体1下端内部设置有伸缩柱槽15，伸缩柱槽15内壁连接有液压柱14。
当检测完成后，测漏壳体1水槽内的水体可通过排水口11排出。液压柱14用于推动测漏壳体1上下移动，使研磨头本体4处于水槽内和烘干板3处，方便对研磨头本体4进行检测和烘干。
烘干管道21通过三通管道接头连接有分支管道31，烘干板3表面设置有三组出风口32；出风口32与分支管道31相连接。
烘干风机2将热风通过烘干管道21送入两组分支管道31内，通过三组出风口32将热风排出，便于快速烘干研磨头本体4表面的水体，方便保障检测后的研磨头本体4处于干燥状态。
研磨头本体4上端表面连接有吸附管道41，研磨头本体4内部设置有吸附腔道42；且吸附腔道42与吸附管道41相连通。
吸附管道41通过吸附腔道42对吸附槽孔43处产生吸附，从而进行晶圆，衔接管6同样是通过检测管口块61与吸附槽孔43相吸附，进行吸附连接下端的检测槽块5。
吸附腔道42下端连接有五组吸附槽孔43，吸附槽孔43下端吸附有检测管口块61，检测管口块61上表面固定有密封垫圈63。
当吸附槽孔43处没有气漏时，密封垫圈63会与研磨头本体4表面紧密贴合，从而阻挡水体进入衔接管6和检测槽块5内，当吸附槽孔43处产生气漏时，水体会渗漏入衔接管6和检测槽块5内，根据是否进水来判断研磨头本体4的气密性。
衔接管6上端连接有检测管口块61；下端连通有检测槽块5，检测槽块5、衔接管6和检测管口块61构成研磨头本体4的气密性检测结构。
气密性检测结构是处于水中检测结构，不受外界温度等因素的影响，方便直接、明了的观察气密性检测的结果，同时便于直接的得到准确的检测结果。
检测槽块5槽内固定有变色块51；且变色块51为无水硫酸铜块，检测槽块5下端槽壁表面安装有加热板52。
无水硫酸铜块遇水会变蓝，便于观察到变色块51变蓝情况，来判断检测槽块5内部是否进水。加热板52用于加热变色块51，使变色块51内部水体蒸发，恢复白色状态。
本实用新型的用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备可有效解决缺乏不受环境因素影响的测漏设备的问题，方便直接、明了的观察气密性检测的结果，同时便于直接的得到准确的检测结果，适用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备。
Claims (8)
1.一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，其特征在于，包括：
烘干风机(2)，位于测漏壳体(1)左侧，所述烘干风机(2)前端连接有烘干管道(21)；
烘干板(3)，位于测漏壳体(1)上端表面，所述烘干板(3)下端内侧设置有研磨头本体(4)；
检测槽块(5)，位于测漏壳体(1)内部，所述检测槽块(5)连接在研磨头本体(4)下端处；
衔接管(6)，位于检测槽块(5)上端，所述衔接管(6)表面安装有控制阀(62)。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，其特征在于，所述测漏壳体(1)前端表面设置有可视窗(12)；且检测槽块(5)位于可视窗(12)处，所述可视窗(12)左侧固定有控制面板(13)。
3.根据权利要求1所述的一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，其特征在于，所述测漏壳体(1)下端中部设置有排水口(11)，所述测漏壳体(1)下端内部设置有伸缩柱槽(15)，所述伸缩柱槽(15)内壁连接有液压柱(14)。
4.根据权利要求1所述的一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，其特征在于，所述烘干管道(21)通过三通管道接头连接有分支管道(31)，所述烘干板(3)表面设置有三组出风口(32)；出风口(32)与分支管道(31)相连接。
5.根据权利要求1所述的一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，其特征在于，所述研磨头本体(4)上端表面连接有吸附管道(41)，所述研磨头本体(4)内部设置有吸附腔道(42)；且吸附腔道(42)与吸附管道(41)相连通。
6.根据权利要求5所述的一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，其特征在于，所述吸附腔道(42)下端连接有五组吸附槽孔(43)，所述吸附槽孔(43)下端吸附有检测管口块(61)，所述检测管口块(61)上表面固定有密封垫圈(63)。
7.根据权利要求1所述的一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，其特征在于，所述衔接管(6)上端连接有检测管口块(61)；下端连通有检测槽块(5)，所述检测槽块(5)、衔接管(6)检测管口块(61)构成研磨头本体(4)的气密性检测结构。
8.根据权利要求1所述的一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备，其特征在于，所述检测槽块(5)槽内固定有变色块(51)；且变色块(51)为无水硫酸铜块，所述检测槽块(5)下端槽壁表面安装有加热板(52)。
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| CN202221199110.1U Active CN217155748U (zh) | 2022-05-18 | 2022-05-18 | 一种用于晶圆抛光的研磨头气密性测漏设备 |
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2022
- 2022-05-18 CN CN202221199110.1U patent/CN217155748U/zh active Active
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