CN217149307U - 一种真空蒸镀机的单探头结构 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种真空蒸镀机的单探头结构，所述单探头结构穿过真空镀膜机的主腔体的左侧边或者右侧边，所述单探头结构水平设置并且位于镀锅的上方，用于检测被镀膜工件的镀膜膜层的厚度，所述单探头结构包括探测部、冷却管和固定件，所述探测部为圆形，所述冷却管的上部为两个平行的冷却管部、并且穿过所述固定件与固定件连接固定，所述冷却管的下部为角度大于90度小于180度的圆弧状，所述探测部与冷却管的下部为一体式的，固定件将所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁固定。

Description

一种真空蒸镀机的单探头结构

技术领域

本实用新型涉及真空蒸镀机技术领域，更具体地，涉及一种真空蒸镀机的单探头结构。

背景技术

真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。

在真空蒸镀的加工工艺中，在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料，坩埚包括：蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源(source)，加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化，以扇形的结构向上蒸发，坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的伞状结构的镀锅，镀锅上固定有被镀膜工件，因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。在镀膜的过程中，为了知道被镀膜工件表面的镀层的厚度，需要在镀膜的过程中通过探头检测被镀膜工件的镀膜膜层的厚度，对于实验型的真空镀膜机常采用单探头结构检测被镀膜工件的膜层厚度，但是现有技术的单探头结构其探测精度不高。

有鉴于此，本实用新型提供一种真空蒸镀机的单探头结构，适用于实验型的真空镀膜机，能够提高所述单探头结构检测被镀膜工件的镀层厚度的探测精度，并且成本低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种真空蒸镀机的单探头结构，适用于实验型的真空镀膜机，能够提高所述单探头结构检测被镀膜工件的镀层厚度的探测精度，并且成本低。

本申请的真空蒸镀机的单探头结构，本申请人首次发现，单探头结构的探测精度受到温度的影响系数大，能够在不提高成本及结构复杂度的前提下，本申请的真空蒸镀机的单探头结构将所述冷却管的下部设计为角度大于90度小于180度的圆弧状，并且更重要的是设计所述探测部与冷却管的下部为一体式的(现有技术是分体式的)，由于一体化的设计使得探测部与冷却管无缝连接、并且增大了冷却管与探测部的接触面积，从而使得探测部的热传导性更好，因此提高探测精度，并且使得探测部与冷却管的连接更加稳定。本申请人在此基础上完成了本申请。

一种真空蒸镀机的单探头结构，所述单探头结构穿过真空镀膜机的主腔体的左侧边或者右侧边，所述单探头结构水平设置并且位于镀锅的上方，用于检测被镀膜工件的镀膜膜层的厚度，所述单探头结构包括探测部1、冷却管2和固定件3，所述探测部1为圆形，所述冷却管2的上部21为两个平行的冷却管部、并且穿过所述固定件3与固定件3连接固定，所述冷却管2的下部22为角度大于90度小于180度的圆弧状，所述探测部1与冷却管2的下部22为一体式的，固定件3将所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁固定。

在一些实施方式中，所述探测部1的厚度大于等于冷却管2的直径，冷却管2的下部22为角度为100-170度之间的圆弧状。

进一步优选的，所述探测部1的厚度大于冷却管2的直径，冷却管2的下部22为角度为120-160度之间的圆弧状。

进一步的，所述探测部1包括探头和晶振片，晶振片位于探头的下方。

进一步的，所述固定件3设置在冷却管2的上部21的1/4-1/2之间。

进一步的，所述冷却管2为铜冷却管。

在一些实施方式中，所述固定件3包括：第一通孔31、第二通孔32、第三通孔33、中心圆面34、内圆环部35、外圆环部36，所述第一通孔31、第二通孔32和第三通孔33设置在中心圆面34上，中心圆面34位于内圆环部35内，外圆环部36设置在内圆环部35的外围。

进一步的，所述两个平行的冷却管2的上部21分别穿过第一通孔31、第二通孔32，并且分别与第一通孔31和第二通孔32密封，导线穿过第三通孔33并且与第三通孔33密封，导线的一端与探测部1连接。

进一步的，所述中心圆面34的厚度小于内圆环部35和外圆环部36的高度，内圆环部35与外圆环部36的高度相同，内圆环部35的内侧具有螺纹，通过内圆环部35的内侧的螺纹将所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁固定。

进一步的，内圆环部35与外圆环部36之间具有一个凹陷部37，凹陷部37用于放置密封圈，使得所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁密封。

在一些实施方式中，冷却管2的上部21的端点为两个接口，一个为冷却水的进水口，另一个为冷却水的出水口。

附图说明

结合以下附图一起阅读时，将会更加充分地描述本申请内容的上述和其他特征。可以理解，这些附图仅描绘了本申请内容的若干实施方式，因此不应认为是对本申请内容范围的限定。通过采用附图，本申请内容将会得到更加明确和详细地说明。

图1为本申请的真空蒸镀机的单探头结构和真空镀膜机的主腔体的结构示意图。

图2为本申请的真空蒸镀机的单探头结构的结构示意图。

图3为本申请的真空蒸镀机的单探头结构的固定件的结构示意图。

主要元件符号说明：

探测部1、冷却管2、固定件3、上部21、下部22、第一通孔31、第二通孔32、第三通孔33、中心圆面34、内圆环部35、外圆环部36、凹陷部37。

具体实施方式

描述以下实施例以辅助对本申请的理解，实施例不是也不应当以任何方式解释为限制本申请的保护范围。

在以下描述中，本领域的技术人员将认识到，在本论述的全文中，组件可描述为单独的功能单元(可包括子单元)，但是本领域的技术人员将认识到，各种组件或其部分可划分成单独组件，或者可整合在一起(包括整合在单个的系统或组件内)。

同时，组件或系统之间的连接并不旨在限于直接连接。相反，在这些组件之间的数据可由中间组件修改、重格式化、或以其它方式改变。另外，可使用另外或更少的连接。还应注意，术语“联接”、“连接”、或“输入”“固定”应理解为包括直接连接、通过一个或多个中间媒介来进行的间接的连接或固定。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“侧面”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时或惯常认知的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

实施例1：

一种真空蒸镀机的单探头结构，如图1-图3所示，所述单探头结构穿过真空镀膜机的主腔体的左侧边或者右侧边，所述单探头结构水平设置并且位于镀锅的上方，用于检测被镀膜工件的镀膜膜层的厚度，所述单探头结构包括探测部1、冷却管2和固定件3，所述探测部1为圆形，所述冷却管2的上部21为两个平行的冷却管部、并且穿过所述固定件3与固定件3连接固定，所述冷却管2的下部22为角度大于90度小于180度的圆弧状，所述探测部1与冷却管2的下部22为一体式的，固定件3将所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁固定。

所述探测部1的厚度大于冷却管2的直径，冷却管2的下部22为角度为140度的圆弧状，所述探测部1包括探头和晶振片，晶振片位于探头的下方，所述固定件3设置在冷却管2的上部21的1/3处，所述冷却管2为铜冷却管。所述固定件3包括：第一通孔31、第二通孔32、第三通孔33、中心圆面34、内圆环部35、外圆环部36，所述第一通孔31、第二通孔32和第三通孔33设置在中心圆面34上，中心圆面34位于内圆环部35内，外圆环部36设置在内圆环部35的外围。所述两个平行的冷却管2的上部21分别穿过第一通孔31、第二通孔32，并且分别与第一通孔31和第二通孔32密封，导线穿过第三通孔33并且与第三通孔33密封，导线的一端与探测部1连接。所述中心圆面34的厚度小于内圆环部35和外圆环部36的高度，内圆环部35与外圆环部36的高度相同，内圆环部35的内侧具有螺纹，通过内圆环部35的内侧的螺纹将所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁固定。内圆环部35与外圆环部36之间具有一个凹陷部37，凹陷部37用于放置密封圈，使得所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁密封。冷却管2的上部21的端点为两个接口，一个为冷却水的进水口，另一个为冷却水的出水口。

实施例2：

一种真空蒸镀机的单探头结构，如图1-图3所述，所述单探头结构穿过真空镀膜机的主腔体的左侧边或者右侧边，所述单探头结构水平设置并且位于镀锅的上方，用于检测被镀膜工件的镀膜膜层的厚度，所述单探头结构包括探测部1、冷却管2和固定件3，所述探测部1为圆形，所述冷却管2的上部21为两个平行的冷却管部、并且穿过所述固定件3与固定件3连接固定，所述冷却管2的下部22为角度大于90度小于180度的圆弧状，所述探测部1与冷却管2的下部22为一体式的，固定件3将所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁固定。

所述探测部1的厚度大于冷却管2的直径，冷却管2的下部22为角度为160度的圆弧状。所述探测部1包括探头和晶振片，晶振片位于探头的下方。所述固定件3设置在冷却管2的上部21的1/4处。所述冷却管2为铜冷却管。所述固定件3包括：第一通孔31、第二通孔32、第三通孔33、中心圆面34、内圆环部35、外圆环部36，所述第一通孔31、第二通孔32和第三通孔33设置在中心圆面34上，中心圆面34位于内圆环部35内，外圆环部36设置在内圆环部35的外围。所述两个平行的冷却管2的上部21分别穿过第一通孔31、第二通孔32，并且分别与第一通孔31和第二通孔32密封，导线穿过第三通孔33并且与第三通孔33密封，导线的一端与探测部1连接。所述中心圆面34的厚度小于内圆环部35和外圆环部36的高度，内圆环部35与外圆环部36的高度相同，内圆环部35的内侧具有螺纹，通过内圆环部35的内侧的螺纹将所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁固定。内圆环部35与外圆环部36之间具有一个凹陷部37，凹陷部37用于放置密封圈，使得所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁密封。冷却管2的上部21的端点为两个接口，一个为冷却水的进水口，另一个为冷却水的出水口。

尽管本申请已公开了多个方面和实施方式，但是其它方面和实施方式对本领域技术人员而言将是显而易见的，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。本申请公开的多个方面和实施方式仅用于举例说明，其并非旨在限制本申请，本申请的实际保护范围以权利要求为准。

Claims (9)

1.一种真空蒸镀机的单探头结构，所述单探头结构穿过真空镀膜机的主腔体的左侧边或者右侧边，所述单探头结构水平设置并且位于镀锅的上方，用于检测被镀膜工件的镀膜膜层的厚度，其特征在于，所述单探头结构包括探测部(1)、冷却管(2)和固定件(3)，所述探测部(1)为圆形，所述冷却管(2)的上部(21)为两个平行的冷却管部、并且穿过所述固定件(3)与固定件(3)连接固定，所述冷却管(2)的下部(22)为角度大于90度小于180度的圆弧状，所述探测部(1)与冷却管(2)的下部(22)为一体式的，固定件(3)将所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁固定。

2.如权利要求1所述的真空蒸镀机的单探头结构，其特征在于，所述探测部(1)的厚度大于等于冷却管(2)的直径，冷却管(2)的下部(22)为角度为100-170度之间的圆弧状。

3.如权利要求2所述的真空蒸镀机的单探头结构，其特征在于，所述探测部(1)的厚度大于冷却管(2)的直径，冷却管(2)的下部(22)为角度为120-160度之间的圆弧状。

4.如权利要求3所述的真空蒸镀机的单探头结构，其特征在于，所述固定件(3)设置在冷却管(2)的上部(21)的1/4-1/2之间。

5.如权利要求1所述的真空蒸镀机的单探头结构，其特征在于，所述固定件(3)包括：第一通孔(31)、第二通孔(32)、第三通孔(33)、中心圆面(34)、内圆环部(35)、外圆环部(36)，所述第一通孔(31)、第二通孔(32)和第三通孔(33)设置在中心圆面(34)上，中心圆面(34)位于内圆环部(35)内，外圆环部(36)设置在内圆环部(35)的外围。

6.如权利要求5所述的真空蒸镀机的单探头结构，其特征在于，所述两个平行的冷却管(2)的上部(21)分别穿过第一通孔(31)、第二通孔(32)，并且分别与第一通孔(31)和第二通孔(32)密封，导线穿过第三通孔(33)并且与第三通孔(33)密封，导线的一端与探测部(1)连接。

7.如权利要求6所述的真空蒸镀机的单探头结构，其特征在于，所述中心圆面(34)的厚度小于内圆环部(35)和外圆环部(36)的高度，内圆环部(35)与外圆环部(36)的高度相同，内圆环部(35)的内侧具有螺纹，通过内圆环部(35)的内侧的螺纹将所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁固定。

8.如权利要求7所述的真空蒸镀机的单探头结构，其特征在于，内圆环部(35)与外圆环部(36)之间具有一个凹陷部(37)，凹陷部(37)用于放置密封圈，使得所述单探头结构与真空镀膜机的主腔体的侧壁密封。

9.如权利要求1所述的真空蒸镀机的单探头结构，其特征在于，冷却管(2)的上部(21)的端点为两个接口，一个为冷却水的进水口，另一个为冷却水的出水口。

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