CN217121040U - 一种用于数字阵列模块的整体清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种用于数字阵列模块的整体清洗装置，包括耐压清洗腔体、缓冲罐、热交换装置、加压储液罐、冷交换装置、废液回收槽、真空装置，耐压清洗腔体内设置有运载装置，耐压清洗腔体和加压储液罐连通，耐压清洗腔体和加压储液罐之间设置有液体加压装置，加压储液罐内设置有清洗溶剂，热交换装置通过热循环管路与耐压清洗腔体相连，耐压清洗腔体上部与真空装置连通，真空装置与缓冲罐相连，缓冲罐经冷交换装置与加压储液罐连通，缓冲罐和冷交换装置之间还设置有气体增压装置；本实用新型实现了数字阵列模块整体的自动化清洗，溶剂回收循环使用提高了环保性，能耗也较传统溶剂清洗机大大降低。

Description

一种用于数字阵列模块的整体清洗装置

技术领域

本实用新型涉及模块清洗技术领域，具体涉及一种用于数字阵列模块的整体清洗装置。

背景技术

数字阵列模块中融合了光电调制解调技术、数字收发技术、集成技术等多种技术，能够完成雷达射频收发数字化及相关的数据预处理，并且能够实现大量数据的高速传输，具有多通道数字波束的形成、多通道波形的产生、多通道功率放大、多通道数字化等多种功能。

具有众多功能的数字阵列模块内含众多不同材质元器件，有金属、橡胶、塑料、电源模块、PCB板、陶瓷、导热酯、密封胶等。传统的卤素类溶剂、FC(氟碳族)溶剂、水基型清洗剂均会对数字阵列模块中一类或几类材质造成较严重的腐蚀产生不良。同时，高沸点溶剂和水基清洗剂挥发性不佳，清洗后不易干燥，容易造成焊点引脚腐蚀。

故长久以来数字阵列模块一直无法进行整体清洗，只能将其零件分类进行清洗后组装，组装完成后只能人工用棉棒蘸取溶剂对数字阵列模块焊点进行局部清洗，效率低下且清洗品质不稳定。

鉴于上述缺陷，本实用新型创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本实用新型。

实用新型内容

为解决上述技术缺陷，本实用新型采用的技术方案在于，提供一种用于数字阵列模块的自动清洗方法，包括：

当将待清洗的数字阵列模块固定于运载装置上之后，所述耐压清洗腔体关门并密封；

所述真空装置开始工作，将所述耐压清洗腔体内的空气排出，所述耐压清洗腔体内达到真空度后所述真空装置暂停工作；

所述加压储液罐内的所述清洗溶剂经所述液体加压装置加压后注入所述耐压清洗腔体中以对数字阵列模块进行喷淋清洗，同时所述运载装置运行，带动数字阵列模块进行前后往复运动；喷淋清洗完成后，所述运载装置和所述液体增压装置停止工作；

所述热交换装置开始工作，对所述耐压清洗腔体底部的所述清洗溶剂进行热交换升温，使所述清洗溶剂逐步达到沸点；所述清洗溶剂逐步气化的过程中所述真空装置同时工作，使所述耐压清洗腔体内保持负压状态加速溶剂气化；

所述真空装置出口端将溶剂的饱和蒸汽送入所述缓冲罐，所述缓冲罐的罐内压力逐渐上升达到所述气体增压装置的启动压力后，所述气体增压装置开始工作，对所述清洗溶剂的饱和蒸汽进一步加压，所述清洗溶剂的饱和蒸汽在所述冷交换装置提供冷量时温差进一步加大，所述清洗溶剂的饱和蒸汽在高压和大温差的双重作用下快速液化被压回所述加压储液罐。

较佳的，所述加压储液罐和所述耐压清洗腔体底部都安装有所述称重装置，监控喷淋清洗过程中所使用的溶剂用量和压回阶段所回收的溶剂用量，当所回收的溶剂用达到回收目标时，清洗周期完成。

一种用于数字阵列模块的整体清洗装置，包括耐压清洗腔体、缓冲罐、热交换装置、加压储液罐、冷交换装置、废液回收槽、真空装置，所述耐压清洗腔体内设置有运载装置，所述耐压清洗腔体和所述加压储液罐连通，所述耐压清洗腔体和所述加压储液罐之间设置有液体加压装置，所述加压储液罐内设置有清洗溶剂，所述热交换装置通过热循环管路与所述耐压清洗腔体相连，所述耐压清洗腔体上部与所述真空装置连通，所述真空装置与所述缓冲罐相连，所述缓冲罐通过冷循环管道经所述冷交换装置与所述加压储液罐连通，所述缓冲罐和所述冷交换装置之间还设置有气体增压装置，所述耐压清洗腔体和所述加压储液罐底部均设置有称重装置，所述废液回收槽通过排废管路与所述耐压清洗腔体相连。

较佳的，所述清洗溶剂为氢氟醚族或氢氟氧族溶剂。

较佳的，所述耐压清洗腔体采用气动密封或螺牙密封。

较佳的，所述运载装置采用磁流体密封传动或永磁体密封传动。

较佳的，所述液体增压装置为电动增压泵或气动增压泵。

较佳的，所述热交换装置采用管壳式热交换器或板式热交换器。

较佳的，所述冷交换装置采用管壳式冷交换器或板式冷交换器，冷源采用冷媒制冷机或者冷水制冷机。

较佳的，所述真空装置采用风冷式或者水冷式真空发生器，采用气驱动或者电驱动。

较佳的，所述缓冲罐采用耐压缓冲罐或耐压缓冲槽。

较佳的，所述气体增压装置采用电动增压泵或气动增压泵。

较佳的，所述称重装置采用称重传感器或称重电子秤。

与现有技术比较本实用新型的有益效果在于：1，本实用新型直接对数字阵列模块进行整体清洗，替代人工手动清洗，提高效率和品质稳定性；2，本实用新型利用低沸点易挥发溶剂的物理特性，解决了清洗干燥后水污染及溶剂残留的问题；同时，溶剂低沸点的特性使得溶剂回收过程中吸收的热量和冷量都很少，大大降低了能耗；溶剂的回收循环使用实现了更好的环保性，也解决了低沸点易挥发溶剂难于使用的弊端；3，本实用新型普适性强，占地很小，制造成本低廉很多，布局更灵活。

附图说明

图1为所述用于数字阵列模块的整体清洗装置的连接示意图；

图2为所述用于数字阵列模块的整体清洗装置的结构视图；

图3为所述耐压清洗腔体的内部结构示意图。

图中数字表示：

1-耐压清洗腔体；2-缓冲罐；3-热交换装置；4-加压储液罐；5-冷交换装置；6-废液回收槽；7-液体加压装置；8-真空装置；9-气体增压装置；10-称重装置；11-运载装置；12-数字阵列模块；13-喷嘴。

具体实施方式

以下结合附图，对本实用新型上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。

如图1、图2所示，图1为所述用于数字阵列模块的整体清洗装置的连接示意图；图2为所述用于数字阵列模块的整体清洗装置的结构视图。

本实用新型所述用于数字阵列模块的整体清洗装置包括耐压清洗腔体1、缓冲罐2、热交换装置3、加压储液罐4、冷交换装置5、废液回收槽6、真空装置8，所述耐压清洗腔体1内设置有运载装置11，所述耐压清洗腔体1和所述加压储液罐4连通，所述耐压清洗腔体1和所述加压储液罐4之间设置有液体加压装置7，所述加压储液罐4内设置有清洗溶剂，所述热交换装置3通过热循环管路与所述耐压清洗腔体1相连，所述耐压清洗腔体1上部与所述真空装置8连通，所述真空装置8与所述缓冲罐2相连，所述缓冲罐2通过冷循环管道经所述冷交换装置5与所述加压储液罐4连通，实现气路液路闭环，所述缓冲罐2和所述冷交换装置5之间还设置有气体增压装置9，所述耐压清洗腔体1和所述加压储液罐4底部均设置有称重装置10，所述废液回收槽6通过排废管路与所述耐压清洗腔体1相连。

较佳的，所述清洗溶剂为HFE(氢氟醚族)或HFO(氢氟氧族)溶剂。

较佳的，所述耐压清洗腔体1采用气动密封或螺牙密封，可耐真空及正压压力。

较佳的，所述运载装置11采用磁流体密封传动或永磁体密封传动。

较佳的，所述液体增压装置7为电动增压泵或气动增压泵。

较佳的，所述热交换装置3采用管壳式热交换器或板式热交换器。

较佳的，所述冷交换装置5采用管壳式冷交换器或板式冷交换器，冷源采用冷媒制冷机或者冷水制冷机。

较佳的，所述真空装置8采用风冷式或者水冷式真空发生器，采用气驱动或者电驱动。

较佳的，所述缓冲罐2采用耐压缓冲罐或者耐压缓冲槽。

较佳的，所述气体增压装置9采用电动增压泵或者气动增压泵。

较佳的，所述称重装置10采用称重传感器或者称重电子秤。

本实用新型直接对数字阵列模块进行整体清洗，替代人工手动清洗，提高效率和品质稳定性。

本实用新型利用低沸点易挥发溶剂的物理特性，解决了清洗干燥后水污染及溶剂残留的问题。同时，溶剂低沸点的特性使得溶剂回收过程中吸收的热量和冷量都很少，大大降低了能耗。溶剂的回收循环使用实现了更好的环保性，也解决了低沸点易挥发溶剂难于使用的弊端。

本实用新型普适性强，占地很小，制造成本低廉很多，布局更灵活。

本实用新型所述用于数字阵列模块的自动清洗方法，包括：

当将待清洗的数字阵列模块12固定于所述运载装置11上之后，所述耐压清洗腔体1关门并密封。

所述真空装置8开始工作，将所述耐压清洗腔体1内的空气尽量排出，避免空气内的水汽对清洗干燥过程造成影响，达到真空度后所述真空装置8暂停工作。

所述加压储液罐4内的所述清洗溶剂经所述液体加压装置7加压后注入所述耐压清洗腔体1中，管路终端配有喷嘴13使溶剂均匀散开分布，同时所述运载装置11运行，带动数字阵列模块进行前后往复运动，确保数字阵列模块在喷淋清洗的过程中没有死角。

高压喷淋清洗的方式既可以确保数字阵列模块每个部分都能接触溶剂，又可利用溶剂增压之后的冲击力将污物焊渣冲刷下来，同时接触溶剂的时间还能尽可能短，减少了腐蚀等不良发生的可能性。

喷淋清洗完成后，所述运载装置11和所述液体增压装置7停止工作。

此时，所述热交换装置3开始工作，对所述耐压清洗腔体1底部的所述清洗溶剂进行热交换升温，使所述清洗溶剂逐步达到沸点。该实例中所述清洗溶剂的优选溶剂沸点低至约20℃，接近室温非常节能高效。

溶剂逐步气化的过程中所述真空装置8同时工作，使所述耐压清洗腔体1内保持负压状态加速溶剂气化。

所述真空装置8出口端将溶剂的饱和蒸汽送入所述缓冲罐2，所述缓冲罐2的罐内压力逐渐上升达到所述气体增压装置9的启动压力，这时所述气体增压装置9开始工作，对所述清洗溶剂的饱和蒸汽进一步加压，同时伴随压缩的过程会产生热量将气态的所述清洗溶剂进一步升温，这部分热量也被利用，使得溶剂饱和蒸汽在后续所述冷交换装置3提供冷量时温差进一步加大，所述清洗溶剂的饱和蒸汽在高压和大温差的双重作用下快速液化被压回所述加压储液罐4。

所述加压储液罐4和所述耐压清洗腔体1底部都安装有所述称重装置10，监控喷淋阶段打入多少质量的溶剂，回收阶段回收了多少质量的溶剂，当达到回收目标时，以上装置停止工作。所述耐压清洗腔体1残余的废液废渣排入所述废液回收槽6，一个清洗节拍结束。

综上所述，该数字阵列模块清洗装置实现了数字阵列模块整体的自动化清洗，溶剂回收循环使用提高了环保性，能耗也较传统溶剂清洗机大大降低。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，对本实用新型而言仅仅是说明性的，而非限制性的。本专业技术人员理解，在本实用新型权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变，修改，甚至等效，但都将落入本实用新型的保护范围内。

Claims (10)

1.一种用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，包括耐压清洗腔体、缓冲罐、热交换装置、加压储液罐、冷交换装置、废液回收槽、真空装置，所述耐压清洗腔体内设置有运载装置，所述耐压清洗腔体和所述加压储液罐连通，所述耐压清洗腔体和所述加压储液罐之间设置有液体加压装置，所述加压储液罐内设置有清洗溶剂，所述热交换装置通过热循环管路与所述耐压清洗腔体相连，所述耐压清洗腔体上部与所述真空装置连通，所述真空装置与所述缓冲罐相连，所述缓冲罐通过冷循环管道经所述冷交换装置与所述加压储液罐连通，所述缓冲罐和所述冷交换装置之间还设置有气体增压装置，所述耐压清洗腔体和所述加压储液罐底部均设置有称重装置，所述废液回收槽通过排废管路与所述耐压清洗腔体相连。

2.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，所述清洗溶剂为氢氟醚族或氢氟氧族溶剂。

3.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，所述耐压清洗腔体采用气动密封或螺牙密封。

4.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，所述运载装置采用磁流体密封传动或永磁体密封传动。

5.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，所述液体加压装置为电动增压泵或气动增压泵。

6.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，所述热交换装置采用管壳式热交换器或板式热交换器。

7.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，所述冷交换装置采用管壳式冷交换器或板式冷交换器，所述冷交换装置的冷源采用冷媒制冷机或者冷水制冷机。

8.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，所述真空装置采用风冷式或者水冷式真空发生器，采用气驱动或者电驱动。

9.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，所述缓冲罐采用耐压缓冲罐或耐压缓冲槽。

10.如权利要求1所述的用于数字阵列模块的整体清洗装置，其特征在于，所述气体增压装置采用电动增压泵或气动增压泵。

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