CN217093134U - 一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置，包括台架、制备罐、供水机构、搅拌机构和电控箱，搅拌机构包括搅拌电机和搅拌桨，搅拌桨包括一竖向中空轴和连通设置在竖向中空轴外侧的若干根横向中空轴，且搅拌电机的输出轴依次穿过台架的台面以及制备罐与竖向中空轴一端连接，供水箱的底部设置有轴承座，且储水箱、抽水泵及设置在制备罐上的供水口依次通过管路连接，本实用新型的搅拌机构不仅能对半导体用剥离液进行搅拌制备，且还能自动将供水箱内的清洁水自动喷洒至制备罐内壁，从而实现对制备罐进行自动清洗，相较于传统的半导体用剥离液制备罐，本实用新型可降低操作人员劳动强度，且还能提高清洗效率。

Description

一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置

技术领域

本实用新型涉及半导体用剥离液生产技术领域，尤其涉及一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置。

背景技术

干法蚀刻是在半导体电路元件制造工序中，用于形成层间绝缘膜材料、布线材料等的图案最为重要的技术。干法蚀刻在层间绝缘膜材料、布线材料的基板上，通过溅射、CVD、电镀、旋图光致抗蚀剂、干法气体蚀刻得到图案。在干法蚀刻后的基板上，残留着作为掩膜使用的光致抗蚀剂、以及光致抗蚀剂与蚀刻气体反应所形成的光致抗蚀剂变质层，而且因为蚀刻而裸露在被蚀刻材料的侧壁上，残留着侧壁保护沉积膜。这些光致抗蚀剂、变质层以及侧壁保护沉积膜在进入下道工序制造之前，必须从基板上除去。

且在这些光致抗蚀剂、变质层以及侧壁保护沉积膜从基板上除去时则用到剥离液；现有的半导体用玻璃液在制备结束后，需要人工手动向制备罐内注水已对其进行内部进行清洗，这样不仅增强了操作人员的劳动强度，且也无法将制备罐进行清洗干净，所以本实用新型旨在对传统的半导体用剥离液制备罐进行改进。

实用新型内容

实用新型目的：为了解决背景技术中存在的不足，所以本实用新型公开了一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置。

技术方案：一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置，包括台架、制备罐、供水机构、搅拌机构和电控箱，所述制备罐设置在台架的台面中部，所述电控箱安装在制备罐的外表面，所述制备罐的上侧边和下侧边分别设置有投料口及排料口，所述制备罐的顶部内壁设置有供水箱，且所述制备罐的顶部与供水箱之间连通设置有供水口；

所述搅拌机构包括搅拌电机和搅拌桨，所述搅拌桨包括一竖向中空轴和连通设置在竖向中空轴外侧的若干根横向中空轴，且所述竖向中空轴和若干根横向中空轴表面均设置有多个喷水口，所述搅拌电机设置在台架的底部，且所述搅拌电机的输出轴依次穿过台架的台面以及制备罐与竖向中空轴一端连接，所述供水箱的底部设置有轴承座，且所述竖向中空轴的另一端穿过轴承座并伸进供水箱内部设置；

所述供水机构包括储水箱和抽水泵，所述储水箱和抽水泵均设置在台架的台面一侧，所述抽水泵与电控箱电连接，且所述储水箱、抽水泵及设置在制备罐上的供水口依次通过管路连接。

进一步的是，每上下两根横向中空管中间均通过加强柱连接。

进一步的是，所述电控箱的内部设置有控制器，所述电控箱的箱门上设置有与控制器电性连接的触摸显示屏。

进一步的是，所述制备罐的排料口通过负压管外接有负压泵，且所述负压泵与控制器电性连接。

进一步的是，所述供水箱的底部一侧设置有液位传感器，且所述液位传感器与控制器电性连接。

本实用新型实现以下有益效果：

本实用新型的搅拌机构不仅能对半导体用剥离液进行搅拌制备，且还能自动将供水箱内的清洁水自动喷洒至制备罐内壁，从而实现对制备罐进行自动清洗，相较于传统的半导体用剥离液制备罐，本实用新型可降低操作人员劳动强度，且还能提高清洗效率。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并于说明书一起用于解释本公开的原理。

图1为本实用新型公开的整体结构示意图。

图2为本实用新型公开的混合罐内部结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

实施例

参考图1-2，一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置，包括台架10、制备罐20、供水机构50、搅拌机构60和电控箱30，制备罐设置在台架的台面中部，电控箱安装在制备罐的外表面，制备罐的上侧边和下侧边分别设置有投料口22及排料口23，制备罐的顶部内壁设置有供水箱24，且制备罐的顶部与供水箱之间连通设置有供水口21；

搅拌机构包括搅拌电机61和搅拌桨62，搅拌桨包括一竖向中空轴621和连通设置在竖向中空轴外侧的若干根横向中空轴622，且竖向中空轴和若干根横向中空轴表面均设置有多个喷水口623，搅拌电机设置在台架的底部，且搅拌电机的输出轴依次穿过台架的台面以及制备罐与竖向中空轴一端连接，供水箱的底部设置有轴承座，且竖向中空轴的另一端穿过轴承座90并伸进供水箱内部设置；

供水机构包括储水箱51和抽水泵52，储水箱和抽水泵均设置在台架的台面一侧，抽水泵与电控箱电连接，且储水箱、抽水泵及设置在制备罐上的供水口依次通过管路连接。

在其中一个实施例中，每上下两根横向中空管中间均通过加强柱连接624，通过加强柱的设置，能提高横向中空管的整体结构，避免在其搅拌过程中发生损坏，有效的提高其工作寿命。

在其中一个实施例中，电控箱的内部设置有控制器(本实用新型未示出)，电控箱的箱门31上设置有与控制器电性连接的触摸显示屏40，操作人员可通过该显示屏手动对各个部件进行控制。

在其中一个实施例中，制备罐的排料口通过负压管70外接有负压泵80，且负压泵与控制器电性连接，在对制备罐内的物料制备结束后或者对制备罐进行清洗时，操作人员可通过触摸显示屏控制负压泵打开。

在其中一个实施例中，供水箱的底部一侧设置有液位传感器53，且液位传感器与控制器电性连接，该液位传感器检测到的水位情况将实时发生至触摸显示屏上，以方便操作人员对储水箱内的水位进行实时监测。

本实用新型的操作原理为，操作人员将用于制备半导体用剥离液的各种物料通过投料口投送至制备罐内，随后通过操作触摸显示屏控制搅拌电机带动搅拌桨工作对各种物料进行搅拌，在搅拌结束后，操作人员再控制负压泵将制备罐内的物料抽走，在此结束后，再操作触摸显示屏控制抽水泵向供水箱内供水，此时搅拌电机仍然带动搅拌桨工作，而且搅拌桨还会将供水箱内的清洁水喷洒到制备罐的内壁，从而对其进行清洗，在对制备罐清洗过程中，负压泵也将进行工作以对制备罐内的废水进行排除。

以下着重说明的是，本实用新型所采用的所有电气原件均为已知技术，本实用新型在此不做过多赘述。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的是让熟悉该技术领域的技术人员能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此来限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作出的等同变换或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置，其特征在于，包括台架、制备罐、供水机构、搅拌机构和电控箱，所述制备罐设置在台架的台面中部，所述电控箱安装在制备罐的外表面，所述制备罐的上侧边和下侧边分别设置有投料口及排料口，所述制备罐的顶部内壁设置有供水箱，且所述制备罐的顶部与供水箱之间连通设置有供水口；

所述搅拌机构包括搅拌电机和搅拌桨，所述搅拌桨包括一竖向中空轴和连通设置在竖向中空轴外侧的若干根横向中空轴，且所述竖向中空轴和若干根横向中空轴表面均设置有多个喷水口，所述搅拌电机设置在台架的底部，且所述搅拌电机的输出轴依次穿过台架的台面以及制备罐与竖向中空轴一端连接，所述供水箱的底部设置有轴承座，且所述竖向中空轴的另一端穿过轴承座并伸进供水箱内部设置；

所述供水机构包括储水箱和抽水泵，所述储水箱和抽水泵均设置在台架的台面一侧，所述抽水泵与电控箱电连接，且所述储水箱、抽水泵及设置在制备罐上的供水口依次通过管路连接。

2.根据权利要求1所述的一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置，其特征在于，每上下两根横向中空管中间均通过加强柱连接。

3.根据权利要求1所述的一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置，其特征在于，所述电控箱的内部设置有控制器，所述电控箱的箱门上设置有与控制器电性连接的触摸显示屏。

4.根据权利要求3所述的一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置，其特征在于，所述制备罐的排料口通过负压管外接有负压泵，且所述负压泵与控制器电性连接。

5.根据权利要求3所述的一种自带清洗功能的半导体用剥离液制备装置，其特征在于，所述供水箱的底部一侧设置有液位传感器，且所述液位传感器与控制器电性连接。

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