CN217035581U - 一种供显微镜载晶检验的治具 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及wafer检测技术领域，尤其涉及一种供显微镜载晶检验的治具，包括用于定位晶圆的承载治具，承载治具上成型有多个同轴对齐的且大小不一的凹槽，承载治具侧端部设置有4个旋转手把，承载治具设置有缺口，缺口内设置有升降顶起机构，升降顶起机构包括在缺口内升降的顶起块，顶起块顶部设置有多个与晶圆底面接触的吸盘件；当晶圆片配合相同尺寸大小的凹槽定位放置并检测完成后，拆卸时，顶起块升起，该顶起块升起时，吸盘件与晶圆体的底面贴合，随后继续上顶时，该吸盘会微微吸住晶圆体，上顶时可防止晶圆体移位，防止与凹槽的边缘出现磕碰的现象，使得晶圆体能够沿着凹槽竖直地从承载治具从取出，完成拆卸，有效对晶圆体进行保护。

Description

一种供显微镜载晶检验的治具

技术领域

本实用新型涉及wafer检测技术领域，尤其涉及一种供显微镜载晶检验的治具。

背景技术

目前，使用显微镜检验wafer的操作方式：将wafer从晶舟取出，放置在一块圆形海绵垫，通过旋转海绵垫的四周达到检验wafer的目的。现有的取晶圆操作，需使用真空吸笔取放片时，可能会造成刮伤等异常，检验wafer时需手动聚焦显微镜，而且旋转海绵垫时会误触到wafer，造成刮伤，影响作业人员的效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足提供一种供显微镜载晶检验的治具。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

一种供显微镜载晶检验的治具，包括用于定位晶圆的承载治具，承载治具上成型有多个同轴对齐的且大小不一的凹槽，承载治具侧端部设置有多个旋转手把，承载治具设置有缺口，缺口内设置有对晶圆上顶的升降顶起机构，升降顶起机构包括在缺口内升降的顶起块，顶起块顶部设置有多个与晶圆底面接触的吸盘件。

进一步的：凹槽的截面形状与晶圆形状相同，且均为圆形槽，凹槽的直径由底往高逐渐增加。

进一步的：缺口的一端延伸至凹槽的中心，缺口内设置有对顶起块进行滑动安装的支撑架，顶起块底部设置有在支撑架上升降滑动的滑动支撑座。

进一步的：升降顶起机构还包括在缺口沿长度方向往复滑动的驱动滑块，驱动滑块与滑动支撑座滑动配合并带动滑动支撑座做升降运动。

进一步的：滑动支撑座整体截面呈倒等腰梯形，支撑架成型有与滑动支撑座滑动配合的漏斗槽，滑动支撑座底面成型有第一斜面，驱动滑块成型有与第一斜面的倾斜角度相同的第二斜面。

进一步的：缺口沿长度方向设置有可转动的调节丝杆，驱动滑块安装有与调节丝杆螺纹配合的调节螺套，调节丝杆可转动地带动驱动滑块在缺口内沿长度方向滑动。

进一步的：缺口内外两端分别设置有用于安装调节丝杆的轴承座，调节丝杆的外端设置有用于带动调节丝杆转动的手动旋扭手柄。

进一步的：旋转手把的数量为4个以上，并呈环状等距布置在承载治具的外侧壁。

本实用新型的有益效果：本实用新型的一种供显微镜载晶检验的治具，当晶圆片配合相同尺寸大小的凹槽定位放置并检测完成后，拆卸时，顶起块升起，该顶起块升起时，吸盘件与晶圆体的底面贴合，随后继续上顶时，该吸盘会微微吸住晶圆体，上顶时可防止晶圆体移位，防止与凹槽的边缘出现磕碰的现象，使得晶圆体能够沿着凹槽竖直地从承载治具从取出，完成拆卸，有效对晶圆体进行保护。

附图说明

图1为承载治具的结构示意图。

图2为承载治具的俯视方向的结构示意图。

图3为升降顶起机构的剖面结构示意图。

图4为图3的局部放大结构示意图。

附图标记包括：

1-承载治具、

11-凹槽、12-旋转手把、13-缺口、

2-升降顶起机构、

21-顶起块、22-吸盘件、23-支撑架、24-漏斗槽、25-第一斜面、

26-第二斜面、27-调节丝杆、28-轴承座、29-旋扭手柄、

30-滑动支撑座、31-驱动滑块、32-调节螺套。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型进行详细的描述。

如图1-4所示，一种供显微镜载晶检验的治具，包括用于定位晶圆的承载治具1，承载治具1上成型有多个同轴对齐的且大小不一的凹槽11，承载治具1侧端部设置有多个旋转手把12，承载治具1设置有缺口13，缺口13内设置有对晶圆上顶的升降顶起机构2，升降顶起机构2包括在缺口13内升降的顶起块21，顶起块21顶部设置有多个与晶圆底面接触的吸盘件22。

旋转手把12的数量为4个以上，并呈环状等距布置在承载治具1的外侧壁，可通过转动旋转手把12带动承载治具1转动，便于对定位在承载治具1中的晶圆体顶起取出。

不同的凹槽11可用于定位放置不同尺寸大小的晶圆片，当晶圆片配合相同尺寸大小的凹槽11定位放置并检测完成后，需要对该晶圆片进行拆卸，拆卸时，顶起块21升起，该顶起块21升起时，使得位于顶起块21顶部的吸盘件22与晶圆体的底面贴合，形成一定的吸合力，随后继续上顶时，该吸盘会微微吸住晶圆体，上顶时可防止晶圆体移位，防止与凹槽11的边缘出现磕碰的现象，使得晶圆体能够沿着凹槽11竖直地从承载治具1从取出，完成拆卸，有效对晶圆体进行保护。

具体的，凹槽11的截面形状与晶圆形状相同，且均为圆形槽，凹槽11的直径由底往高逐渐增加，凹槽11的大小分别为5、6、8、12寸，可对应与该尺寸相同的晶圆体进行安装定位，提高了承载治具1的检测多样性。

缺口13的一端延伸至凹槽11的中心，缺口13内设置有对顶起块21进行滑动安装的支撑架23，顶起块21位于凹槽11的中心，并在凹槽11的中心点做升降运动，顶起块21底部设置有在支撑架23上升降滑动的滑动支撑座30，升降顶起机构2还包括在缺口13沿长度方向往复滑动的驱动滑块31，驱动滑块31与滑动支撑座30滑动配合并带动滑动支撑座30做升降运动。

驱动滑块31沿着缺口13长度方向滑动时，当驱动滑块31越靠近顶起块21，驱动滑块31则升起的高度越高，反之则越低，直至低于最低凹槽11的水平面，实现对晶圆体的顶起取料。

具体的，滑动支撑座30整体截面呈倒等腰梯形，支撑架23成型有与滑动支撑座30滑动配合的漏斗槽24，滑动支撑座30底面成型有第一斜面25，驱动滑块31成型有与第一斜面25的倾斜角度相同的第二斜面26，驱动滑块31和顶起块21之间通过第一斜面25和第二斜面26的滑动配合，实现顶起块21在支撑架23的漏斗槽24上竖直升降，且漏斗槽24配合倒等腰梯形的滑动支撑座30，滑动支撑座30的最低面截面大于漏斗槽24的截面面积，可防止滑动支撑座30从支撑架23中滑落。

需要对顶起块21顶起或下降时，缺口13沿长度方向设置有可转动的调节丝杆27，驱动滑块31安装有与调节丝杆27螺纹配合的调节螺套32，调节丝杆27可转动地带动驱动滑块31在缺口13内沿长度方向滑动，缺口13内外两端分别设置有用于安装调节丝杆27的轴承座28，调节丝杆27的外端设置有用于带动调节丝杆27转动的手动旋扭手柄29。

通过手动旋钮手柄29的转动，带动安装在缺口13两端的调节丝杆27转动，在转动时，驱动滑块31上的调节螺套32与调节丝杆27螺纹配合，使得驱动滑块31沿着调节丝杆27往复滑动，在滑动时，驱动滑块31顶部的第二斜面26与滑动支撑座30底面的第一斜面25滑动配合，从而带动驱动滑块31在漏斗槽24上在竖直方向上做升降运动，从而带动晶圆体在凹槽11从顶起，方便取出，无需直接接触。

综上所述可知本实用新型乃具有以上所述的优良特性，得以令其在使用上，增进以往技术中所未有的效能而具有实用性，成为一极具实用价值的产品。

以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (8)

1.一种供显微镜载晶检验的治具，包括用于定位晶圆的承载治具，其特征在于：所述承载治具上成型有多个同轴对齐的且大小不一的凹槽，承载治具侧端部设置有多个旋转手把，承载治具设置有缺口，缺口内设置有对晶圆上顶的升降顶起机构，升降顶起机构包括在缺口内升降的顶起块，顶起块顶部设置有多个与晶圆底面接触的吸盘件。

2.根据权利要求1所述的一种供显微镜载晶检验的治具，其特征在于：所述凹槽的截面形状与晶圆形状相同，且均为圆形槽，凹槽的直径由底往高逐渐增加。

3.根据权利要求1所述的一种供显微镜载晶检验的治具，其特征在于：所述缺口的一端延伸至凹槽的中心，缺口内设置有对顶起块进行滑动安装的支撑架，顶起块底部设置有在支撑架上升降滑动的滑动支撑座。

4.根据权利要求3所述的一种供显微镜载晶检验的治具，其特征在于：所述升降顶起机构还包括在缺口沿长度方向往复滑动的驱动滑块，驱动滑块与滑动支撑座滑动配合并带动滑动支撑座做升降运动。

5.根据权利要求4所述的一种供显微镜载晶检验的治具，其特征在于：所述滑动支撑座整体截面呈倒等腰梯形，支撑架成型有与滑动支撑座滑动配合的漏斗槽，滑动支撑座底面成型有第一斜面，驱动滑块成型有与第一斜面的倾斜角度相同的第二斜面。

6.根据权利要求5所述的一种供显微镜载晶检验的治具，其特征在于：所述缺口沿长度方向设置有可转动的调节丝杆，驱动滑块安装有与调节丝杆螺纹配合的调节螺套，调节丝杆可转动地带动驱动滑块在缺口内沿长度方向滑动。

7.根据权利要求6所述的一种供显微镜载晶检验的治具，其特征在于：所述缺口内外两端分别设置有用于安装调节丝杆的轴承座，调节丝杆的外端设置有用于带动调节丝杆转动的手动旋扭手柄。

8.根据权利要求1～7任一项所述的一种供显微镜载晶检验的治具，其特征在于：所述旋转手把的数量为4个以上，并呈环状等距布置在承载治具的外侧壁。

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