CN216946772U - 一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃,其特征在于,包括超白玻璃基板;在超白玻璃基板上A面镀有一层第一五氧化二铌膜,在第一五氧化二铌膜的上表面镀有一层第一二氧化硅膜,在第一二氧化硅膜的上表面镀有一层第二五氧化二铌膜,在第二五氧化二铌膜的上面镀有一层第二二氧化硅膜;在超白玻璃基板上B面镀有一层第一五氧化二铌膜,在第一五氧化二铌膜的上表面镀有一层第一二氧化硅膜,在第一二氧化硅膜的上表面镀有一层第二五氧化二铌膜,在第二五氧化二铌膜的上表面镀有一层第二二氧化硅膜,在第二二氧化硅膜上,镀有一层第三五氧化二铌膜;在超白玻璃基板的A面形成减反射的AR膜,B面形成镜面反射的FR50膜。
Description
技术领域
本实用新型涉及镀膜玻璃技术领域,尤其涉及一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃。
背景技术
分光镀膜玻璃,也称之为分光片,通过立式镀膜玻璃生产线,在高度净化的厂房环境中,利用大面积镀膜生产中的旋转阴极磁控溅镀技术,在超白玻璃上溅射五氧化二铌和氧化硅镀层而得到的镀膜玻璃产品。以前的分光片,只对一面玻璃镀FR50膜,另一面没有镀膜。这样的分光片,在使用的时候,会受到非镀膜面的影响,致使精度受到影响。非镀膜面的45度反射接近5%左右。受到玻璃折射率影响,45度附近,反射随角度变化都有变化。
已有技术中的分光镀膜玻璃,为了实现45度角干扰较少的分光效果,可以通过一片镀 FR50膜的玻璃,和一片镀AR膜的镀膜玻璃,用PVB夹胶的方式实现两面都有镀膜。这种方式,成本高,玻璃太厚太重,使用场景范围窄。
实用新型内容
针对现有分光片,分光效果易受另一面的影响,本实用新型采用两面镀膜;一面镀镜面 FR50反射膜,一面镀减反射AR膜,在45度角上,实现更好的分光效果,更能满足分光光度计和光标仪等光学仪器的要求。
本实用新型采用以下的技术方案:
本实用新型公开了一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃,其特征在于,包括超白玻璃基板;
在超白玻璃基板上A面镀有一层第一五氧化二铌膜,在第一五氧化二铌膜的上表面镀有一层第一二氧化硅膜,在第一二氧化硅膜的上表面镀有一层第二五氧化二铌膜,在第二五氧化二铌膜的上面镀有一层第二二氧化硅膜;
在超白玻璃基板上B面镀有一层第一五氧化二铌膜,在第一五氧化二铌膜的上表面镀有一层第一二氧化硅膜,在第一二氧化硅膜的上表面镀有一层第二五氧化二铌膜,在第二五氧化二铌膜的上表面镀有一层第二二氧化硅膜,在第二二氧化硅膜上,镀有一层第三五氧化二铌膜;
在超白玻璃基板的A面形成减反射的AR膜,B面形成镜面反射的FR50膜。
优选的,所述AR膜45度角单面反射小于1%,所述FR50膜45度角反射50±3%。
优选的,所述FR50膜45度角反射50%。
优选的,所述FR50膜45度角透射50±3%。
优选的,所述AR膜、FR50膜,在45度角下,透射CRI指数≥99.0%,反射CRI指数≥90.0%。
优选的,A面镀减反射的AR膜:
所述第一五氧化二铌膜的厚度为14.5纳米;
所述第一二氧化硅膜的厚度为36.5纳米;
所述第二五氧化二铌膜的厚度为115.4纳米;
所述第二二氧化硅膜的厚度为101纳米;
B面镀镜面反射的FR50膜:
所述第一五氧化二铌膜的厚度为20.2纳米;
所述第一二氧化硅膜的厚度为26.3纳米;
所述第二五氧化二铌膜的厚度为65.7纳米;
所述第二二氧化硅膜的厚度为104纳米;
所述第三五氧化二铌膜的膜厚为58纳米。
与现有技术相比,本实用新型具有的有益效果是:
本实用新型提供的45度角下,FR50膜的反射50±3%、AR面的反射小于1%的分光镀膜玻璃,通过依次在A面镀五氧化二铌膜、二氧化硅膜,共四层膜,并设置相应的厚度关系,在 B面镀五氧化二铌膜、二氧化硅膜,共5层膜,并设置相应关系,五氧化二铌的折射率远大于二氧化硅,其分光的效果比传统分光片要好很多。
最重要的,本实用新型在45度角下,分光效果只在B面单面分光,不受到A面的反射影响,可用在分光光度仪、色标传感器等高级仪器设备。并且,由于采用双面镀膜线,两面镀膜一次成型,既降低了成本,又提高了成品率。
附图说明
图1为本实用新型的一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃的结构示意图;
图2为本实用新型的一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃的反射图;
图中,0-超白玻璃基板,1-第一五氧化二铌膜,2-第一二氧化硅膜,3-第二五氧化二铌膜,4-第二二氧化硅膜,1’-第一五氧化二铌膜,2’-第一二氧化硅膜,3’-第二五氧化二铌膜,4’-第二二氧化硅膜,5’-第三五氧化二铌膜。
具体实施方式
附图仅用于示例性说明;为了更好说明本实施例,附图某些部件会省略、放大或缩小,并不代表实际产品的尺寸;对于本领域的技术人员来说,附图中的某些公知结构及其说明可能省略,因此,不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的而不能理解为指示或者暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者暗示地包括至少一个该特征。
为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
如图1、图2所示,一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃,其特征在于,包括超白玻璃基板0,在超白玻璃基板0的A面镀减反射AR膜,B面镀镜面FR50膜;
在超白玻璃基板0上A面镀有一层第一五氧化二铌膜1,在第一五氧化二铌膜1的上表面镀有一层第一二氧化硅膜2,在第一二氧化硅膜2的上表面镀有一层第二五氧化二铌膜3,在第二五氧化二铌膜3的上面镀有一层第二二氧化硅膜4;
在超白玻璃基板0上B面镀有一层第一五氧化二铌膜1’,在第一五氧化二铌膜1’的上表面镀有一层第一二氧化硅膜2’,在第一二氧化硅膜2’的上表面镀有一层第二五氧化二铌膜3’,在第二五氧化二铌膜3’的上表面镀有一层第二二氧化硅膜4’,在第二二氧化硅膜4’上,镀有一层第三五氧化二铌膜5’。
在超白玻璃基板0的A面形成减反射的AR膜,B面形成反射50±3%的镜面反射的FR50 膜。
镀减反射的AR膜面45度单面反射小于1%,镀镜面反射的FR50膜45度反射为50%。超白玻璃基板0的A面镀4层膜,B面镀5层膜,玻璃双面镀膜,非对称镀膜,是一种分光镀膜玻璃。
五氧化二铌为高折射率材料,而二氧化硅为低折射率材料,它们组合在A面形成减反射膜层,在B面形成反射为50%的镜面膜,两面镀膜,能够带来B面45度角反射50%、45度角透射50±3%。在45度角下,透射CRI指数≥99.0%,反射CRI指数≥90.0%,可作为性能优异的分光镀膜玻璃片,用在分光光度计等各种仪器中。
实施例,镀膜厚度为最佳厚度。
A面镀减反射的AR膜:
第一五氧化二铌膜1的厚度为14.5纳米;
第一二氧化硅膜2的厚度为36.5纳米;
第二五氧化二铌膜3的厚度为115.4纳米;
第二二氧化硅膜4的厚度为101纳米;
B面镀镜面反射的FR50膜:
第一五氧化二铌膜1’的厚度为20.2纳米;
第一二氧化硅膜2’的厚度为26.3纳米;
第二五氧化二铌膜3’的厚度为65.7纳米;
第二二氧化硅膜4’的厚度为104纳米;
第三五氧化二铌膜5’的膜厚为58纳米。
经大量的试验表明,在上述厚度组合下,该镀膜玻璃的45度反射50%,45度透射50%,其CRI指数大于99.0%、反射CRI指数≥90.0%、AR面的单面反射<1%。
当然,上述说明并非是对本实用新型的限制,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,本实用新型也并不仅限于上述举例,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换,也应属于本实用新型的保护范围,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃,其特征在于,包括超白玻璃基板;
在超白玻璃基板上A面镀有一层第一五氧化二铌膜,在第一五氧化二铌膜的上表面镀有一层第一二氧化硅膜,在第一二氧化硅膜的上表面镀有一层第二五氧化二铌膜,在第二五氧化二铌膜的上面镀有一层第二二氧化硅膜;
在超白玻璃基板上B面镀有一层第一五氧化二铌膜,在第一五氧化二铌膜的上表面镀有一层第一二氧化硅膜,在第一二氧化硅膜的上表面镀有一层第二五氧化二铌膜,在第二五氧化二铌膜的上表面镀有一层第二二氧化硅膜,在第二二氧化硅膜上,镀有一层第三五氧化二铌膜;
在超白玻璃基板的A面形成减反射的AR膜,B面形成镜面反射的FR50膜。
2.根据权利要求1所述的一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃,其特征在于,所述AR膜45度角单面反射小于1%,所述FR50膜45度角反射50±3%。
3.根据权利要求2所述的一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃,其特征在于,所述FR50膜45度角反射50%。
4.根据权利要求1所述的一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃,其特征在于,所述FR50膜45度角透射50±3%。
5.根据权利要求1所述的一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃,其特征在于,所述AR膜、FR50膜,在45度角下,透射CRI指数≥99.0%,反射CRI指数≥90.0%。
6.根据权利要求1所述的一种45度角反射50%的分光镀膜玻璃,其特征在于,A面镀减反射的AR膜:
所述第一五氧化二铌膜的厚度为14.5纳米;
所述第一二氧化硅膜的厚度为36.5纳米;
所述第二五氧化二铌膜的厚度为115.4纳米;
所述第二二氧化硅膜的厚度为101纳米;
B面镀镜面反射的FR50膜:
所述第一五氧化二铌膜膜的厚度为20.2纳米;
所述第一二氧化硅膜的厚度为26.3纳米;
所述第二五氧化二铌膜的厚度为65.7纳米;
所述第二二氧化硅膜的厚度为104纳米;
所述第三五氧化二铌膜的膜厚为58纳米。
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