CN216935960U - 一种密闭式隔离系统的排水结构 - Google Patents

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王鹏千
杨睿
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Abstract

本实用新型涉及容器排水领域,具体公开了一种密闭式隔离系统的排水结构,包括反应釜,所述反应釜的内部安装有底板,所述底板的外侧安装有转动滑块,所述转动滑块的外侧位于所述反应釜的内侧壁设置有滑槽,所述底板的上表面开设有排水孔,所述下封板的上表面位于所述排水孔的内部安装有顶柱,所述底板的下表面位于所述下封板的下方通过转轴安装有转动电机,所述下封板的下表面安装有升降连杆,所述升降连杆的下端连接有升降电机。控制升降连杆带动下封板向远离底板的方向进行移动时,会使得顶柱断开和排水孔的限位作用,电机利用转轴带动底板整体进行旋转,因此在底板上表面存在的清洗用的水会在离心力的作用下向排水孔中排出。

Description

一种密闭式隔离系统的排水结构
技术领域
本实用新型涉及容器排水领域,具体是一种密闭式隔离系统的排水结构。
背景技术
目前很多药品含有毒性,在制药过程中需要严格执行药与人分离的操作规范,这对隔离器的密闭性要求也会很高,由于高密闭性的隔离器腔体内不能开门进行灭菌清洗操作,故清洗后的水分需要通过基座底板开孔然后再由与其对接的排水管道来完成排放。
但是,由于传统的排水管是直接连接在罐体的外侧,在排水时,排水管和罐体的连接处没排完的水容易堆积产生污染。
实用新型内容
针对现有的问题,本实用新型提供一种密闭式隔离系统的排水结构,该装置组件配合使用可以有效的解决背景技术中提出的问题。
为解决上述问题,本实用新型采用如下的技术方案:
一种密闭式隔离系统的排水结构,包括反应釜,所述反应釜的内部安装有底板,所述底板的外侧安装有转动滑块,所述转动滑块的外侧位于所述反应釜的内侧壁设置有滑槽,所述底板的上表面开设有排水孔,所述底板的下方安装有下封板,所述下封板的上表面位于所述排水孔的内部安装有顶柱,所述底板的下表面位于所述下封板的下方通过转轴安装有转动电机,所述下封板的内部位于所述转轴的外侧套接有移动套环,所述下封板的下表面安装有升降连杆,所述升降连杆的下端连接有升降电机。
作为本实用新型再进一步的方案:所述反应釜的一侧安装有清洗管,所述下封板的下方位于所述反应釜的侧表面安装有排水管。
作为本实用新型再进一步的方案:所述反应釜的上端安装有密封盖,所述反应釜的下端安装有滚轮。
作为本实用新型再进一步的方案:所述顶柱与所述排水孔卡接,所述转动电机通过转轴与所述底板转动连接。
作为本实用新型再进一步的方案:所述清洗管与所述排水管均与所述反应釜贯通连接。
作为本实用新型再进一步的方案:所述密封盖的下表面位于所述反应釜的内侧安装有密封垫。
作为本实用新型再进一步的方案:所述下封板通过所述移动套环与所述转轴活动连接,所述升降连杆与所述下封板固定连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
利用升降电机控制升降连杆带动下封板向远离底板的方向进行移动时,会使得顶柱断开和排水孔的限位作用,因此,通过控制转动电机利用转轴带动底板整体进行旋转,因此在底板上表面存在的清洗用的水会在离心力的作用下向着远离底板圆心方向进行移动,从而从排水孔中排出。
在下封板的上表面位于排水孔的下方对应设置有顶柱,在当底板和下封板的位置相互贴合时,则排水孔和顶柱相互卡接限位,可以利用底板来进行反应的承托作用。
附图说明
图1为一种密闭式隔离系统的排水结构的结构示意图;
图2为一种密闭式隔离系统的排水结构中反应釜的剖视图;
图3为一种密闭式隔离系统的排水结构中排水机构的结构示意图;
图4为一种密闭式隔离系统的排水结构中排水机构的仰视图。
图中:1、反应釜;2、清洗管;3、排水管;4、密封盖;5、滚轮;6、底板;7、下封板;8、转动电机;9、升降电机;601、排水孔;602、转动滑块;701、顶柱;702、移动套环;901、升降连杆。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型作进一步说明。
如图1-4所示,在本实施例中,结合图1至图3说明本实施方式,本实施方式提供了一种密闭式隔离系统的排水结构,包括反应釜1,在反应釜1的内部设置有排水机构来控制反应釜1的反应和排水作业,排水机构有底板6和下封板7组成,在底板6的上表面位于远离圆心的位置环形整列贯通设置排水孔601,在下封板7的上表面位于排水孔601的下方对应设置有顶柱701,在当底板底板6和下封板7的位置相互贴合时,则排水孔601和顶柱701相互卡接限位,底板6的外侧安装有转动滑块602,转动滑块602的外侧位于反应釜1的内侧壁设置有滑槽,底板6可以用于反应釜1内部反应液的承托作用,底板6的下表面位于下封板7的下方通过转轴安装有转动电机8,下封板7的内部位于转轴的外侧套接有移动套环702,下封板7的下表面安装有升降连杆901,升降连杆901的下端连接有升降电机9,利用升降电机9控制升降连杆901带动下封板7向远离底板6的方向进行移动时,会使得顶柱701断开和排水孔601的限位作用,因此,通过控制转动电机8利用转轴带动底板6整体进行旋转,因此在底板6上表面存在的清洗用的水会在离心力的作用下向着远离底板6圆心方向进行移动,从而,方便将废水进行排放到的位于下封板7下方的反应釜1的内部。
如图1-2所示,在本实施例中,反应釜1的一侧安装有清洗管2,利用清洗管2可以对底板6和反应釜1进行冲洗作用,下封板7的下方位于反应釜1的侧表面安装有排水管3,排水管3在反应釜1的内部呈倾斜式布设,在当从排水孔601内部排出的水会从排水管3排到外侧,反应釜1的上端安装有密封盖4,反应釜1的下端安装有滚轮5。
本实用新型的工作原理是:在进行使用时,利用清洗管2向反应釜1的内部进行注水冲洗,利用升降电机9控制升降连杆901带动下封板7向远离底板6的方向进行移动时,会使得顶柱701断开和排水孔601的限位作用,再通过控制转动电机8带动底板6进行转动,在底板6上表面存在的清洗用的水会在离心力的作用下向着远离底板6圆心方向进行移动,从而,方便将废水进行排放到的位于下封板7下方的反应釜1的内部,在当从排水孔601内部排出的水会从排水管3排到外侧。
以上实施例仅供说明本实用新型之用,而非对本实用新型的限制,有关技术领域的技术人员,在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下,还可以作出各种变换或变型,因此所有等同的技术方案也应该属于本实用新型的范畴,应由各权利要求所限定。

Claims (7)

1.一种密闭式隔离系统的排水结构,包括反应釜(1),其特征在于,所述反应釜(1)的内部安装有底板(6),所述底板(6)的外侧安装有转动滑块(602),所述转动滑块(602)的外侧位于所述反应釜(1)的内侧壁设置有滑槽,所述底板(6)的上表面开设有排水孔(601),所述底板(6)的下方安装有下封板(7),所述下封板(7)的上表面位于所述排水孔(601)的内部安装有顶柱(701),所述底板(6)的下表面位于所述下封板(7)的下方通过转轴安装有转动电机(8),所述下封板(7)的内部位于所述转轴的外侧套接有移动套环(702),所述下封板(7)的下表面安装有升降连杆(901),所述升降连杆(901)的下端连接有升降电机(9)。
2.根据权利要求1所述的一种密闭式隔离系统的排水结构,其特征在于,所述反应釜(1)的一侧安装有清洗管(2),所述下封板(7)的下方位于所述反应釜(1)的侧表面安装有排水管(3)。
3.根据权利要求1所述的一种密闭式隔离系统的排水结构,其特征在于,所述反应釜(1)的上端安装有密封盖(4),所述反应釜(1)的下端安装有滚轮(5)。
4.根据权利要求1所述的一种密闭式隔离系统的排水结构,其特征在于,所述顶柱(701)与所述排水孔(601)卡接,所述转动电机(8)通过转轴与所述底板(6)转动连接。
5.根据权利要求2所述的一种密闭式隔离系统的排水结构,其特征在于,所述清洗管(2)与所述排水管(3)均与所述反应釜(1)贯通连接。
6.根据权利要求3所述的一种密闭式隔离系统的排水结构,其特征在于,所述密封盖(4)的下表面位于所述反应釜(1)的内侧安装有密封垫。
7.根据权利要求1所述的一种密闭式隔离系统的排水结构,其特征在于,所述下封板(7)通过所述移动套环(702)与所述转轴活动连接,所述升降连杆(901)与所述下封板(7)固定连接。
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