CN216873482U - 均匀性高的蚀刻装置 - Google Patents

Abstract

一种均匀性高的蚀刻装置，其包括蚀刻槽、喷淋装置、吸液装置及传送装置，所述传送装置设置于蚀刻槽上方，其用于对待蚀刻产品进行传送。所述喷淋装置分别设置于传送装置的上下两侧，以对产品的上下表面进行喷淋蚀刻液，所述吸液装置设置于传送装置的外侧，以用于吸取产品上的余液。本实用新型通过设置喷淋装置、预喷淋区、喷淋区、虹吸吸液装置对产品进行表面喷淋及吸液回收，有效减少了水池效应的产生，提高了蚀刻的均匀度，且提高了蚀刻液回收利用率。本实用新型的实用性强，具有较强的推广意义。

Description

均匀性高的蚀刻装置

技术领域

本实用新型涉及一种蚀刻装置，尤其涉及一种蚀刻均匀度高的蚀刻装置。

背景技术

引线框架是集成线路芯片的载体，是电子信息产业中重要的基础材料，其主要材料是铜合金。其主要生产方式为先冲压、冲压完成后再进行蚀刻加工，以实现高密度和多脚数引线框架的生产。然而，在对引线框架进行蚀刻时，由于水池效应的存在，会导致引线框架边沿的位置的铜带蚀刻的程度要远大于中部蚀刻的程度，即引线框架边沿与中部的蚀刻速度不一致，影响了引线框架蚀刻的均匀性。

实用新型内容

为此，针对现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种均匀性高的蚀刻装置。

一种均匀性高的蚀刻装置，包括蚀刻槽，还包括喷淋装置、吸液装置及传送装置，所述传送装置设置于蚀刻槽上方，所述喷淋装置分别设置于传送装置的上下两侧，所述吸液装置设置于传送装置的外侧；所述传送装置包括上下相对设置的上传动轮组及下传动轮组，所述上传动轮组及下传动轮组上均分别设置有预喷淋及喷淋区，所述上传动轮组的喷淋区、预喷淋区与下传动轮组的喷淋区、预喷淋区均呈错位设置；所述喷淋装置包括主管及连接于主管上的两支管，两所述支管上装设有喷淋头，两支管分别延伸于产品的上表面上方及下表面下方，两支管上的喷淋头分别对产品上表面及下表面进行喷淋加工；所述吸液装置包括抽取管、虹吸泵、回液管、连接管、吸液管、吸液头及过滤槽，所述抽取管一端连接于蚀刻槽内，另一端连接于虹吸泵，所述回液管一端连接于虹吸泵上，另一端连接于连接管上及过滤槽内；所述连接管连接于吸液管上，所述吸液管延伸于传送装置上产品的外侧；所述吸液头装设于吸液管上，且相邻吸液头呈上下错位设置。

进一步地，所述喷淋区及预喷淋区于传送方向的前后两侧均设置有喷淋挡板。

进一步地，所述喷淋装置还包括抽液管及喷淋泵，所述抽液管的一端连接于蚀刻槽，另一端连接于所述主管上。

进一步地，所述吸液头的下端面呈水平设置，该吸液头的下端面上设置有吸液口，所述吸液口自上向下呈孔径逐渐变小设置。

进一步地，所述吸液装置上还设置有机械臂，所述机械臂带动吸液头前后、左右移动。

进一步地，所述过滤槽连接于所述蚀刻槽内，该过滤槽的位置高于蚀刻槽液位或设置有泵。

进一步地，所述喷淋头上还设置有感应开关，该喷淋头与喷淋管连接的一端上还设置有旋转装置，所述旋转装置带动喷淋头旋转。

综上所述，本实用新型通过设置喷淋装置20、预喷淋区41、喷淋区42、虹吸吸液装置对产品进行表面喷淋及吸液回收，有效减少了水池效应的产生，提高了蚀刻的均匀度，且提高了蚀刻液回收利用率。本实用新型的实用性强，具有较强的推广意义。

附图说明

图1为本实用新型均匀性高的蚀刻装置的结构示意图；

图2为图1中蚀刻装置的部分侧面结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。

如图1和图2所示，本实用新型提供了一种均匀性高的蚀刻装置，所述均匀性高的蚀刻装置包括蚀刻槽10、喷淋装置20、吸液装置30及传送装置40，所述传送装置40设置于蚀刻槽10上方，其用于对待蚀刻产品进行传送。所述喷淋装置20分别设置于传送装置40的上下两侧，以对产品的上下表面进行喷淋蚀刻液，所述吸液装置30设置于传送装置40的外侧，以用于吸取产品上的余液。

所述传送装置40包括上下相对设置的上传动轮组及下传动轮组，所述上传动轮组及下传动轮组上均分别设置有预喷淋41及喷淋区42，对应于喷淋区41位置的上传动轮组或下传动轮组上设有传动轮缺失口，以便于喷淋装置20对产品表面进行喷淋。本实施例中，所述上传动轮组的喷淋区41与下传动轮组的喷淋区41呈错位设置，从而可确保传动的稳定进行。所述喷淋区41于传送方向的前后两侧均设置有喷淋挡板43，以避免喷淋装置20将蚀刻液喷淋至其它区域。

所述喷淋装置20包括抽液管21、喷淋泵22、喷淋管及喷淋头23，所述抽液管21的一端连接于蚀刻槽10，另一端连接于喷淋泵22，所述喷淋管的一端连接于喷淋泵22上，另一端延伸于蚀刻槽10内，所述喷淋头23装设于喷淋管上。所述喷淋泵22将蚀刻槽10的蚀刻液抽取至喷淋管内，喷淋管内的蚀刻液再自喷淋头23喷至产品上。本实施例中，所述喷淋管包括主管24及连接于主管24上的两支管25，所述喷淋头23装设于两支管25上。两所述支管25分别延伸于产品的上表面上方及下表面下方，两支管上的喷淋头分别对产品上表面及下表面进行喷淋加工。

本实施例中，所述支管25上对应于每一所述喷淋区41设置有一喷淋头23组，所述喷淋头组包括一个以上的喷淋头23，且对应于每一喷淋区41的喷淋头23中的至少一个为预喷淋头，预喷淋头的数量及位置根据产品上预喷淋区域的大小及位置实时设计。所述喷淋头23上还设置有感应开关，所述感应开关不仅可进行水量大小调节、且可进行喷雾大小、喷淋区域大小调节，其原理类似于淋浴头。此外，所述喷淋头23与喷淋管连接的一端上还设置有旋转装置26，所述旋转装置26可带动喷淋头23旋转，以对产品的各区域进行无死角喷淋。

所述吸液装置30包括抽取管31、虹吸泵32、回液管33、连接管34、吸液管35及吸液头36，所述抽取管31一端连接于蚀刻槽10内，另一端连接于虹吸泵32，所述回液管33一端连接于虹吸泵32上，另一端连接于连接管34上及蚀刻槽10上；所述连接管34连接于吸液管34上，所述吸液管34延伸于传送装置40上产品的外侧。所述吸液头36装设于吸液管35上，且相邻吸液头36呈上下错位设置，以分别对应吸取同一传送装置40上不同产品的上、下表面上的余液。此外，所述连接管上34是还设置有一气动阀37。所述吸液头36的下端面呈水平设置，该吸液头36的下端面上设置有吸液口38，所述吸液口38自上向下呈孔径逐渐变小设置。所述吸液头36通过机械臂带动其前后、左右移动，以吸取产品表面上的余液。此外，所述蚀刻槽10于吸液装置30一侧还设置有一过滤槽39，所述过滤槽39内设置有过滤装置，所述回液管33的一端延伸于所述过滤槽39内，自产品上吸取的余液流至过滤槽39内过滤后，再回流至蚀刻槽10内进行回收利用。

工作时，所述传送装置40将产品传送至预喷淋区41，由喷淋22抽取蚀刻槽10内的药液通过上两支管25将药液喷淋到产品上下表面上。具体地，所述预喷淋区41对应的喷淋头23先对产品上易产生水池效应的位置进行预喷，同时在进行预喷时，所述喷淋头23的喷淋速度、喷淋量、喷淋角度及区域根据预喷区域自动调节。喷淋完后，所述吸液头36吸取产品表面的余液。然后再将产品传送至喷淋区42，所述喷淋区42对应的喷淋头23对整个产品表面进行喷淋。此后，所述虹吸泵32抽取蚀刻10内的药液通过回液管33内的液体流速差在吸液管35内产生负压，吸液管35通过吸液头34吸取产品表面的药液，再通过连接管34和气动阀37回到回液管33，从虹吸管22的液体回到蚀刻槽10内。

综上所述，本实用新型通过设置喷淋装置20、预喷淋区41、喷淋区42、虹吸吸液装置对产品进行表面喷淋及吸液回收，有效减少了水池效应的产生，提高了蚀刻的均匀度，且提高了蚀刻液回收利用率。本实用新型的实用性强，具有较强的推广意义。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不因此而理解为对本实用新型专利范围的限制，应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围，因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (7)

1.一种均匀性高的蚀刻装置，包括蚀刻槽，其特征在于：还包括喷淋装置、吸液装置及传送装置，所述传送装置设置于蚀刻槽上方，所述喷淋装置分别设置于传送装置的上下两侧，所述吸液装置设置于传送装置的外侧；所述传送装置包括上下相对设置的上传动轮组及下传动轮组，所述上传动轮组及下传动轮组上均分别设置有预喷淋及喷淋区，所述上传动轮组的喷淋区、预喷淋区与下传动轮组的喷淋区、预喷淋区均呈错位设置；所述喷淋装置包括主管及连接于主管上的两支管，两所述支管上装设有喷淋头，两支管分别延伸于产品的上表面上方及下表面下方，两支管上的喷淋头分别对产品上表面及下表面进行喷淋加工；所述吸液装置包括抽取管、虹吸泵、回液管、连接管、吸液管、吸液头及过滤槽，所述抽取管一端连接于蚀刻槽内，另一端连接于虹吸泵，所述回液管一端连接于虹吸泵上，另一端连接于连接管上及过滤槽内；所述连接管连接于吸液管上，所述吸液管延伸于传送装置上产品的外侧；所述吸液头装设于吸液管上，且相邻吸液头呈上下错位设置。

2.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述喷淋区及预喷淋区于传送方向的前后两侧均设置有喷淋挡板。

3.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述喷淋装置还包括抽液管及喷淋泵，所述抽液管的一端连接于蚀刻槽，另一端连接于所述主管上。

4.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述吸液头的下端面呈水平设置，该吸液头的下端面上设置有吸液口，所述吸液口自上向下呈孔径逐渐变小设置。

5.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述吸液装置上还设置有机械臂，所述机械臂带动吸液头前后、左右移动。

6.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述过滤槽连接于所述蚀刻槽内，该过滤槽的位置高于蚀刻槽液位或设置有泵。

7.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述喷淋头上还设置有感应开关，该喷淋头与喷淋管连接的一端上还设置有旋转装置，所述旋转装置带动喷淋头旋转。

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