CN216871933U - 一种静电吸盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种静电吸盘，包括吸盘本体，所述吸盘本体的表面具有用于分布电荷的分布区域；所述电源设备与所述吸盘本体相连，用于在所述吸盘本体的分布区域内形成正电荷和负电荷；其中，所述正电荷和所述负电荷之间的极性相互抵消；所述接地层设于所述吸盘本体上，用于将所述分布区域包围，本实用新型的静电吸盘，整体结构简单，其在吸盘本体的表面形成均匀分布的正负电荷，正负电荷之间的极性相互抵消，从而在释放电压时不会残留大量的电荷，避免放电现象产生，不会对晶元造成损坏，同时分布区域内的正负电荷被接地层包围，这样即使有漏电现象产生，也能通过接地层传递出去，进一步确保晶元不会造成损坏，保证了晶元的安全性。
Description
技术领域
本实用新型涉及静电设备技术领域，尤其涉及一种静电吸盘。
背景技术
静电吸盘，是一种适用于大气或真空环境的超洁净薄片承载体、抓取搬运设备的总称，其能实现了对一些轻小物件的抓取，如：布料、玻璃、纸盒、半导体，晶元等物件，在社会军事、工业、生活中发挥着越来越重要的作用。
目前在半导体技术领域中，在晶元的工艺腔室处理的过程中采用对静电吸盘通电后以直流高压的方式吸附晶元，现有的静电吸盘一般采用单相电极的模式，在静电吸盘表面只带一种电荷，这样在释放电压时残留大量的电荷，进而产生放电，从而导致可能会破坏晶元表面IC结构。
实用新型内容
本实用新型目的是为了克服现有技术的不足而提供一种结构简单，在吸盘本体上具有相互抵消分布的正负电荷，并且设有将正负电荷包围的接地层，避免在释放电压时产生的电荷对晶元造成损坏的静电吸盘。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种静电吸盘，包括：
吸盘本体，所述吸盘本体的表面具有用于分布电荷的分布区域；
电源设备，所述电源设备与所述吸盘本体相连，用于在所述吸盘本体的分布区域内形成正电荷和负电荷；其中，所述正电荷和所述负电荷之间的极性相互抵消；
接地层，所述接地层设于所述吸盘本体上，用于将所述分布区域包围。
进一步的，所述正电荷和所述负电荷交错分布在所述分布区域内。
进一步的，所述电源设备通过双电极供给吸盘本体通电后在分布区域内形成正电荷和负电荷。
进一步的，所述吸盘本体上还包裹有绝缘层。
进一步的，所述接地层由金属材质构成。
由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：
本实用新型方案的静电吸盘，整体结构简单，其在吸盘本体的表面形成均匀分布的正负电荷，正负电荷之间的极性相互抵消，从而在释放电压时不会残留大量的电荷，避免放电现象产生，不会对晶元造成损坏，同时分布区域内的正负电荷被接地层包围，这样即使有漏电现象产生，也能通过接地层传递出去，进一步确保晶元不会造成损坏，保证了晶元的安全性，满足了实际的使用需求。
附图说明
下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明：
附图1为本实用新型的结构示意图；
其中：1、吸盘本体；2、正电荷；3、负电荷；4、接地层；5、供电设备。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
如附图1所示的本实用新型实施例所述的一种静电吸盘，包括吸盘本体1、接地层4和电源设备5；在本实施例中的吸盘本体1呈圆形状，吸盘本体1的表面具有用于分布电荷的分布区域。
电源设备5与吸盘本体1相连，电源设备5通过双电极供给吸盘本体1通电后在吸盘本体1的分布区域内形成正电荷2和负电荷3，同时正电荷2和负电荷3之间的极性能够实现相互抵消，这样当本静电吸盘在吸附晶元过程中，释放电压时不会残留大量的电荷，放电现象就不会产生，避免晶元受到损坏，确保晶元的安全性；正电荷2和负电荷3之间相互交错分布，使得正负电荷的分布更加的均匀，从而确保正负电荷之间能够更好的相互抵消。
接地层4设置在吸盘本体1上，同时接地层4将分布区域的四周包围，从而将正电荷2和负电荷3包围在接地层4的包裹范围内，这样即使有泄漏的电荷放出，也能够从接地层传导出去，从而不会对晶元的结构造成损坏，进一步保证了晶元的安全。
其中，在吸盘本体1上还包裹有一侧绝缘层，起到绝缘作用。
另外，接地层4由金属材质构成，在本实施例中接地层的材质采用的是铜。
本实用新型的静电吸盘，整体结构简单，其在吸盘本体的表面形成均匀分布的正负电荷，正负电荷之间的极性相互抵消，从而在释放电压时不会残留大量的电荷，避免放电现象产生，不会对晶元造成损坏，同时分布区域内的正负电荷被接地层包围，这样即使有漏电现象产生，也能通过接地层传递出去，进一步确保晶元不会造成损坏，保证了晶元的安全性，满足了实际的使用需求。
以上仅是本实用新型的具体应用范例，对本实用新型的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案，均落在本实用新型权利保护范围之内。
Claims (5)
1.一种静电吸盘，其特征在于，包括：
吸盘本体(1)，所述吸盘本体(1)的表面具有用于分布电荷的分布区域；
电源设备(5)，所述电源设备(5)与所述吸盘本体(1)相连，用于在所述吸盘本体(1)的分布区域内形成正电荷(2)和负电荷(3)；其中，所述正电荷(2)和所述负电荷(3)之间的极性相互抵消；
接地层(4)，所述接地层(4)设于所述吸盘本体(1)上，用于将所述分布区域包围。
2.如权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于：所述正电荷(2)和所述负电荷(3)交错分布在所述分布区域内。
3.如权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于：所述电源设备(5)通过双电极供给吸盘本体(1)通电后在分布区域内形成正电荷和负电荷。
4.如权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于：所述吸盘本体(1)上还包裹有绝缘层。
5.如权利要求1所述的静电吸盘,其特征在于：所述接地层(4)由金属材质构成。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202123121252.4U CN216871933U (zh) | 2021-12-08 | 2021-12-08 | 一种静电吸盘 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202123121252.4U CN216871933U (zh) | 2021-12-08 | 2021-12-08 | 一种静电吸盘 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN216871933U true CN216871933U (zh) | 2022-07-01 |
Family
ID=82147685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202123121252.4U Active CN216871933U (zh) | 2021-12-08 | 2021-12-08 | 一种静电吸盘 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN216871933U (zh) |
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2021
- 2021-12-08 CN CN202123121252.4U patent/CN216871933U/zh active Active
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