CN216759343U - 一种切割面全接触的晶体打磨设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及打磨装置技术领域,尤其为一种切割面全接触的晶体打磨设备,包括装置外壳、吸尘外壳、限位板和柱形外壳,所述装置外壳左右两端均固定连接有吸尘外壳,所述吸尘外壳内侧设有吸尘扇,所述装置外壳上端内侧滑动连接有移动杆,所述移动杆外侧设有第一伸缩弹簧,所述移动杆靠近装置外壳中心点的一端固定连接有限位板,本实用新型中,在对晶体切割面进行打磨的过程中可以对晶体进行稳定的限位,同时通过设置的摩擦板可以有效地防止在对晶体切割面打磨的过程中出现卡滞的情况发生,而且在打磨的过程中可以使晶体切割面和摩擦面全面的接触,具有良好的稳定性,可以在使用的过程中有效地提高晶体切割面的打磨效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及打磨装置技术领域,具体为一种切割面全接触的晶体打磨设备。
背景技术
打磨装置是表面改性技术的一种设备,一般指借助粗糙物体(含有较高硬度颗粒的砂纸等)来通过摩擦改变材料表面物理性能的一种加工设备,主要目的是为了获取特定表面粗糙度,对一种切割面全接触的晶体打磨设备的应用愈加广泛,因此,对一种切割面全接触的晶体打磨设备的需求日益增长,市面上大部分存在的打磨装置在对晶体切割面进行打磨的过程中都不具有对晶体进行限位的设置,而且有些设备在对晶体打磨的过程中不具有防止晶体和打磨装置之间出现卡滞的设置,这样的打磨装置在对晶体切割面进行打磨时效果一般,因此,针对上述问题提出一种切割面全接触的晶体打磨设备。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种切割面全接触的晶体打磨设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种切割面全接触的晶体打磨设备,包括装置外壳、吸尘外壳、限位板和柱形外壳,所述装置外壳左右两端均固定连接有吸尘外壳,所述吸尘外壳内侧设有吸尘扇,所述装置外壳上端内侧滑动连接有移动杆,所述移动杆外侧设有第一伸缩弹簧,所述移动杆靠近装置外壳中心点的一端固定连接有限位板,所述装置外壳下端外侧固定连接有固定支架,所述固定支架上固定连接有电动伸缩杆,所述电动伸缩杆顶端通过下底板固定连接有驱动电机,所述驱动电机主轴顶端固定连接有柱形外壳,所述柱形外壳内侧固定连接有固定板,所述固定板通过导向杆、第二伸缩弹簧和摩擦板连接在一起。
优选的,所述吸尘外壳呈环形的设置,所述吸尘外壳外侧固定连接有过滤网,所述吸尘外壳下端开设有排尘口。
优选的,所述移动杆的个数共有两个,所述移动杆外侧设置的第一伸缩弹簧靠近装置外壳中心点的一端和限位板固定连接在一起,所述第一伸缩弹簧远离装置外壳中心点的一端和装置外壳内壁固定连接在一起。
优选的,所述限位板的个数共有两个,所述限位板内侧为弧形的设置,所述限位板之间设有晶体。
优选的,所述第二伸缩弹簧设置在固定板和摩擦板之间的位置,所述固定板下端固定连接的导向杆和固定板之间通过固定板内侧开设的限位孔滑动连接在一起。
优选的,所述摩擦板呈圆板型的设置,所述摩擦板外侧和柱形外壳内壁之间滑动连接在一起。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型中,通过设置的限位板、柱形外壳、摩擦板和导向杆,在对晶体切割面进行打磨的过程中可以对晶体进行稳定的限位,同时通过设置的摩擦板可以有效地防止在对晶体切割面打磨的过程中出现卡滞的情况发生,而且在打磨的过程中可以使晶体切割面和摩擦面全面的接触,具有良好的稳定性,可以在使用的过程中有效地提高晶体切割面的打磨效果;
2、本实用新型中,通过设置的吸尘外壳、吸尘扇、过滤网和排尘口,在使用的过程中可以对打磨过程中产生的碎屑进行收集的同时便于对打磨过程中收集的废屑进行清理,具有良好的便捷性,值得进行广泛的推广和使用。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图;
图2为本实用新型柱形外壳内部结构示意图;
图3为本实用新型限位板结构示意图。
图中:1-装置外壳、2-吸尘外壳、3-吸尘扇、4-过滤网、5-晶体、6-移动杆、7-第一伸缩弹簧、8-限位板、9-排尘口、10-固定支架、11-驱动电机、12-电动伸缩杆、13-下底板、14-柱形外壳、15-固定板、16-限位孔、17-第二伸缩弹簧、18-摩擦板、19-导向杆。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3,本实用新型提供一种技术方案:
一种切割面全接触的晶体打磨设备,包括装置外壳1、吸尘外壳2、限位板8和柱形外壳14,装置外壳1左右两端均固定连接有吸尘外壳2,吸尘外壳2内侧设有吸尘扇3,装置外壳1上端内侧滑动连接有移动杆6,移动杆6外侧设有第一伸缩弹簧7,移动杆6靠近装置外壳1中心点的一端固定连接有限位板8,装置外壳1下端外侧固定连接有固定支架10,固定支架10上固定连接有电动伸缩杆12,电动伸缩杆12顶端通过下底板13固定连接有驱动电机11,驱动电机11主轴顶端固定连接有柱形外壳14,柱形外壳14内侧固定连接有固定板15,固定板15通过导向杆19、第二伸缩弹簧17和摩擦板18连接在一起。
吸尘外壳2呈环形的设置,吸尘外壳2外侧固定连接有过滤网4,吸尘外壳2下端开设有排尘口9,便于在使用的过程中对收集的灰尘进行处理;移动杆6的个数共有两个,移动杆6外侧设置的第一伸缩弹簧7靠近装置外壳1中心点的一端和限位板8固定连接在一起,第一伸缩弹簧7远离装置外壳1中心点的一端和装置外壳1内壁固定连接在一起,可以在打磨的过程中对晶体5进行稳定的限位;限位板8的个数共有两个,限位板8内侧为弧形的设置,限位板8之间设有晶体5,有效的提高了晶体5打磨过程中的稳定性;第二伸缩弹簧17设置在固定板15和摩擦板18之间的位置,固定板15下端固定连接的导向杆19和固定板15之间通过固定板15内侧开设的限位孔16滑动连接在一起,有效地提高了装置整体结构的稳定性;摩擦板18呈圆板型的设置,摩擦板18外侧和柱形外壳14内壁之间滑动连接在一起,可以对摩擦板18进行稳定的限位。
工作流程:在需要对一种切割面全接触的晶体打磨设备进行使用的过程中,首先工作人员需要控制电动伸缩杆12推动下底板13和装置外壳1连接在一起,接着工作人员需要给设备整体进行通电,通电完成后,工作人员可以将晶体5插在限位板8之间的位置对晶体5切割面进行打磨,限位板8的设置在打磨的过程中可以对晶体5进行稳定的定位,具有良好的稳定性,在对晶体5切割面打磨的过程中通过设置的吸尘外壳2和吸尘扇3可以将打磨过程中产生的碎屑及时的进行收集,同时通过设置的排尘口9便于对打磨过程中收集的灰尘进行处理,这样的设置在使用的过程中具有良好的便捷性,而且在打磨的过程中通过设置的摩擦板18可以在打磨的过程中起到良好的缓冲作用,这样的设置在打磨的过程中可以有效地防止晶体5和摩擦板18之间出现卡滞的情况和晶体5的切割面和摩擦板18之间不能完全接触的情况发生,具有良好的实用价值,值得进行广泛的推广和使用。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种切割面全接触的晶体打磨设备,包括装置外壳(1)、吸尘外壳(2)、限位板(8)和柱形外壳(14),其特征在于:所述装置外壳(1)左右两端均固定连接有吸尘外壳(2),所述吸尘外壳(2)内侧设有吸尘扇(3),所述装置外壳(1)上端内侧滑动连接有移动杆(6),所述移动杆(6)外侧设有第一伸缩弹簧(7),所述移动杆(6)靠近装置外壳(1)中心点的一端固定连接有限位板(8),所述装置外壳(1)下端外侧固定连接有固定支架(10),所述固定支架(10)上固定连接有电动伸缩杆(12),所述电动伸缩杆(12)顶端通过下底板(13)固定连接有驱动电机(11),所述驱动电机(11)主轴顶端固定连接有柱形外壳(14),所述柱形外壳(14)内侧固定连接有固定板(15),所述固定板(15)通过导向杆(19)、第二伸缩弹簧(17)和摩擦板(18)连接在一起。
2.根据权利要求1所述的一种切割面全接触的晶体打磨设备,其特征在于:所述吸尘外壳(2)呈环形的设置,所述吸尘外壳(2)外侧固定连接有过滤网(4),所述吸尘外壳(2)下端开设有排尘口(9)。
3.根据权利要求1所述的一种切割面全接触的晶体打磨设备,其特征在于:所述移动杆(6)的个数共有两个,所述移动杆(6)外侧设置的第一伸缩弹簧(7)靠近装置外壳(1)中心点的一端和限位板(8)固定连接在一起,所述第一伸缩弹簧(7)远离装置外壳(1)中心点的一端和装置外壳(1)内壁固定连接在一起。
4.根据权利要求1所述的一种切割面全接触的晶体打磨设备,其特征在于:所述限位板(8)的个数共有两个,所述限位板(8)内侧为弧形的设置,所述限位板(8)之间设有晶体(5)。
5.根据权利要求1所述的一种切割面全接触的晶体打磨设备,其特征在于:所述第二伸缩弹簧(17)设置在固定板(15)和摩擦板(18)之间的位置,所述固定板(15)下端固定连接的导向杆(19)和固定板(15)之间通过固定板(15)内侧开设的限位孔(16)滑动连接在一起。
6.根据权利要求1所述的一种切割面全接触的晶体打磨设备,其特征在于:所述摩擦板(18)呈圆板型的设置,所述摩擦板(18)外侧和柱形外壳(14)内壁之间滑动连接在一起。
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- 2022-01-25 CN CN202220206058.1U patent/CN216759343U/zh active Active
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