CN216460520U - 晶片超声清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型旨在提供一种简化清洗步骤、有效避免异物产生从而提高清洗质量的晶片超声清洗装置。它包括机体，在机体上设置有上料区、清洗区以及操作面板，在上料区中设置有若干提料架，提料架下端夹有装料盘，在清洗区底部设置有超声发生器，在机体上还设置有传动机构，传动机构通过连接杆固定设置有移动臂，移动臂设置在清洗区上方，在传动机构的驱动下移动臂可实现水平方向和竖直方向上的移动，并将提料架依次传递至各个槽中，操作面板与传动机构、清洗区以及超声发生器均电性连接。本实用新型适用于晶片清洗领域。

Description

晶片超声清洗装置

技术领域

本实用新型涉及一种晶片超声清洗装置。

背景技术

石英晶体谐振器中的晶片，是制成石英晶体谐振元件的主体，石英晶体经切割定向、粗中细磨等加工后成为石英片，其被粘污的物质有油脂、蜡、研磨粉、研磨盘的金属粒子等，为了去除这些污物，必须进行清洗，以使腐蚀均匀、银层牢固，减小谐振电阻、降低老化率。现传统的晶片清洗的方式：晶片经装片机装入工装夹具内后，工装放入清洗机入口，自动感应到后上方的滚轮向右移动挂钩挂起工装放入第一槽花王清洗槽，超声清洗10分钟后，上方的滚轮移动挂钩挂起工装放入第二槽纯水喷淋，喷淋清洗10分钟后，同一动作自动放入第三槽纯水超声清洗，第四槽纯水冲洗，第五槽纯水超声清洗，第六槽纯水冲洗，第七槽自动甩干，第八槽自动烘干，烘干完成后自动将工装退出作业完成，待取料,作业用时1小时20分钟。这种方式清洗步骤过多，移动距离过大，挂钩时常会锐钩，导至翻料，上方移动挂钩滚轮，来回移动过程中容易产生异物，会掉落在纯水中，给品质带来隐患。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种简化清洗步骤、有效避免异物产生从而提高清洗质量的晶片超声清洗装置。

本实用新型所采用的技术方案是：本实用新型包括机体，在所述机体上设置有上料区、清洗区以及操作面板，在所述上料区中设置有若干提料架，所述提料架下端夹有装料盘，在所述清洗区底部设置有超声发生器，所述清洗区包括依次设置在所述机体上的花王超洗槽、第一喷淋池、第二喷淋池、纯水超洗槽以及流动纯水存放槽，所述超声发生器设置在所述花王超洗槽和所述纯水超洗槽的底部，在所述第一喷淋池和所述第二喷淋池上均设置有若干喷头，在所述机体上还设置有传动机构，所述传动机构通过连接杆固定设置有移动臂，所述移动臂设置在所述清洗区上方，在所述传动机构的驱动下所述移动臂可实现水平方向和竖直方向上的移动，并将所述提料架依次传递至各个槽中，所述操作面板与所述传动机构、所述清洗区以及所述超声发生器均电性连接。

由上述方案可知，本实用新型设置的所述清洗区包括花王超洗槽、第一喷淋池、第二喷淋池、纯水超洗槽以及流动纯水存放槽，简化了传统设备中七个槽的设计，优化了清洗的步骤，通过所述传动机构带动所述移动臂在垂直方向和水平方向上移动，将放置在所述上料区内的若干提料架依次传递至所述花王超洗槽、所述第一喷淋池、所述第二喷淋池、所述纯水超洗槽以及所述流动纯水存放槽，完成整个清洗过程，过程中，所述传递机构和所述清洗区内各个槽错开设置，有效避免所述传动机构在运转过程中产生的异物掉落、污染清洗区，影响清洗效果。

进一步地，所述传动机构包括垂直传动轨和水平传动轨，所述垂直传动轨上设置有垂直电机以及与所述垂直电机电性连接并与所述垂直传动轨滑动配合的垂直滑块，所述水平传动轨设置在所述垂直滑块上，所述水平传动轨上设置有水平电机以及与所述水平电机电性连接并与所述水平传动轨滑动配合的水平滑块，所述连接杆固定设置在所述水平滑块上。由此可见，本实用新型通过上述机构驱动所述移动臂在所述清洗区上放进行垂直方向和水平方向的移动，实现提料架在所述清洗区内各个槽之间的传递。

又进一步地，在所述移动臂上均匀设置有若干与所述提料架相适配的限位卡件，所述水平滑块在所述水平传动轨上的滑动距离与相邻两个所述限位卡件之间的距离一致，所述垂直滑块在所述垂直传动轨上的滑动距离大于等于所述提料架和所述装料盘的高度总和。由此可见，本实用新型利用预先设置好所述移动臂在垂直方向和水平方向的移动距离，保证每完成一次运动轨迹都可将对应位置上的所述提料架传递至下一个工位中，保持设备运转的流畅性，提高了设备传输效率。

再进一步地，所述操作面板设置在所述机体的顶部面板上，包括显示屏、警示灯、计时器以及若干控制按钮，若干所述控制按钮与所述传动机构、所述清洗区以及所述超声发生器电性连接。由此可见，本实用新型可对整个清洗过程实行自动化控制，进一步提升清洗的效果。

最后，在所述机体上还设置有保护板，所述保护板将所述传动机构与所述上料区和所述清洗区分隔开，在所述保护板上设置有活动窗口，所述活动窗口的长宽尺寸与所述传动机构在水平方向和垂直方向上的位移距离相适配。由此可见，本实用新型通过所述保护板将所述传动机构和所述清洗区相隔开，进一步避免机械传动设备在运转过程中产生的异物污染清洗液，有效保证清洗的效果。

附图说明

图1是本实用新型整体的结构示意图；

图2是本实用新型的内部结构示意图；

图3是所述传动机构的结构示意图。

具体实施方式

如图1、图2和图3所示，本实用新型包括机体1，在所述机体1上设置有上料区2、清洗区以及操作面板，在所述上料区2中设置有若干提料架3，所述提料架3下端夹有装料盘4，在所述清洗区底部设置有超声发生器，所述清洗区包括依次设置在所述机体1上的花王超洗槽5、第一喷淋池6、第二喷淋池7、纯水超洗槽8以及流动纯水存放槽9，所述超声发生器设置在所述花王超洗槽5和所述纯水超洗槽8的底部，在所述第一喷淋池6和所述第二喷淋池7上均设置有若干喷头10，在所述机体1上还设置有传动机构，所述传动机构通过连接杆11固定设置有移动臂12，所述移动臂12设置在所述清洗区上方，在所述传动机构的驱动下所述移动臂12可实现水平方向和竖直方向上的移动，并将所述提料架3依次传递至各个槽中，所述操作面板与所述传动机构、所述清洗区以及所述超声发生器均电性连接。

所述传动机构包括垂直传动轨13和水平传动轨14，所述垂直传动轨13上设置有垂直电机15以及与所述垂直电机15电性连接并与所述垂直传动轨13滑动配合的垂直滑块16，所述水平传动轨14设置在所述垂直滑块16上，所述水平传动轨14上设置有水平电机17以及与所述水平电机17电性连接并与所述水平传动轨14滑动配合的水平滑块18，所述连接杆11固定设置在所述水平滑块18上。在本实施例中，在所述水平传动轨14上设置有两组所述水平滑块18。

在所述移动臂12上均匀设置有若干与所述提料架3相适配的限位卡件19，所述水平滑块18在所述水平传动轨14上的滑动距离与相邻两个所述限位卡件19之间的距离一致，所述垂直滑块16在所述垂直传动轨13上的滑动距离大于等于所述提料架3和所述装料盘4的高度总和。

所述操作面板设置在所述机体1的顶部面板上，包括显示屏20、警示灯21、计时器22以及若干控制按钮23，若干所述控制按钮23与所述传动机构、所述清洗区以及所述超声发生器电性连接。

在所述机体1上还设置有保护板，所述保护板将所述传动机构与所述上料区2和所述清洗区分隔开，在所述保护板上设置有活动窗口，所述活动窗口的长宽尺寸与所述传动机构在水平方向和垂直方向上的位移距离相适配。

本实用新型运行步骤简便，只有四个清洗槽，作业员把放有晶片的所述装料盘4夹紧固定在所述提料架3上后，放置在所述上料区2中，然后通过所述操作按钮23启动设备，所述移动臂12向左移动至所述限位卡件19对准所述提料架3的位置后，向上托起所述提料架3，接着再向右移动到所述花王超洗槽5对应位置后，所述移动臂12下移并将所述上料架3放入所述花王超洗槽5内进行花王超声清洗，花王超洗3分钟后，所述移动臂12再向左移动到所述上料区2，托起另一所述上料架3，以此同时设置在所述移动臂12上的另一所述限位卡件19对准处在所述花王超洗槽5内的所述上料架3，随着所述移动臂12重复上述移动过程，可以依次将处于不同槽内的所述上料架3同时传递至下一槽中，进行下一步清洗工序；所述花王超洗槽5同一时间最多可以放入四个所述上料架3同时清洗，清洗3分钟后所述移动臂12经过相同动作依次将所述上料架3放入所述第一喷淋池6以及第二喷淋池7内进行冲洗，结束冲洗工序后再放入所述纯水超洗槽8内进行超洗，最后放入所述流动纯水存放槽9内静止，完成这个清洗过程所需时长为30分钟，大大缩短了晶片的清洗用时，提高了设备的工作效率，清洗后的晶片由人工放入甩干机甩干作业。

最后需要强调的是，以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种变化和更改，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种晶片超声清洗装置，它包括机体（1），在所述机体（1）上设置有上料区（2）、清洗区以及操作面板，在所述上料区（2）中设置有若干提料架（3），所述提料架（3）下端夹有装料盘（4），在所述清洗区底部设置有超声发生器，其特征在于：所述清洗区包括依次设置在所述机体（1）上的花王超洗槽（5）、第一喷淋池（6）、第二喷淋池（7）、纯水超洗槽（8）以及流动纯水存放槽（9），所述超声发生器设置在所述花王超洗槽（5）和所述纯水超洗槽（8）的底部，在所述第一喷淋池（6）和所述第二喷淋池（7）上均设置有若干喷头（10），在所述机体（1）上还设置有传动机构，所述传动机构通过连接杆（11）固定设置有移动臂（12），所述移动臂（12）设置在所述清洗区上方，在所述传动机构的驱动下所述移动臂（12）可实现水平方向和竖直方向上的移动，并将所述提料架（3）依次传递至各个槽中，所述操作面板与所述传动机构、所述清洗区以及所述超声发生器均电性连接。

2.根据权利要求1所述的晶片超声清洗装置，其特征在于：所述传动机构包括垂直传动轨（13）和水平传动轨（14），所述垂直传动轨（13）上设置有垂直电机（15）以及与所述垂直电机（15）电性连接并与所述垂直传动轨（13）滑动配合的垂直滑块（16），所述水平传动轨（14）设置在所述垂直滑块（16）上，所述水平传动轨（14）上设置有水平电机（17）以及与所述水平电机（17）电性连接并与所述水平传动轨（14）滑动配合的水平滑块（18），所述连接杆（11）固定设置在所述水平滑块（18）上。

3.根据权利要求2所述的晶片超声清洗装置，其特征在于：在所述移动臂（12）上均匀设置有若干与所述提料架（3）相适配的限位卡件（19），所述水平滑块（18）在所述水平传动轨（14）上的滑动距离与相邻两个所述限位卡件（19）之间的距离一致，所述垂直滑块（16）在所述垂直传动轨（13）上的滑动距离大于等于所述提料架（3）和所述装料盘（4）的高度总和。

4.根据权利要求1所述的晶片超声清洗装置，其特征在于：所述操作面板设置在所述机体（1）的顶部面板上，包括显示屏（20）、警示灯（21）、计时器（22）以及若干控制按钮（23），若干所述控制按钮（23）与所述传动机构、所述清洗区以及所述超声发生器电性连接。

5.根据权利要求1所述的晶片超声清洗装置，其特征在于：在所述机体（1）上还设置有保护板，所述保护板将所述传动机构与所述上料区（2）和所述清洗区分隔开，在所述保护板上设置有活动窗口，所述活动窗口的长宽尺寸与所述传动机构在水平方向和垂直方向上的位移距离相适配。

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