CN216455381U - 辅助儿童恒牙生长的硅胶基托 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于牙齿矫正技术领域，尤其是涉及一种辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，包括位于上部基托的上唇挡、上腭区和上唇系带，位于下部基托的下唇挡、舌挡、下唇系带和牙列空腔，位于中部基托的颊挡，位于所上腭区、上唇挡和下唇挡上的气孔，其特征在于在上部基托位于左上第一磨牙和右上第一磨牙位置分别设有一对预留凸点，在下部基托位于左下第一磨牙和右下第一磨牙位置分别设有牙槽沟。本实用新型通过研发的颌间定位凸可以有效的将非正常的乳牙恒牙交替期所产生的病症带入到正常轨迹；减轻畸形的严重程度和对颌骨的影响；对一些比较严重的错颌畸形、较为严重的反颌患者，本实用新型可在乳牙期更换恒牙期起到关键作用。

Description

辅助儿童恒牙生长的硅胶基托

技术领域

本实用新型属于牙齿矫正技术领域，尤其是涉及一种辅助儿童恒牙生长的硅胶基托。

背景技术

反颌、错颌、畸形是指在儿童生长发育过程中，由先天的遗传因素或后天的环境因素，如疾病、口腔不良习惯、替牙障碍等，也可在生长发育后因外伤、牙周病等原因造成的如牙齿排列不齐、上下牙弓牙合关系的异常、颌骨大小形态位置的异常、面部畸形等。

据中华口腔协会此前公布的调查结果显示，中国错颌畸形发病率的儿童高达逾70%，约1.8亿的替牙期儿童存在牙颌发育异常。城市儿童的治疗渗透率低于1‰。目前儿童从乳牙期换至恒牙期，牙齿萌出的情况会有反颌、错颌、畸形等情况出现，导致以上情况出现的因素主要有内部的遗传因素和外界的环境因素这两大类因素影响。

1.遗传因素

错颌畸形的遗传因素，来源于种族演化和个体发育。种族演化主要是人类在数十万年的进化过程中，随着食物性质的改变，如：从生食到熟食，从粗糙食物到精细食物，逐步导致人体咀嚼器官产生退化。在咀嚼系统的退化程度方面，咀嚼肌退化程度最大，颌骨次之，牙齿最小。颌骨与牙齿退化程度不一致，导致牙量和骨量的不协调，牙齿产生拥挤，错颌畸形由此出现。个体发育与其它遗传特征一样，错颌畸形也可以由亲代遗传给子代。颌骨的这些遗传形态在孪生子中表现为镜像对称。父母双方牙合形态差异较大者，子代通常更容易患错颌畸形。

遗传因素在错颌畸形的病因中占比生较高，有资料报告称我国错颌畸形的遗传因素约占错颌畸形病因的29.4%。常见的遗传因素的错颌畸形有颜面不对称，牙间隙，牙列拥挤，牙的数目、形态、萌出时间异常，下颌前突，上颌前突，下颌后缩和深覆合等。遗传性错颌畸形矫治比较困难，应争取及早明确诊断并制定治疗计划，选用适宜的矫治器，治疗结束以后坚持进行长期随访，矫治后也需作较长时间的效果保持。

2.环境因素

(1)疾病因素

妊娠期母体的营养不良或患病会造成胎儿牙颌面发育不良或发育异常。儿童时期的一些急、慢性疾病能影响牙、颌、面及全身的生长发育。如：维生素D缺乏引起钙磷代谢障碍，而致颌骨、牙弓发育畸形，临床上常呈下颌前突、下颌角大、前牙开颌、牙列拥挤等错颌表现。又如甲状腺功能低下、垂体性巨大症等内分泌疾病也均可引起错颌畸形。

(2)口腔不良习惯

如吮拇指习惯，可造成前牙开颌、牙弓狭窄；儿童有吐舌或萌牙时以舌舔牙不良习惯，均可造成前牙开颌；咬下唇不良习惯可使上前牙唇向，形成前牙深覆盖及下颌后缩；咬上唇不良习惯可使下颌前突、前牙反颌；偏侧咀嚼习惯可使咀嚼侧后牙呈反颌，上下牙弓中线向咀嚼侧偏歪，颜面出现双侧不对称畸形。

(3)儿童替牙期常因局部障碍造成错颌畸形

如乳牙早失，造成继发萌牙且由遗传因素形成的错颌畸形得到矫治后畸形仍有可能通过亲代遗传给子代。又如乳牙滞留，即乳牙列到替换年龄仍不脱落，使继续萌生的恒牙错位萌出。又如额外牙和先天缺失牙等，也均会造成错颌畸形。

错颌畸形的病因、机制是十分复杂的，同一因素可以造成不同类型的畸形，而同一错颌畸形又可因不同因素引起。错合畸形的形成也可能是若干因素共同作用的结果。因而，在错颌畸形的诊断、矫治设计过程中，对病因机制进行分析是十分重要的，更为重要的是尽快去除病因。

目前市场上现有的硅胶矫治器而言，没有一种对早期颌间定位（上颌与下颌之间的间隙）起到干预作用，对安氏Ⅱ类和Ⅲ类错颌畸形的矫治器。目前市面上所出现的硅胶矫治器只有集中在前牙区类型的矫治器，对后牙的功能性矫治没有专业的产品。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种将定制式矫正器的技术和医用硅胶材料特点相结合辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，实现儿童口腔矫治器的依从性，舒适性，精确度。

本实用新型的目的是通过下述技术方案来实现的：

本实用新型的辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，包括位于上部基托的上唇挡、上腭区和上唇系带，位于下部基托的下唇挡、舌挡、下唇系带和牙列空腔，位于中部基托的颊挡，位于所述上腭区、上唇挡和下唇挡上的气孔，其特征在于在所述上部基托位于左上第一磨牙位置设有一对预留凸点，在所述上部基托位于右上第一磨牙位置设有一对预留凸点，在所述的下部基托位于左下第一磨牙位置设有牙槽沟，在所述的下部基托位于右下第一磨牙位置设有牙槽沟，

所述的一对预留凸点包括一个矫正凸点和一个修磨凸点。

所述的矫正凸点或修磨凸点为半球形凸起，所述的矫正凸点或修磨凸点直径为3.5mm -4.5mm、高度为1.5mm -2.5mm。

所述的牙槽沟为第一磨牙后牙区轨道内的梯形截面沟槽。

所述的上部基托、下部基托、中部基托和预留凸点均为硅胶材料。

本实用新型的优点：

本实用新型的辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，通过研发的颌间定位突可以有效的将以下非正常的乳牙恒牙交替期所产生的唇向错位、颊向错位、舌向错位、腭向错位、近中错位、远中错位、高位、低位、转位、易位、斜轴、牙弓狭窄、腭盖高拱、牙列拥挤、牙列稀疏、牙弓、颌骨、颅面关系等等的病症带入到正常轨迹；减轻畸形的严重程度和对颌骨的影响；对一些比较严重的错颌畸形、较为严重的反颌患者，本产品可在乳牙期更换恒牙期起到关键作用。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型图1后视图。

图3为本实用新型图1的俯视图。

图4为本实用新型图1的仰视图。

图5为本实用新型图1的右视图。

图6为乳牙、恒牙替换期示意图。

具体实施方式

下面结合附图进一步说明本实用新型的具体实施方式。

如图1-5所示，本实用新型的辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，包括位于上部基托的上唇挡1、上腭区8和上唇系带9，位于下部基托的下唇挡2、舌挡3、下唇系带10和牙列空腔11，位于中部基托的颊挡4，位于所述上腭区8、上唇挡1和下唇挡2上的气孔7，其特征在于在所述上部基托位于左上第一磨牙位置设有一对预留凸点5，在所述上部基托位于右上第一磨牙位置设有一对预留凸点5，在所述的下部基托位于左下第一磨牙位置设有牙槽沟6，在所述的下部基托位于右下第一磨牙位置设有牙槽沟6，

所述的一对预留凸点5包括一个矫正凸点5-1和一个修磨凸点5-2。

所述的矫正凸点5-1或修磨凸点5-2为半球形凸起，所述的矫正凸点5-1或修磨凸点5-2直径为3.5mm -4.5mm、高度为1.5mm -2.5mm。

所述的牙槽沟6为第一磨牙后牙区轨道内的梯形截面沟槽。

所述的上部基托、下部基托、中部基托和预留凸点5均为硅胶材料。

本实用新型的辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，将定制式矫正器的技术和医用硅胶材料特点相结合，实现儿童口腔矫治器的依从性，舒适性，精确度。在儿童混合牙列期，左上第一磨牙、右上第一磨牙、左下第一磨牙和右下第一磨牙牙患龋病，残根，残冠确实过早。第一磨牙迟萌，都会影响儿童颌间距离的定位，造成错颌畸形，从而导致儿童颌面部的发育不足，预留凸点5是在儿童口腔预制基托左上第一磨牙、右上第一磨牙牙后方预先留制两个直径为4.0mm，高2.0mm的半球形凸起，预留凸点5可以很好的控制儿童的颌间距离，医生根据患儿的临床需要自行调节高矮。由于每个孩子第一磨牙长的位置不是完全一致的，可以根据牙长的位置去掉或修整修磨凸点5-2。对于安氏Ⅱ类畸形的患者，现有的硅胶类矫治器，都是集中在前牙去做引导，这样容易造成患者前牙的唇倾，本实用新型在左下第一磨牙、右下第一磨牙的后牙区轨道内做成长5.1mm，宽1.6mm，高2.0mm，45°的梯形截面的牙槽沟6，通过下牙咬合达到引导下颌前伸的效果。这样大大减少了下前牙唇倾的可能性，对引导下颌前伸的效果更强，危害性更小。

本实用新型通过研发的颌间定位突可以有效的将以下非正常的乳牙恒牙交替期所产生的：唇向错位、颊向错位、舌向错位、腭向错位、近中错位、远中错位、高位、低位、转位、易位、斜轴、牙弓狭窄、腭盖高拱、牙列拥挤、牙列稀疏、牙弓、颌骨、颅面关系等等的病症带入到正常轨迹。

一般来讲，乳牙反颌，应在4岁左右开始矫正。多数人经过口腔预制式矫治基托矫正可以恢复正常。但也有的孩子由于遗传等因素的影响，换牙之后又出现反颌，即使如此，乳牙期的矫治也是必要的，因为可以减轻畸形的严重程度和对颌骨的影响。

对一些比较严重的错颌畸形，一般在12～14岁左右，乳牙刚刚替换完成时开始矫治。由于每个人错颌畸形表现各不相同，开始矫治的时间也会有差别，对于较为严重的反颌患者，本实用新型可在乳牙期更换恒牙期起到关键作用。

实施例：由于儿童六岁开始萌出第一颗恒牙（第一磨牙12，也称之为六龄齿），此时还没有脱落的乳牙，由于颌骨在发育的过程中其恒牙胚也在准备陆续萌出，请看图6替换期，可以看到恒牙胚在上下颌骨内的发育状态，儿童6岁左右开始萌出第一磨牙12时，本实用新型起到的作用是预留凸点5，牙槽沟6可以让六龄齿在正常的位置萌出，使其向上生长的角度及位置可以按照正常的状态萌出。如没有本实用新型帮助辅助其生长可能导致第一磨牙12萌出异常，萌出的冠体暴露多或少，严重影响颌间距离，生长暴露多可引发上下颌开颌的状态，也是所谓的前门牙不能闭合，开放状态。生长暴露少可引发上下颌过度接触，对上下六龄齿的磨耗有过度影响，会引起深覆盖，深覆合状态。还有可能引发错颌现象，所谓错颌现象就是两侧第一磨牙12对应的对颌牙颊舌侧位置不一样，一侧正常，一侧反颌。所以本实用新型在六龄齿在萌出时在第一时间引导正确位置的萌出，保证儿童的第一颗恒牙不影响后续的恒牙萌出，做出贡献。预留凸点5尤其对生长方向/速度有一定的控制作用，硅胶材料可由医生自行根据生长状况进行适当修正。

图1中上腭区8、1上唇挡、2下唇挡、3舌挡、4颊挡，起到固定在上下唇里侧，不让本产品有向口内、口外移动的作用，有效在儿童口腔内保持夜间佩戴。在佩戴本发明的时间段里，其他乳牙，会从第一磨牙12萌出后，陆续脱落萌出。在一定的时间内，按照一定的顺序，左右成对萌出；一般情况下，下颌牙的萌出较上颌同名牙略早；女性同名牙的萌出略早于男性。

图1中，11为牙列空间，当恒牙陆续萌出后，在牙列空间萌出在空腔的正确位置，空腔内，每颗牙齿对应的位置有牙齿形态的凹陷，可使萌出的牙齿在预留的凹陷里萌出纠正至对的位置。气孔7在儿童在夜间佩戴本发明可帮助孩子辅助呼吸，避免鼻子不适气息不足。

本实用新型最大化纠正替牙期恒牙发育的问题，例如唇向错位、颊向错位、舌向错位、腭向错位、近中错位、远中错位、高位、低位、转位、易位、斜轴、牙弓狭窄、腭盖高拱、牙列拥挤、牙列稀疏、牙弓、颌骨、颅面关系等。5-12岁年龄段作为咬合诱导早期矫治的黄金时期相对于传统的硅胶类，儿童矫治器，儿童口腔预制式训练基地，更多的功能，更安全的效果，医生临床操作简单快捷，儿童口腔预制式训练基托，更多的注重后牙区，填补了硅胶类矫治器，后牙区矫治的空白。

本实用新型是硅胶材料制作而成，所以对口腔没有化学性伤害，也不构成物理性损坏口腔结构。且只需要儿童在夜间时间段佩戴，白天不用佩戴，清洗方式用清水冲洗即可，不可用类似84消毒液等有害液体清洗。

Claims (4)

1.一种辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，包括位于上部基托的上唇挡、上腭区和上唇系带，位于下部基托的下唇挡、舌挡、下唇系带和牙列空腔，位于中部基托的颊挡，位于所述上腭区、上唇挡和下唇挡上的气孔，其特征在于在所述上部基托位于左上第一磨牙位置设有一对预留凸点，在所述上部基托位于右上第一磨牙位置设有一对预留凸点，在所述的下部基托位于左下第一磨牙位置设有牙槽沟，在所述的下部基托位于右下第一磨牙位置设有牙槽沟，

所述的一对预留凸点包括一个矫正凸点和一个修磨凸点。

2.根据权利要求1所述的辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，其特征在于所述的矫正凸点或修磨凸点为半球形凸起，所述的矫正凸点或修磨凸点直径为3.5mm -4.5mm、高度为1.5mm-2.5mm。

3.根据权利要求1所述的辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，其特征在于所述的牙槽沟为第一磨牙后牙区轨道内的梯形截面沟槽。

4.根据权利要求1所述的辅助儿童恒牙生长的硅胶基托，其特征在于所述的上部基托、下部基托、中部基托和预留凸点均为硅胶材料。

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