CN216274363U - 一种原子层沉积装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种原子层沉积装置，属于原子镀膜技术领域，腔体位于下壳体内，上壳体位于下壳体的上侧，腔体的底部设置进气主管，进气主管通过垂直设置的若干锁紧架支撑，进气主管的侧壁等距离连接若干曝气管，曝气管通过支撑架水平设置在腔体底部位置，并且曝气管通过垂直设置的曝气喷嘴垂直向上曝气，下壳体的圆周表面固定连接有固定框，固定框与上壳体之间设置有压紧机构，压紧机构用于将上壳体压紧于下壳体上，通过设置进气主管和曝气管进行均匀曝气，使得基材能够得到均匀镀膜；同时本实用新型中的整个装置结构简单，通过手动调节压紧机构使上壳体能够与下壳体进行密封。

Description

一种原子层沉积装置

技术领域

本实用新型涉及原子镀膜技术领域，更具体地说，涉及一种原子层沉积装置。

背景技术

原子沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。

目前，在采用原子层沉积的方式镀膜时，通常需要将待镀膜的产品放置于沉积装置上，沉积装置在进行镀膜时，需要使产品与装置之间保持密封状态，防止杂质的进入影响镀膜效果，现有的大部分原子沉积装置结构较为复杂，装置密封时需要使用到较多的电子设备，造价成本高。

实用新型内容

1.要解决的技术问题

针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种原子层沉积装置，旨在解决现有技术中的大部分原子沉积装置结构较为复杂，装置密封时需要使用到较多的电子设备，造价成本高的问题。

2.技术方案

为解决上述问题，本实用新型采用如下的技术方案：

一种原子层沉积装置，包括下壳体、腔体和上壳体，所述腔体位于下壳体内，所述上壳体位于下壳体的上侧，所述腔体的底部设置进气主管，所述进气主管通过垂直设置的若干锁紧架支撑，所述进气主管的侧壁等距离连接若干曝气管，所述曝气管通过支撑架水平设置在腔体底部位置，并且所述曝气管通过垂直设置的曝气喷嘴垂直向上曝气，所述下壳体的圆周表面固定连接有固定框，所述固定框与上壳体之间设置有压紧机构，所述压紧机构用于将上壳体压紧于下壳体上。

作为本实用新型的一种优选方案，所述压紧机构包括两个螺杆，两个所述螺杆均转动连接于固定框内，所述上壳体的圆周表面固定连接有两个螺母，且两个螺母分别螺纹连接于两个螺杆上，两个所述螺杆的一端均固定连接有蜗轮，且两个蜗轮分别贯穿至固定框的一侧，所述固定框的一侧固定连接有两个固定块，两个所述固定块之间转动连接有蜗杆，且蜗杆与两个蜗轮之间相啮合。

作为本实用新型的一种优选方案，所述上壳体的远离下壳体的一端固定连接有出气管，且出气管一端活动贯穿至固定框的一侧。

作为本实用新型的一种优选方案，所述蜗杆的一端固定连接有直角片，所述直角片远离蜗杆的一侧固定连接有把手。

作为本实用新型的一种优选方案，所述下壳体靠近上壳体的一端开口处内固定连接有置物架。

作为本实用新型的一种优选方案，所述上壳体和下壳体相靠近的一端均固定连接有密封垫，且两个密封垫之间相对应。

作为本实用新型的一种优选方案，所述下壳体的底部固定连接有多个支撑脚，且多个支撑脚远离下壳体的一端固定连接有稳固盘。

3.有益效果

相比于现有技术，本实用新型的优点在于：

(1)本方案中，通过设置进气主管和曝气管进行均匀曝气，使得基材能够得到均匀镀膜；同时本实用新型中的整个装置结构简单，通过手动调节压紧机构使上壳体能够与下壳体进行密封，使下壳体内的腔体能够稳定的对产品进行原子层沉积镀膜，不需要使用较大的电气设备，降低装置的重量与体积，采用手动的方式进行控制，从而控制造价成本。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种原子层沉积装置第一立体图；

图2为本实用新型的一种原子层沉积装置第二立体图；

图3为本实用新型提出的一种原子层沉积装置剖视图；

图4为图3中原子层沉积装置的进气主管与曝气管安装图。

图中标号说明：

1、下壳体；2、腔体；3、进气主管；4、曝气管；5、支撑架；6、锁紧架；7、固定框；8、上壳体；9、螺杆；901、螺母；902、蜗轮；903、固定块；904、蜗杆；10、出气管；11、直角片；12、把手；13、置物架；14、密封垫；15、支撑脚；16、稳固盘。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

实施例：

请参阅图1-4，一种原子层沉积装置，腔体2位于下壳体1内，上壳体8位于下壳体1的上侧，腔体2的底部设置进气主管3，进气主管3通过垂直设置的若干锁紧架6支撑，进气主管3的侧壁等距离连接若干曝气管4，曝气管4通过支撑架5水平设置在腔体2底部位置，并且曝气管4通过垂直设置的曝气喷嘴垂直向上曝气，下壳体1的圆周表面固定连接有固定框7，固定框7与上壳体8之间设置有压紧机构，压紧机构用于将上壳体8压紧于下壳体1上。

本实施例中，下壳体1与上壳体8相对应，上壳体8通过压紧机构将下壳体1进行盖住，能够使下壳体1和上壳体8内的空间进行密封，可以使得原子层沉积能够在真空环境下进行，压紧机构采用手动的方式进行上壳体8的调节，不需要较大的电气设备进行控制，有效的降低使用成本，密封后的下壳体1和上壳体8内部形成一个独立的空间，防止腔体2在对产品进行原子层沉积时被影响，密封后的下壳体1和上壳体8通过腔体2对产品进行原子层沉积镀膜，反应气体通过进气主管3进入到曝气管4内，各个曝气管4通过垂直向上的曝气喷嘴垂直向上曝气，使得反应气体能够充分与基材进行接触，提高原子层沉积效果。

具体的，压紧机构包括两个螺杆9，两个螺杆9均转动连接于固定框7内，上壳体8的圆周表面固定连接有两个螺母901，且两个螺母901分别螺纹连接于两个螺杆9上，两个螺杆9的一端均固定连接有蜗轮902，且两个蜗轮902分别贯穿至固定框7的一侧，固定框7的一侧固定连接有两个固定块903，两个固定块903之间转动连接有蜗杆904，且蜗杆904与两个蜗轮902之间相啮合。

本实施例中，两个螺杆9通过固定框7进行支撑，在需要对产品进行原子层沉积时，通过转动两个固定块903之间的蜗杆904，蜗杆904使两个蜗轮902进行转动，两个蜗轮902使两个螺杆9转动，两个螺杆9使两个螺母901进行移动，两个螺母901使上壳体8向下壳体1靠近，上壳体8使下壳体1进行密封，腔体2通过沉积喷管4对下壳体1内的产品进行原子层沉积镀膜，当产品完成镀膜后，通过转动蜗杆904使上壳体8远离下壳体1，从而能够将沉积后的产品进行取出。

具体的，上壳体8的远离下壳体1的一端固定连接有出气管10，且出气管10一端活动贯穿至固定框7的一侧。

本实施例中，出气管10会跟随上壳体8的移动在固定框7上移动，使上壳体8的移动保持稳定，同时在原子层沉积时，出气管10可以用于排出腔体2内的气体。

具体的，蜗杆904的一端固定连接有直角片11，直角片11远离蜗杆904的一侧固定连接有把手12。

本实施例中，直角片11与把手12之间的角度为九十度，蜗杆904与直角片11之间的角度为九十度，通过直角片11和把手12能够使蜗杆904的转动更加省力与方便。

具体的，下壳体1靠近上壳体8的一端开口处内固定连接有置物架13。

本实施例中，置物架13用于放置待镀膜的产品，产品放置于置物架13上能够稳定的与腔体2对应，便于腔体2对产品进行原子层沉降镀膜。

具体的，上壳体8和下壳体1相靠近的一端均固定连接有密封垫14，且两个密封垫14之间相对应。

本实施例中，上壳体8与下壳体1进行密封时，两个密封垫14之间会进行接触，两个密封垫14能够有效的提高下壳体1和上壳体8之间的密封效果。

具体的，下壳体1的底部固定连接有多个支撑脚15，且多个支撑脚15远离下壳体1的一端固定连接有稳固盘16。

本实施例中，下壳体1通过多个支撑脚15进行支撑，稳固盘16使多个支撑脚15保持稳定。

工作原理：在需要对产品进行原子层沉积镀膜时，首先通过转动两个固定块903之间的蜗杆904，蜗杆904使两个蜗轮902转动，两个蜗轮902使两个螺杆9转动，两个螺杆9使两个螺母901移动，两个螺母901使上壳体8向下壳体1靠近，上壳体8和下壳体1之间进行密封，密封后的下壳体1和上壳体8内部形成一个独立的空间，然后对腔体2进行抽真空，使得原子层沉积能够在真空环境下进行，密封后的下壳体1和上壳体8通过腔体2对产品进行原子层沉积镀膜，反应气体通过进气主管3进入到曝气管4内，各个曝气管4通过垂直向上的曝气喷嘴垂直向上曝气，使得反应气体能够充分与基材进行接触，提高原子层沉积效果，当产品完成镀膜后，通过转动蜗杆904使上壳体8远离下壳体1，从而能够将镀膜后的产品进行取出。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

Claims (7)

1.一种原子层沉积装置，包括下壳体(1)、腔体(2)和上壳体(8)，其特征在于：所述腔体(2)位于下壳体(1)内，所述上壳体(8)位于下壳体(1)的上侧，所述腔体(2)的底部设置进气主管(3)，所述进气主管(3)通过垂直设置的若干锁紧架(6)支撑，所述进气主管的侧壁等距离连接若干曝气管(4)，所述曝气管通过支撑架(5)水平设置在腔体(2)底部位置，并且所述曝气管(4)通过垂直设置的曝气喷嘴垂直向上曝气，所述下壳体(1)的圆周表面固定连接有固定框(7)，所述固定框(7)与上壳体(8)之间设置有压紧机构，所述压紧机构用于将上壳体(8)压紧于下壳体(1)上。

2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积装置，其特征在于：所述压紧机构包括两个螺杆(9)，两个所述螺杆(9)均转动连接于固定框(7)内，所述上壳体(8)的圆周表面固定连接有两个螺母(901)，且两个螺母(901)分别螺纹连接于两个螺杆(9)上，两个所述螺杆(9)的一端均固定连接有蜗轮(902)，且两个蜗轮(902)分别贯穿至固定框(7)的一侧，所述固定框(7)的一侧固定连接有两个固定块(903)，两个所述固定块(903)之间转动连接有蜗杆(904)，且蜗杆(904)与两个蜗轮(902)之间相啮合。

3.根据权利要求2所述的一种原子层沉积装置，其特征在于：所述上壳体(8)的远离下壳体(1)的一端固定连接有出气管(10)，且出气管(10)一端活动贯穿至固定框(7)的一侧。

4.根据权利要求3所述的一种原子层沉积装置，其特征在于：所述蜗杆(904)的一端固定连接有直角片(11)，所述直角片(11)远离蜗杆(904)的一侧固定连接有把手(12)。

5.根据权利要求4所述的一种原子层沉积装置，其特征在于：所述下壳体(1)靠近上壳体(8)的一端开口处内固定连接有置物架(13)。

6.根据权利要求5所述的一种原子层沉积装置，其特征在于：所述上壳体(8)和下壳体(1)相靠近的一端均固定连接有密封垫(14)，且两个密封垫(14)之间相对应。

7.根据权利要求6所述的一种原子层沉积装置，其特征在于：所述下壳体(1)的底部固定连接有多个支撑脚(15)，且多个支撑脚(15)远离下壳体(1)的一端固定连接有稳固盘(16)。

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