CN216234820U - 盖子上料装置 - Google Patents

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孙烈冰
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Abstract

本实用新型公开了一种盖子上料装置,包括与上料滑轨滑动配合的有上料滑座;上料滑座底部设有竖置电缸,电缸的伸缩杆底端设有平置压板;压板底面设有平置弹性环;弹性环的底面开设有可与盖子侧周壁插接的环形插槽,环形插槽与弹性环共轴心,环形插槽的深度大于盖侧壁顶边缺口的深度;压板底面还设有多个透气孔,该多个透气孔位于弹性环的内圈中;压板顶面设有一对快速接头:抽气接头和供气接头;压板内部还设有将该对快速接头与上述多个透气孔连通的内部通道;抽气接头外接抽气软管,供气接头外接供气软管;抽气软管上设有抽气电磁阀;供气软管上设有供气电磁阀。本实用新型盖子上料装置,其能转移开口朝上放置且盖侧壁顶边有缺口的盖子。

Description

盖子上料装置
技术领域
本实用新型涉及盖子上料装置。
背景技术
注塑生产出来的盖子需要进行等离子表面处理,一般采用上料装置将盖子送入等离子表面处理装置。上料装置一般包括:上料滑轨,与上料滑轨滑动配合的上料滑座,驱动上料滑座沿上料滑轨滑动的平移驱动装置,以及设于上料滑座底部的可升降吸盘。等离子表面处理装置的外部设有上料位,等离子表面处理装置的内部设有处理位。上料滑轨由上料位的正上方延伸至处理位的正上方。一般将待处理的盖子放在上料位上,且使盖子开口朝下;然后平移驱动装置驱动上料滑座移动至上料位正上方,然后可升降吸盘下移将上料位上的盖子吸起,然后平移驱动装置驱动上料滑座沿上料滑轨移动至处理位正上方,然后可升降吸盘下移将盖子放下至处理位上,且处理位上的盖子开口朝下,然后等离子表面处理装置对处理位上的盖子进行等离子表面处理。
盖子一般包括:平置的圆形盖底,以及由盖底边沿向上延伸出的竖置圆筒形盖侧壁。处理位上的盖子开口朝下放置时,等离子表面处理装置只能对盖底的外表面和盖侧壁的外周面进行等离子表面处理。若需要对盖底的内表面和盖侧壁的内周面进行等离子表面处理,则处理位上的盖子就要开口朝上放置,这就需要先将盖子开口朝上放置在上料位。
而有些盖子的盖侧壁上有缺口,盖子开口朝上放置时,盖侧壁上的缺口位于盖侧壁的顶边。若可升降吸盘下移吸取开口朝上放置的盖子时,吸盘仅与盖侧壁的顶边接触,而盖侧壁的顶边又有缺口,此时,虽然吸盘压在盖侧壁的顶边上,但盖子内腔仍然通过盖侧壁顶边的缺口与外部连通,故吸盘就无法将盖侧壁顶边有缺口的盖子吸起。
实用新型内容
为解决现有技术的缺陷,本实用新型提供一种盖子上料装置,包括平置的上料滑轨,上料滑轨上设有上料滑座,上料滑座与上料滑轨滑动配合;上料滑座配有驱动其沿上料滑轨滑动的平移驱动装置;
所述上料滑座底部固设有竖置的电缸,电缸的伸缩杆朝下竖直伸出,且伸缩杆的底端固接有平置圆形压板,压板与伸缩杆共轴心;
所述压板的底面固设有平置弹性环,弹性环与压板共轴心;
所述弹性环的底面开设有可与盖子侧周壁插接的环形插槽,环形插槽与弹性环共轴心,环形插槽的深度大于盖侧壁顶边缺口的深度;
所述压板底面还设有多个透气孔,该多个透气孔位于弹性环的内圈中;压板顶面设有一对快速接头:抽气接头和供气接头;压板内部还设有将该对快速接头与上述多个透气孔连通的内部通道;抽气接头外接抽气软管,供气接头外接供气软管;抽气软管上设有抽气电磁阀;供气软管上设有供气电磁阀。
优选的,所述平移驱动装置为直线电机。
优选的,上述多个透气孔沿弹性环的周向均布。
优选的,上述多个透气孔靠近弹性环。
优选的,所述抽气接头、供气接头以伸缩杆对称设置。
优选的,所述抽气接头通过抽气软管连接抽气装置。
优选的,所述供气接头通过供气软管连接供气装置。
优选的,所述抽气电磁阀靠近抽气接头。
优选的,所述供气电磁阀靠近供气接头。
优选的,所述上料滑轨伸入等离子表面处理装置中;等离子表面处理装置的外部设有上料位,等离子表面处理装置的内部设有处理位;上料滑轨由上料位的正上方延伸至处理位的正上方。
本实用新型的优点和有益效果在于:提供一种盖子上料装置,其能转移开口朝上放置且盖侧壁顶边有缺口的盖子。
附图说明
图1是本实用新型的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
本实用新型具体实施的技术方案是:
如图1所示,一种盖子9上料装置,包括平置的上料滑轨1,上料滑轨1上设有上料滑座2,上料滑座2与上料滑轨1滑动配合;上料滑座2配有驱动其沿上料滑轨1滑动的平移驱动装置;具体的,平移驱动装置为直线电机(图中未示出直线电机);
所述上料滑轨1伸入等离子表面处理装置中;等离子表面处理装置的外部设有上料位,等离子表面处理装置的内部设有处理位;上料滑轨1由上料位的正上方延伸至处理位的正上方;(图中未示出等离子表面处理装置、上料位、处理位)
所述上料滑座2底部固设有竖置的电缸3,电缸3的伸缩杆31朝下竖直伸出,且伸缩杆31的底端固接有平置圆形压板4,压板4与伸缩杆31共轴心;
所述压板4的底面固设有平置弹性环5,弹性环5与压板4共轴心;
所述弹性环5的底面开设有可与盖子9侧周壁92插接的环形插槽51,环形插槽51与弹性环5共轴心,环形插槽51的深度大于盖侧壁92顶边缺口93的深度;
所述压板4底面还设有多个透气孔41,该多个透气孔41位于弹性环5的内圈中,该多个透气孔41沿弹性环5的周向均布,且该多个透气孔41靠近弹性环5;压板4顶面设有一对快速接头:抽气接头61和供气接头62;压板4内部还设有将该对快速接头与上述多个透气孔41连通的内部通道(图中未示出内部通道);抽气接头61、供气接头62以伸缩杆31对称设置;抽气接头61外接抽气软管71,供气接头62外接供气软管72;抽气接头61通过抽气软管71连接抽气装置(图中未示出抽气装置),抽气软管71上设有抽气电磁阀81,抽气电磁阀81靠近抽气接头61;供气接头62通过供气软管72连接供气装置(图中未示出供气装置),供气软管72上设有供气电磁阀82,供气电磁阀82靠近供气接头62。
本实用新型的盖子上料装置的工作过程如下:
1)将待处理的盖子9放在上料位上,且使盖子9开口朝上;开口朝上的盖子9包括:平置的圆形盖底91,以及由盖底91边沿向上延伸出的竖置圆筒形盖侧壁92;且盖侧壁92顶边有缺口93;
2)直线电机驱动上料滑座2移动至上料位正上方,且使弹性环5底面的环形插槽51正对盖侧壁92的顶边;
3)电缸3驱动压板4下移,压板4将弹性环5压紧在盖侧壁92上,使盖侧壁92插入弹性环5底面的环形插槽51中,并使盖侧壁92顶边的缺口93没入环形插槽51中,环形插槽51的槽壁将盖侧壁92顶边的缺口93封闭;此时,压板4、弹性环5和盖子9围成密闭空间;
4)抽气电磁阀81开启,供气电磁阀82关闭,抽气装置通过抽气软管71、压板4的内部通道以及压板4底面的透气孔41对上述密闭空间抽气,使密闭空间抽真空;
5)电缸3驱动压板4上移,使盖子9脱离上料位;
6)直线电机驱动上料滑座2沿上料滑轨1移动至处理位正上方;
7)电缸3驱动压板4下移,使盖底91置于处理位上;
8)抽气电磁阀81关闭,供气电磁阀82开启,供气装置通过供气软管72、压板4的内部通道以及压板4底面的透气孔41对上述密闭空间吹气,使密闭空间恢复气压,且气压不低于外部气压;
9)电缸3驱动压板4上移,使盖子9在自身重力和吹气气压作用下与弹性环5脱离,盖子9留在处理位上;
10)抽气电磁阀81关闭,供气电磁阀82关闭,直线电机驱动上料滑座2退出等离子表面处理装置;此时,处理位上的盖子9开口朝上;然后等离子表面处理装置对处理位上盖子9的盖底91内表面和盖侧壁92内周面进行等离子表面处理。
由上可知,本实用新型的盖子上料装置,其能转移开口朝上放置且盖侧壁92顶边有缺口93的盖子9。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.盖子上料装置,包括平置的上料滑轨,上料滑轨上设有上料滑座,上料滑座与上料滑轨滑动配合;上料滑座配有驱动其沿上料滑轨滑动的平移驱动装置;其特征在于:
所述上料滑座底部固设有竖置的电缸,电缸的伸缩杆朝下竖直伸出,且伸缩杆的底端固接有平置圆形压板,压板与伸缩杆共轴心;
所述压板的底面固设有平置弹性环,弹性环与压板共轴心;
所述弹性环的底面开设有可与盖子侧周壁插接的环形插槽,环形插槽与弹性环共轴心,环形插槽的深度大于盖侧壁顶边缺口的深度;
所述压板底面还设有多个透气孔,该多个透气孔位于弹性环的内圈中;压板顶面设有一对快速接头:抽气接头和供气接头;压板内部还设有将该对快速接头与上述多个透气孔连通的内部通道;抽气接头外接抽气软管,供气接头外接供气软管;抽气软管上设有抽气电磁阀;供气软管上设有供气电磁阀。
2.根据权利要求1所述的盖子上料装置,其特征在于,所述平移驱动装置为直线电机。
3.根据权利要求1所述的盖子上料装置,其特征在于,上述多个透气孔沿弹性环的周向均布。
4.根据权利要求3所述的盖子上料装置,其特征在于,上述多个透气孔靠近弹性环。
5.根据权利要求1所述的盖子上料装置,其特征在于,所述抽气接头、供气接头以伸缩杆对称设置。
6.根据权利要求1所述的盖子上料装置,其特征在于,所述抽气接头通过抽气软管连接抽气装置。
7.根据权利要求1所述的盖子上料装置,其特征在于,所述供气接头通过供气软管连接供气装置。
8.根据权利要求1所述的盖子上料装置,其特征在于,所述抽气电磁阀靠近抽气接头。
9.根据权利要求1所述的盖子上料装置,其特征在于,所述供气电磁阀靠近供气接头。
10.根据权利要求1所述的盖子上料装置,其特征在于,所述上料滑轨伸入等离子表面处理装置中;等离子表面处理装置的外部设有上料位,等离子表面处理装置的内部设有处理位;上料滑轨由上料位的正上方延伸至处理位的正上方。
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