CN216181495U

CN216181495U - 一种喷釉设备

Info

Publication number: CN216181495U
Application number: CN202122328775.XU
Authority: CN
Inventors: 赵宝峰; 邢永亚; 丁美耀; 傅欢锋
Original assignee: Zhejiang Elephant New Material Co Ltd
Current assignee: Zhejiang Elephant New Material Co Ltd
Priority date: 2021-09-24
Filing date: 2021-09-24
Publication date: 2022-04-05
Anticipated expiration: 2031-09-24

Abstract

本申请涉及一种喷釉设备，其包括机架，还包括与所述机架连接的喷釉室，所述喷釉室形成有内腔，所述喷釉室两侧设有通料室，所述通料室与所述喷釉室连通且两侧开设有开口，所述通料室的开口高度低于所述喷釉室的内腔顶壁高度，所述机架上设置有穿过所述喷釉室的传送带，所述传送带依次穿过所述通料室、所述喷釉室与另一个所述通料室，所述喷釉室内设有喷釉头，所述喷釉头连接有供釉机构，所述喷釉头朝向所述传送带上的瓦片。本申请具以下效果：喷釉室可控制部分釉料喷出瓦片上釉的范围，能够尽可能的防止釉料逸散到外界，可尽量避免对瓦片上釉以外的环境造成污染。

Description

一种喷釉设备

技术领域

本申请涉及瓦片加工技术的领域，尤其是涉及一种喷釉设备。

背景技术

目前，琉璃瓦是采用优质矿石原料，经过筛选粉碎，高压成型，高温烧制而成，具有强度高、平整度好，吸水率低、抗折、抗冻、耐酸、耐碱、永不褪色、等显著优点。琉璃瓦广泛适用于厂房，住宅、宾馆、别墅等工业和民用建筑，并以其造型多样，釉色质朴、多彩，环保、耐用，深得建筑大师们的推崇。

喷釉是现代陶瓷施釉技法之一，用喷枪或喷雾器使釉浆雾化喷到坯体表面，其适用于大型器皿及造型复杂或薄胎制品。

申请号为CN201520374508.8的中国实用新型公开了一种琉璃瓦自动上釉机构，包括储釉箱，在储釉箱上设有至少一个喷釉头，所述的喷釉头与一根插于储釉箱内的出釉管相连，在出釉管上设有动力泵，在储釉箱的顶部设有套在喷釉头外围的回釉机构。该实用新型喷釉头结合动力泵的结构能够实现自动喷釉，大幅提高了生产效率。

针对上述中的相关技术，发明人认为，喷釉头在对瓦片进行喷釉时，部分釉料会喷出上釉机构的范围，釉料会逸散到外界，存在有对上釉机构以外的环境造成污染的缺陷。

实用新型内容

为了控制部分釉料喷出瓦片上釉的范围，尽可能的防止釉料逸散到外界，尽量避免对瓦片上釉以外的环境造成污染，本申请提供一种喷釉设备。

本申请提供的一种喷釉设备，采用如下的技术方案：

一种喷釉设备，包括机架，还包括与所述机架连接的喷釉室，所述喷釉室形成有内腔，所述喷釉室两侧设有通料室，所述通料室与所述喷釉室连通且两侧开设有开口，所述通料室的开口高度低于所述喷釉室的内腔顶壁高度，所述机架上设置有穿过所述喷釉室的传送带，所述传送带依次穿过所述通料室、所述喷釉室与另一个所述通料室，所述喷釉室内设有喷釉头，所述喷釉头连接有供釉机构，所述喷釉头朝向所述传送带上的瓦片。

通过采用上述技术方案，传送带可将瓦片输送至喷釉室内，供釉机构给喷釉头供釉，喷釉头对瓦片喷釉时，喷釉室的内侧壁可阻挡部分釉料喷出瓦片上釉的范围，通料室可增大阻挡釉料的范围，尽可能的防止釉料逸散到外界，可尽量避免釉料对喷釉室以外的环境造成污染。

优选的，所述喷釉室上开设有窗口，所述窗口上盖设有透明的窗扇，所述喷釉室内侧壁上设有滑轨，所述窗扇与所述滑轨滑移连接。

通过采用上述技术方案，操作员可透过窗扇看到异常情况，关闭喷釉设备后，可打开窗扇对喷釉头做出调整。

优选的，所述通料室连接有支撑脚，所述支撑脚与所述机架均开设有插孔，所述插孔中穿设有第一螺栓，所述第一螺栓穿过所述支撑脚、所述机架的一端螺纹连接有第一螺帽。

通过采用上述技术方案，支撑脚与机架通过第一螺栓与第一螺帽连接以实现通料室与机架可拆卸连接，通料室可与机架连接或分离，提高了通料室的灵活性。

优选的，所述喷釉室的内腔底面呈漏斗状，所述喷釉室底部开设有回收口，所述回收口位于所述喷釉室的内腔底面最低处，所述喷釉室设有与所述回收口连通的回收组件。

通过采用上述技术方案，多余的釉料可通过喷釉室漏斗状的斜面流入回收口中，提高了喷釉室回收釉料的回收效率。

优选的，所述回收组件包括集料箱、回收管与回流泵，所述回收管连通所述集料箱与所述喷釉头，所述回收口与所述集料箱连通，所述回流泵与所述集料箱、所述回收管连通。

通过采用上述技术方案，多余的釉料通过喷釉室进入集料箱中，回收管通过回流泵往喷釉头输送釉料，以便对釉料重复使用，提高了釉料的利用率。

优选的，所述喷釉室的内腔底壁设有垫块，所述垫块与所述传送带接触，所述垫块与所述传送带接触侧设有圆弧面。

通过采用上述技术方案，瓦片放置在传送带上时，传送带可能会被瓦片压至与喷釉室底部接触，造成磨损加剧，垫块可支撑传送带，垫块与传送带接触面为圆弧面，可减小垫块与传送带之间的摩擦力，方便传送带传送瓦片。

优选的，所述喷釉头有两组，两组所述喷釉头均位于所述喷釉室的内腔顶部，其中一组所述喷釉头位于所述传送带的正上方，另外一组中的多个所述喷釉头分别位于所述传送带的两侧，两组内的多个所述喷釉头均朝向所述传送带。

通过采用上述技术方案，多组喷釉头，包括正上方与斜上方的多个喷釉头可对传送带上的瓦片多角度的进行喷釉，使瓦片上釉更均匀，提高了喷釉头的喷釉效率。

优选的，所述传送带包括皮带及驱动组件，所述机架上设有限位轨，所述限位轨内开设有第一滑槽，所述第一滑槽的长度方向与所述传送带传送方向一致，所述皮带与所述第一滑槽滑移连接。

通过采用上述技术方案，传送带通过限位轨的第一滑槽限位，可固定传送带传送的轨迹，提高了传送带工作时的稳定性。

优选的，所述机架上设有导轨，所述限位轨沿垂直于所述传送带传输方向与所述导轨滑动连接，所述限位轨与所述导轨之间设置有第一锁定件。

通过采用上述技术方案，限位轨可通过第一锁定件在导轨上调整位置，从而调整两根传送带的间距，以此适应不同大小的瓦片，提高瓦片在传送带上的传输稳定性，提高了传送带的灵活性。

优选的，所述驱动组件包括驱动件及至少两个辊筒，所述皮带套设在多个所述辊筒上，所述机架两端开设有第二滑槽，所述第二滑槽长度方向与所述传送带传送方向一致，所述辊筒通过所述第二滑槽与所述机架滑移连接，所述机架与所述辊筒之间设置有第二锁定件。

通过采用上述技术方案，辊筒可通过第二滑槽与第二锁定件在机架上滑移调整位置，以此调整套设在辊筒上的皮带的松紧程度，可减少皮带长期使用而造成的弹性疲劳现象。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.喷釉室可控制部分釉料喷出瓦片上釉的范围，能够尽可能的防止釉料逸散到外界，可尽量避免对瓦片上釉以外的环境造成污染；

2.喷釉室内三个喷釉头可对瓦片进行多方位的喷釉，提高了喷釉头的喷釉效率；

3.回收组件可回收喷釉室内多余的釉料，提高了釉料的利用率；

4.操作员可打开窗扇观察喷釉头对瓦片的喷釉情况，以便了解喷釉室内的工作情况。

附图说明

图1是本申请实施例的一种喷釉设备的整体结构示意图。

图2是本申请实施例的一种喷釉设备的俯视结构示意图。

图3是本申请实施例的一种喷釉设备的沿图2中A-A线剖面结构示意图。

图4是本申请实施例的一种喷釉设备的沿图2中B-B线剖面结构示意图。

图5是本申请实施例的一种喷釉设备的部分爆炸结构示意图。

附图标记说明：

1、喷釉室；11、喷釉头；12、回收口；13、窗口；14、窗扇；15、滑轨；16、垫块；17、支撑脚；171、第一螺栓；172、第一螺帽；

2、机架；21、限位轨；211、第一滑槽；22、导轨；221、第三滑槽；23、第一锁定件；231、第二螺栓；232、第二螺帽；24、第二滑槽；25、第二锁定件；251、第三螺栓；252、第三螺帽；26、安装座；27、驱动件；

3、传送带；31、辊筒；32、皮带；

4、回收组件；41、集料箱；42、回收管；

5、通料室。

具体实施方式

以下结合全部附图对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种喷釉设备。参照图1，喷釉设备包括喷釉室1、机架2与传送带3，喷釉室1形成有内腔且两侧有开口，其位于机架2的中部，喷釉室1的内腔设有喷釉头11，喷釉头11连接有供釉机构，传送带3的中间段穿过喷釉室1的内腔，传送带3用于放置瓦片以方便瓦片运输，瓦片被传送至喷釉室1的内腔时，喷釉头11对瓦片进行喷釉。

喷釉室1的两侧设有通料室5，通料室5与喷釉室1一体成型，通料室5与喷釉室1连通且通料室5开设有用于输送瓦片的开口，通料室5的开口高度低于喷釉室1的内腔顶壁高度，可阻挡部分釉料逸散到外界，以此维持生产环境的清洁。

参照图2与图3，喷釉室1位于传送带3两侧的侧壁上开设有窗口13，窗口13呈方形，喷釉室1的内侧壁上焊接固定有两条滑轨15，滑轨15宽度方向上的截面呈C形，两条滑轨15之间滑移连接有透明的窗扇14。窗扇14呈方形，且窗扇14可在滑轨15上水平滑移，操作员可透过窗扇14观察到喷釉室1内的喷釉头11对瓦片的喷釉情况，若出现异常情况，操作员可关闭喷釉设备并打开窗扇14对喷釉头11做出调整。

喷釉室1的底面设有用于支撑传送带3的垫块16，垫块16呈长条状，垫块16的长度方向与传送带3传送方向垂直，垫块16有两个，且分别位于喷釉室1开口的两侧，垫块16与传送带3的接触面为凸弧状，可减小与传送带3接触时的摩擦力，减少传送带3的磨损，方便传送带3在输送时更流畅。

喷釉室1的底面呈漏斗状，其最低处开设有回收口12，回收口12远离喷釉室1内腔的一侧连接有用于收集多余釉料的回收组件4，回收组件4包括集料箱41、回收管42与回流泵，集料箱41与回收口12连通，喷釉室1内多余的釉料通过回收口12流入集料箱41内，集料箱41一侧与回流泵连接，回流泵通过回收管42与喷釉头11连通，回收管42通过回流泵用于将集料箱41内的釉料输出回收至喷釉头11进行重新利用。

通釉室的底面焊接固定有两个支撑脚17，支撑脚17呈空心的管状体，其长度方向与机架2垂直，支撑脚17与机架2的接触面开设有插孔，插孔中设有第一螺栓171，第一螺栓171上螺纹套设有第一螺帽172，第一螺栓171穿过支撑脚17、机架2与第一螺帽172螺纹连接，第一螺帽172与机架2抵接，以此固定喷釉室1。而将第一螺帽172从第一螺栓171上拧出后，喷釉室1可从机架2上拆卸下来。

参照图4，喷釉室1的内腔内的喷釉头11有两组，两组喷釉头11通过回收管42相互连接且均位于喷釉室1的内腔顶部，其中一组的一个喷釉头11位于传送带3的正上方，另一组的两个喷釉头11分别位于传送带3的两侧，两组喷釉头11均朝向传送带3，两组喷釉头11可从三个方向对位于传送带3上的瓦片喷釉，以此提升喷釉效果。

参照图3、图5，传送带3包括两条皮带32及驱动组件，驱动组件包括两个辊筒31及驱动件27，两个辊筒31分别位于机架2的两端，两个皮带32相互平行且均套设在两个辊筒31上，辊筒31用于带动皮带32在喷釉室1的两侧传动。辊筒31两端设有安装座26，安装座26呈C形且开口朝上，辊筒31与驱动件27连接，驱动件27采用电机，驱动件27与安装座26固定，驱动件27输出轴与辊筒31同轴固定。

机架2上沿瓦片传输方向开设有第二滑槽24，安装座26与机架2之间连接有第二锁定件25，第二锁定件25包括第三螺栓251与第三螺帽252，第三螺栓251穿过第二滑槽24、安装座26的一端与第三螺帽252螺纹连接，安装座26通过第二滑槽24与机架2滑移连接，安装座26可在第二滑槽24上滑移以带动辊筒31滑移，方便调节套在辊筒31上的皮带32的松紧度。

辊筒31靠近喷釉室1的一侧设有用于限制皮带32偏移的限位轨21，限位轨21呈长条状，有两个且相互平行，限位轨21位于机架2的上方，其延伸方向与传送带3的传送方向一致，限位轨21开设有第一滑槽211，第一滑槽211的长度方向与传送带3的传送方向一致，皮带32的一段位于第一滑槽211内。限位轨21与机架2之间设有导轨22，导轨22呈空心长方体状，其长度方向垂直于限位轨21，导轨22顶面开设有第三滑槽221。

导轨22与限位轨21之间设有第一锁定件23，第一锁定件23包括第二螺栓231与第二螺帽232，第二螺栓231穿过第三滑槽221与限位轨21的一端与第二螺帽232螺纹连接，限位轨21可通过第一滑槽211与第一锁定件23在导轨22上滑动定位以调整两根皮带32的间距，从而适配不同宽度的瓦片，避免两个皮带间隔过宽而使瓦片掉落，提升运输稳定性。

本申请实施例一种喷釉设备的实施原理为：电机27带动辊筒31转动，辊筒31可带动皮带32传动，放置在皮带32上的瓦片通过皮带32传送至喷釉室1内，多个喷釉头11对瓦片进行喷釉，通料室5与喷釉室1可阻挡多余的釉料逸散到外界，可尽量避免对喷釉室1以外的环境造成污染，多余的釉料可通过回收组件4回收。

第三螺帽252从第三螺栓251上拧出后，安装座26可通过第二滑槽24在机架2上滑移调整连接位置，从而调整辊筒31的位置，进而调整皮带32的松紧度。

第二螺帽232从第二螺栓231中拧出后，限位轨21可通过第三滑槽221在导轨22上滑移调整连接位置，从而调整两根皮带32的间距，可适应大小不同的瓦片传输。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims

1.一种喷釉设备，其特征在于：包括机架（2），还包括与所述机架（2）连接的喷釉室（1），所述喷釉室（1）形成有内腔，所述喷釉室（1）两侧设有通料室（5），所述通料室（5）与所述喷釉室（1）连通且两侧开设有开口，所述通料室（5）的开口高度低于所述喷釉室（1）的内腔顶壁高度，所述机架（2）上设置有穿过所述喷釉室（1）的传送带（3），所述传送带（3）依次穿过所述通料室（5）、所述喷釉室（1）与另一个所述通料室（5），所述喷釉室（1）内设有喷釉头（11），所述喷釉头（11）连接有供釉机构，所述喷釉头（11）朝向所述传送带（3）上的瓦片。

2.根据权利要求1所述的喷釉设备，其特征在于：所述喷釉室（1）上开设有窗口（13），所述窗口（13）上盖设有透明的窗扇（14），所述喷釉室（1）内侧壁上设有滑轨（15），所述窗扇（14）与所述滑轨（15）滑移连接。

3.根据权利要求1所述的喷釉设备，其特征在于：所述通料室（5）连接有支撑脚（17），所述支撑脚（17）与所述机架（2）均开设有插孔，所述插孔中穿设有第一螺栓（171），所述第一螺栓（171）穿过所述支撑脚（17）、所述机架（2）的一端螺纹连接有第一螺帽（172）。

4.根据权利要求1所述的喷釉设备，其特征在于：所述喷釉室（1）的内腔底面呈漏斗状，所述喷釉室（1）底部开设有回收口（12），所述回收口（12）位于所述喷釉室（1）的内腔底面最低处，所述喷釉室（1）设有与所述回收口（12）连通的回收组件（4）。

5.根据权利要求4所述的喷釉设备，其特征在于：所述回收组件（4）包括集料箱（41）、回收管（42）与回流泵，所述回收管（42）连通所述集料箱（41）与所述喷釉头（11），所述回收口（12）与所述集料箱（41）连通，所述回流泵与所述集料箱（41）、所述回收管（42）连通。

6.根据权利要求1所述的喷釉设备，其特征在于：所述喷釉室（1）的内腔底壁设有垫块（16），所述垫块（16）与所述传送带（3）接触，所述垫块（16）与所述传送带（3）接触侧设有圆弧面。

7.根据权利要求1所述的喷釉设备，其特征在于：所述喷釉头（11）有两组，两组所述喷釉头（11）均位于所述喷釉室（1）的内腔顶部，其中一组所述喷釉头（11）位于所述传送带（3）的正上方，另外一组中的多个所述喷釉头（11）分别位于所述传送带（3）的两侧，两组内的多个所述喷釉头（11）均朝向所述传送带（3）。

8.根据权利要求1所述的喷釉设备，其特征在于：所述传送带（3）包括皮带（32）及驱动组件，所述机架（2）上设有限位轨（21），所述限位轨（21）内开设有第一滑槽（211），所述第一滑槽（211）的长度方向与所述传送带（3）传送方向一致，所述皮带（32）与所述第一滑槽（211）滑移连接。

9.根据权利要求8所述的喷釉设备，其特征在于：所述机架（2）上设有导轨（22），所述限位轨（21）沿垂直于所述传送带（3）传输方向与所述导轨（22）滑动连接，所述限位轨（21）与所述导轨（22）之间设置有第一锁定件（23）。

10.根据权利要求8所述的喷釉设备，其特征在于：所述驱动组件包括驱动件（27）及至少两个辊筒（31），所述皮带（32）套设在多个所述辊筒（31）上，所述机架（2）两端开设有第二滑槽（24），所述第二滑槽（24）长度方向与所述传送带（3）传送方向一致，所述辊筒（31）通过所述第二滑槽（24）与所述机架（2）滑移连接，所述机架（2）与所述辊筒（31）之间设置有第二锁定件。