CN216117305U - 一种椭偏仪测量装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种椭偏仪测量装置，包括平面二维机械移动平台以及用于固定样品的样品台，所述平面二维机械移动平台固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在平面二维机械移动平台上，通过平面二维机械移动平台带动支座上的样品台沿平面移动。本实用新型采用平面二维机械移动平台代替镊子移动晶片，减少测量过程中人为移动晶片的次数，减少晶片表面破损与污染，提高良率，且其结构简单，在生产制造过程中便于操作。

Description

一种椭偏仪测量装置

技术领域

本实用新型属于半导体器件的生产制造领域，具体涉及一种椭偏仪测量装置。

背景技术

在半导体工业中，椭偏仪通常用来测量晶片上的薄膜厚度与光学常数。在对晶片进行多区域测量时，需要移动晶片测量区域至椭偏仪光斑下。传统方法是通过镊子移动晶片，并且采用吸笔取放晶片，这样很容易造成晶片表面破损与污染。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术之缺陷，提供了一种椭偏仪测量装置，其采用平面二维机械移动平台代替镊子移动晶片，减少测量过程中人为移动晶片的次数，减少晶片表面破损与污染，提高良率。

本实用新型的技术方案是这样实现的：本实用新型公开了一种椭偏仪测量装置，包括平面二维机械移动平台以及用于固定样品的样品台，所述平面二维机械移动平台固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在平面二维机械移动平台上，通过平面二维机械移动平台带动支座上的样品台沿平面移动。

所述支座为具有升降功能的支座。

进一步地，所述支座包括螺纹套和螺纹柱，所述螺纹柱伸入螺纹套内，螺纹柱与螺纹套螺纹配合，形成升降柱。

本实施例升降柱的上部为螺纹套，下部为螺纹柱，上部螺纹套的外壁上设有调节手柄。

进一步地，所述支座包括两个水平调节旋钮，所述支座的上端固定有用于支撑样品台中心位置的支撑柱，两个水平调节旋钮竖向设置，两个水平调节旋钮的调节杆上端穿过支座上端支板的螺纹孔，支撑在样品台的下端，两个水平调节旋钮的调节杆与支座上端支板的螺纹孔螺纹配合。

进一步地，所述平面二维机械移动平台包括底板、第一旋钮、第二旋钮、第二齿条、第一齿条、第一平台和第二平台，所述第一齿条与第一平台固定连接，所述第二齿条与第二平台固定连接，所述第一旋钮通过第一连接件与第一齿轮相连，第一齿轮与第一齿条啮合，所述第二旋钮通过第二连接件与第二齿轮相连，第二齿轮与第二齿条啮合，所述第一平台滑动配合在第二平台上，并通过第一齿条、第一齿轮的作用在第二平台上沿X轴滑移，所述第一旋钮对应调整第一平台在X轴方向上的位置，所述第二平台滑动配合在底板上，并通过第二齿条、第二齿轮的作用在底板上沿Y轴滑移，所述第二旋钮对应调整第二平台在Y轴方向上的位置，所述底板固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在第一平台上。

进一步地，所述椭偏仪测量装置还包括紧固螺钉，所述紧固螺钉螺纹配合在平面二维机械移动平台的底板上，紧固螺钉水平设置，通过旋转紧固螺钉使紧固螺钉顶紧平面二维机械移动平台的端面，用于限制平面二维机械移动平台沿Y轴方向移动。

本实施例所述紧固螺钉螺纹配合在底板的安装板上，紧固螺钉顶紧第二平台的端面，用于限制平面二维机械移动平台沿Y轴方向移动。

进一步地，所述第二平台上设有刻度，用于测量平面二维机械移动平台沿X轴方向移动的距离。

进一步地，所述样品台设有用于安置晶片的凹槽。

本实用新型至少具有如下有益效果：本实用新型将平面二维机械移动平台固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在平面二维机械移动平台上，通过平面二维机械移动平台带动支座上的样品台沿平面移动，本实用新型采用平面二维机械移动平台代替镊子移动晶片，减少测量过程中人为移动晶片的次数，减少晶片表面破损与污染，提高良率，且其结构简单，在生产制造过程中便于操作。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本实用新型实施例提供的椭偏仪测量装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的椭偏仪测量装置安装在椭偏仪上的结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的椭偏仪测量装置的仰视图；

图4为本实用新型实施例提供的椭偏仪测量装置的支座上端示意图。

附图中，1为样品台，11为第一凹槽，12为第二凹槽，13为第三凹槽，2为平面二维机械移动平台，21为底板，22为第一平台，23为第二平台，24为第一旋钮，25为第二旋钮，26为导轨，27为第一齿条，28为第二齿条，29为刻度，210为紧固螺钉，211为安装板，3为支座，31为升降柱，32为水平调节旋钮，33为支撑柱，34为支板，35为样品台支撑板，4为椭偏仪，41为椭偏仪的底座。

具体实施方式

下面对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参见图1至图4，本实用新型实施例提供一种椭偏仪4测量装置，包括椭偏仪4、平面二维机械移动平台2以及用于固定样品的样品台1，所述平面二维机械移动平台2设置在椭偏仪的底座41上，所述样品台1通过支座3支撑在平面二维机械移动平台2上，通过平面二维机械移动平台2带动支座3上的样品台1沿平面的纵向(Y轴方向)、横向(X轴方向)移动。

所述支座3为具有升降功能的支座3。

进一步地，所述支座3包括螺纹套和螺纹柱，所述螺纹柱伸入螺纹套内，螺纹柱与螺纹套螺纹配合，形成升降柱31。升降柱31的下端固定在第二平台23上。

本实施例升降柱31的上部为螺纹套，下部为螺纹柱，上部螺纹套的外壁上设有调节手柄。旋转调节手柄，样品台1可竖直移动。

进一步地，所述支座3包括两个水平调节旋钮32，所述支座3的上端固定有用于支撑样品台1中心位置的支撑柱33，两个水平调节旋钮32竖向设置，两个水平调节旋钮32的调节杆上端穿过支座3上端支板34的螺纹孔，支撑在样品台1的下端，两个水平调节旋钮32的调节杆与支座3上端支板34的螺纹孔螺纹配合。旋转两个水平调节旋钮32可调节样品台1水平。

所述支座3还包括样品台支撑板35，所述样品台支撑板35支撑在两个水平调节旋钮32的调节杆上端以及支撑柱33的上端，所述样品台1放置在样品台支撑板35上。样品台支撑板35的下端设有用于与支撑柱33、水平调节旋钮32的调节杆间隙配合的盲孔。

进一步地，所述平面二维机械移动平台2包括底板21、第一旋钮24、第二旋钮25、第二齿条28、第一齿条27、第一平台22和第二平台23，所述第一齿条27与第一平台22固定连接，所述第二齿条28与第二平台23固定连接，所述第一旋钮24通过第一连接件与第一齿轮相连，第一齿轮与第一齿条27啮合，所述第二旋钮25通过第二连接件与第二齿轮相连，第二齿轮与第二齿条28啮合，所述第一平台22滑动配合在第二平台23上，并通过第一齿条27、第一齿轮的作用在第二平台23上沿X轴滑移，所述第一旋钮24对应调整第一平台22在X轴方向上的位置，所述第二平台23滑动配合在底板21上，并通过第二齿条28、第二齿轮的作用在底板21上沿Y轴滑移，所述第二旋钮25对应调整第二平台23在Y轴方向上的位置，所述底板21固定在椭偏仪的底座41上，所述样品台1通过支座3支撑在第一平台22上。旋转第一旋钮24可使第一平台22带动样品台1横向移动即沿X轴方向移动。旋转第二旋钮25可使第二平台23带动样品台1纵向移动即沿Y轴方向移动。所述平面二维机械移动平台2的底板21上固定有沿Y轴方向延伸的导轨26，所述第二平台23的下端设有滑槽，与底板21上的导轨26滑动配合。所述第二齿条28与导轨26平行设置。所述第二齿轮限位在第二齿条28与一导轨26之间。所述第二平台23设有用于安装第二齿轮、第一齿轮的安装腔。

本实施例的第一旋钮24、第二旋钮25可以采用双层旋钮结构，当然，也不限于双层旋钮结构，第一旋钮24、第二旋钮25可以分别设置。

当第一旋钮24、第二旋钮25采用双层旋钮结构时，可以采用如下结构：第二旋钮25通过第二连接轴与第二齿轮连接，第一旋钮24通过第一连接轴与第一齿轮连接，第一连接轴为空心轴，第二连接轴的上端与第二旋钮25固定连接，第二连接轴的下端穿过第一连接轴后与第二齿轮周向固定连接。所述第一连接轴的上端与第一旋钮24固定连接，第一连接轴的下端与第一齿轮周向固定连接。上面的旋钮控制样品台纵向移动，下面的旋钮控制样品台横向移动。

所述第二平台23的上端沿X轴的方向设有贯穿第二平台23两端的滑槽，所述第一平台22与第二平台23的上端的滑槽滑动配合。所述第一平台22的侧壁设有沿X轴的方向延伸的第一齿条27。

进一步地，所述椭偏仪4测量装置还包括紧固螺钉，所述紧固螺钉螺纹配合在平面二维机械移动平台的底板上，紧固螺钉水平设置，通过旋转紧固螺钉使紧固螺钉顶紧平面二维机械移动平台的端面，用于限制平面二维机械移动平台沿Y轴方向移动。

本实施例所述紧固螺钉210螺纹配合在底板21的安装板211上，紧固螺钉210顶紧第二平台23的端面，用于限制平面二维机械移动平台2的第二平台沿Y轴方向移动。本专利还可以采用紧固螺钉限制平面二维机械移动平台2的第一平台沿X轴方向移动。

进一步地，所述第二平台23上设有刻度29，用于测量平面二维机械移动平台2沿X轴方向移动的距离。刻度29量程为10cm。

进一步地，所述样品台1设有用于安置晶片的凹槽。在样品台1上，可从凹槽处取放晶片。凹槽的形状与晶片的形状相适应，可以根据需要进行调整。样品台凹槽的作用是用于固定晶片的位置，并且避免吸笔取放晶片时晶片滑动，甚至力度过大使晶片滑落样品台。

所述样品台1设有三个连通的凹槽，第一凹槽11的槽深为1cm-2cm，第二凹槽12的槽深为2.5cm-3cm。第三凹槽13的槽深为3.5cm-4cm。

晶片放置在第一凹槽11内，晶片的主参对准第二凹槽12，便于确定测量区域。

本实用新型的工作原理如下：用吸笔取一片晶片，主参对准第二凹槽12置于第一凹槽11中，为使椭偏仪4光斑落在晶片待测量区域，可按照以下步骤移动样品台1：

a.旋转第二旋钮25，使样品台1纵向移动；

b.拧紧紧固螺钉210，防止样品台1在下一步横向移动时纵向滑动；

C.旋转第一旋钮24，使样品台1横向移动；

待光斑落在待测量区域上，即可进行测量。测量完后，使用吸笔从第三凹槽13处取下晶片。

本实用新型的结构简单，操作方便，适用于半导体器件生产领域。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种椭偏仪测量装置，其特征在于：包括平面二维机械移动平台以及用于固定样品的样品台，所述平面二维机械移动平台固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在平面二维机械移动平台上，通过平面二维机械移动平台带动支座上的样品台沿平面移动。

2.根据权利要求1所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述支座为具有升降功能的支座。

3.根据权利要求2所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述支座包括螺纹套和螺纹柱，所述螺纹柱伸入螺纹套内，螺纹柱与螺纹套螺纹配合，形成升降柱。

4.根据权利要求1或2所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述支座包括两个水平调节旋钮，所述支座的上端固定有用于支撑样品台中心位置的支撑柱，两个水平调节旋钮竖向设置，两个水平调节旋钮的调节杆上端穿过支座上端支板的螺纹孔，支撑在样品台的下端，两个水平调节旋钮的调节杆与支座上端支板的螺纹孔螺纹配合。

5.根据权利要求1所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述平面二维机械移动平台包括底板、第一旋钮、第二旋钮、第二齿条、第一齿条、第一平台和第二平台，所述第一齿条与第一平台固定连接，所述第二齿条与第二平台固定连接，所述第一旋钮通过第一连接件与第一齿轮相连，第一齿轮与第一齿条啮合，所述第二旋钮通过第二连接件与第二齿轮相连，第二齿轮与第二齿条啮合，所述第一平台滑动配合在第二平台上，并通过第一齿条、第一齿轮的作用在第二平台上沿X轴滑移，所述第一旋钮对应调整第一平台在X轴方向上的位置，所述第二平台滑动配合在底板上，并通过第二齿条、第二齿轮的作用在底板上沿Y轴滑移，所述第二旋钮对应调整第二平台在Y轴方向上的位置，所述底板固定在椭偏仪的底座上，所述样品台通过支座支撑在第一平台上。

6.根据权利要求1或5所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：还包括紧固螺钉，所述紧固螺钉螺纹配合在平面二维机械移动平台的底板上，紧固螺钉水平设置，通过旋转紧固螺钉使紧固螺钉顶紧平面二维机械移动平台的端面，用于限制平面二维机械移动平台沿Y轴方向移动。

7.根据权利要求5所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述第二平台上设有刻度，用于测量平面二维机械移动平台沿X轴方向移动的距离。

8.根据权利要求1所述的椭偏仪测量装置，其特征在于：所述样品台设有用于安置晶片的凹槽。

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