CN216117028U - 一种gdms设备高纯样制样用高纯石墨模具 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具，属于模具技术领域，包括石墨模具，所述石墨模具的表面上端均匀设置有两组凹槽。本实用新型将石墨模具采用一体式结构，将熔铸好的金属物料加入凹槽，待样品冷却后倒出脱模，该高纯石墨模具可实现平底纽扣状测试样的一次成型，不再经过任何压制工序，大大减少了引入杂质的可能性，结构简单、易于加工、安全性好、操作简单，同时可完美实现熔铸后产品成型效果直接用于设备检测，可在GDMS设备检测行业中推广。
Description
技术领域
本实用新型属于模具技术领域，具体涉及一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具。
背景技术
GDMS(GlowDischargeMassSpectrometry)，也称辉光放电质谱，是利用辉光放电源作为离子源与质谱仪器联接进行质谱测定的一种分析方法，GDMS是分析高纯金属材料成分最有效的手段，稳定性好，记忆效应小，基体效应小，检测极限低，可以稳定检测ppb(109)级别的元素含量，因此可以有效确认超高纯材料中主要杂质含量，可用于分析高纯铜的原材料纯度和性能。GDMS原理是将具有平整表面的被测样品作为辉光放电的阴极，样品在直流或射频或脉冲辉光放电装置中产生阴极溅射，被溅射的样品原子离开样品表面扩散到等离子体中，通过各元素质荷比和响应信号的强弱，对被分析元素进行定性和定量分析。GDMS检测主要是通过辉光放电溅射样品表面分析样品成分，样品表面的处理方法对检测的准确性和可靠性有着决定性作用。样品处理的过程中应遵循不改变样品本身成分的原则进行，且同时也要除去样品表面因外界环境造成的污染。
目前，市场上的GDMS制样基本采用传统的粉末压制机，将原料压制成块检测，这种存在很大的杂质引入风险，对于检测5N及以上产品而言最重要的便是控制杂质引入。
实用新型内容
为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具，具有成型效果良好的特点。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具，包括石墨模具，所述石墨模具的表面上端均匀设置有两组凹槽。
优选的，所述凹槽的下沉深度为石墨模具的厚度的四分之一。
优选的，所述凹槽的底部为平底光滑结构。
优选的，两个所述凹槽之间保持一个槽的间距。
优选的，所述石墨模具和凹槽采用一体式结构。
优选的，所述石墨模具的上端表面设为光滑结构，所述石墨模具的四周和底部设为粗糙结构。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
本实用新型将石墨模具采用一体式结构，将熔铸好的金属物料加入凹槽，待样品冷却后倒出脱模，该高纯石墨模具可实现平底纽扣状测试样的一次成型，不再经过任何压制工序，大大减少了引入杂质的可能性，结构简单、易于加工、安全性好、操作简单，同时可完美实现熔铸后产品成型效果直接用于设备检测，可在GDMS设备检测行业中推广。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的俯视图；
图3为本实用新型的剖视图；
图中：1、凹槽；2、石墨模具。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，本实用新型提供以下技术方案：一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具，包括石墨模具2，石墨模具2的表面上端均匀设置有两组凹槽1。
具体的，凹槽1的下沉深度为石墨模具2的厚度的四分之一，
通过采用上述技术方案，保证结构稳定，方便成型。
具体的，凹槽1的底部为平底光滑结构，
通过采用上述技术方案，方便成型脱模。
具体的，两个凹槽1之间保持一个槽的间距，
通过采用上述技术方案，保证加工稳定，不会相互影响。
具体的，石墨模具2和凹槽1采用一体式结构，
通过采用上述技术方案，提高结构稳定性，加工方便。
具体的，石墨模具2的上端表面设为光滑结构，石墨模具2的四周和底部设为粗糙结构，
通过采用上述技术方案，增加固定摩擦力，提高固定牢靠性。
本实用新型的工作原理及使用流程：本实用新型使用时，将石墨模具2固定好，石墨模具2采用一体式结构，将熔铸好的金属物料加入凹槽1，待样品冷却后倒出脱模，该高纯的石墨模具2可实现平底纽扣状测试样的一次成型，不再经过任何压制工序，大大减少了引入杂质的可能性，结构简单，使用便携。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具，包括石墨模具(2)，其特征在于：所述石墨模具(2)的表面上端均匀设置有两组凹槽(1)；所述石墨模具(2)的上端表面设为光滑结构，所述石墨模具(2)的四周和底部设为粗糙结构。
2.根据权利要求1所述的一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具，其特征在于：所述凹槽(1)的下沉深度为石墨模具(2)的厚度的四分之一。
3.根据权利要求1所述的一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具，其特征在于：所述凹槽(1)的底部为平底光滑结构。
4.根据权利要求1所述的一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具，其特征在于：两个所述凹槽(1)之间保持一个槽的间距。
5.根据权利要求1所述的一种GDMS设备高纯样制样用高纯石墨模具，其特征在于：所述石墨模具(2)和凹槽(1)采用一体式结构。
Priority Applications (1)
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| CN202120951709.5U CN216117028U (zh) | 2021-05-06 | 2021-05-06 | 一种gdms设备高纯样制样用高纯石墨模具 |
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Publications (1)
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- 2021-05-06 CN CN202120951709.5U patent/CN216117028U/zh active Active
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