CN216093398U - 一种光刻胶混配过滤供应设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种光刻胶混配过滤供应设备，包括设备主体，设备主体顶部安装有高效空气过滤器和排风装置，高效空气过滤器、排风装置与设备底部回风道形成洁净空气流场，设备主体内后部设有两个混合桶槽，两个混合桶槽顶部分别装设有搅拌电机，两个搅拌电机分别带动搅拌桨对两个混合桶槽内溶液充分混合搅拌，混合桶槽一底部通过供应泵一连接过滤器组合一，过滤器组合一通过管道分别连接两个混合桶槽顶部的进口，混合桶槽二底部通过供应泵二连接过滤器组合二，过滤器组合二通过管道分别连接供应出口、混合桶槽二顶部的进口，供应出口通过管道连接至充填区；本实用新型可保证管道和桶槽内光刻胶不易结晶，且更大程度上考虑了操作人员的安全。

Description

一种光刻胶混配过滤供应设备

[技术领域]

本实用新型涉及光刻胶供应技术领域，具体地说是一种光刻胶混配过滤供应设备。

[背景技术]

集成电路(IC)制造已成为世界上最高新和最庞大的产业之一，在超大规模集成电路(IC)的生产中光刻工艺占据十分重要的地位。集成电路(IC)制造中，需要将掩膜母版上的几何图形先转移到基片表面的光刻胶胶膜上，然后再通过从曝光到蚀刻等一系列处理技术把光刻胶膜上的图像复制到衬底基片表面并形成永久性图形。其中典型的微细加工过程包括基片预处理、涂胶、前烘、曝光、显影、清洗、后烘、蚀刻、去胶，得到所需的永久性图形，也即在图形化处理之前，先对硅片进行烘干和处理，然后均匀涂上光刻胶，经前烘去除光刻胶溶剂通过步进缩小投影曝光，在硅片上形成曝光电路图形。然后经显影，曝光部分去除，保留下没有曝光部分。经后烘，使光刻胶膜粘附更坚固。再用湿法刻蚀，将电路图形永久地保留在硅片上。同时采用热扩散和离子注入进行掺杂，最后用去胶剂去除光刻胶膜，在硅片上形成永久性的IC设计图形。

在集成电路或半导体分立器件的制做过程中往往需要多次甚至几十次的光刻，每次光刻均需要完成上述的工序循环。光刻胶的技术复杂，品种较多。光刻胶混配过滤供应系统的好坏直接影响CMP制程效果。光刻胶在预先混合和使用中不能产生较大颗粒、结晶、感光等问题。为了解决此类问题，人们一直在寻求一种更理想的安全操作模式的技术解决方案。

国内光刻胶混配过滤供应系统的此类设备多数依赖进口，随着国内半导体行业的快速发展与之配套的上游精细化工产业也纷纷配套研发。为了解决此类问题，人们一直在寻求一种更理想的既准确有又方便的技术解决方案。

随着我国半导体行业的不断发展，化学品品种越来越多，国内对化学品供应流程及供应过程的要求越来越严格，精度越来越高。目前国内光刻胶混配过滤供应系统都采用混合桶、泵和过滤器混合，混合后进入储存桶槽储存，混合和储存中需要不断保持光刻胶流动，设备体积庞大，过滤器滤芯报废过快，造价成本高。另外光刻胶的结晶，絮凝等特性目前设备解决方案没有很好的解决办法，设备可靠性不高。由于化学溶液的的腐蚀性特性，目前市面上现有的设备运动执行部件多，会导致设备内环境颗粒无法控制，无法满足高洁净度化学溶液的充填封装需求并具有一定的操作风险性，人力成本高，安全性不足。

且目前国内此类设备多数依赖进口并且无法达到客户需求并随着需求改变而及时灵活调整设计，设计上安全保护措施也不充分等问题。随着国内半导体行业的快速发展，因此对化学品的生产效率、洁净度、安全性等也提出更高的要求。若能提供一种光刻胶混配过滤供应设备以解决上述的不足，并使得操作方便，降低成本且大大提高工作效率和安全性，将具有非常重要的意义。

[实用新型内容]

本实用新型的目的就是要解决上述的不足而提供一种光刻胶混配过滤供应设备，能够保证管道和桶槽内光刻胶不易结晶，保证光刻胶品质，且更大程度上考虑了操作人员的安全，整个操作过程安全、可靠。

为实现上述目的设计一种光刻胶混配过滤供应设备，包括设备主体1，所述设备主体1内分割成充填区、设备管道区、设备仪控区21及设备气体控制区22，所述设备仪控区21设有PLC控制系统12，所述设备主体1顶部安装有高效空气过滤器3和排风装置4，所述设备主体1内底部设置有设备底部回风道8，所述高效空气过滤器3、排风装置4与设备底部回风道8形成洁净空气流场，所述设备主体1内后部设有混合桶槽一32和混合桶槽二34，所述混合桶槽一32、混合桶槽二34分别置于电子秤组合一29、电子秤组合二37上，所述混合桶槽一32、混合桶槽二34顶部分别装设有搅拌电机一26、搅拌电机二24，所述搅拌电机一26带动搅拌桨一31对混合桶槽一32内溶液充分混合搅拌，所述搅拌电机二24带动搅拌桨二33对混合桶槽二34内溶液充分混合搅拌，所述混合桶槽一32底部通过管道连接供应泵一30，所述供应泵一30通过管道连接过滤器组合一27，所述过滤器组合一27通过管道分别连接混合桶槽一32、混合桶槽二34顶部的进口，所述混合桶槽二34底部通过管道连接供应泵二35，所述供应泵二35通过管道连接过滤器组合二36，所述过滤器组合二36通过管道分别连接供应出口38、混合桶槽二34顶部的进口，所述供应出口38通过管道连接至充填区。

进一步地，所述混合桶槽一32、混合桶槽二34上分别设有高纯氮气接口三25、高纯氮气接口二23，并通过高纯氮气接口三25、高纯氮气接口二23对桶内加入GN2确保桶内正压状态。

进一步地，所述供应出口38通过管道连接至充填区的充填接口15，并经充填接口15将合格产品加入到充填定量装置一16和充填定量装置二17中，所述充填接口15处的切换控制阀通过线路连接PLC控制系统12，所述充填定量装置一16、充填定量装置二17分别通过管道连接高纯氮气接口一20，所述高纯氮气接口一20通过管道连接取样装置13，所述高纯氮气接口一20将充填定量装置一16、充填定量装置二17中的溶液压入到取样装置13的取样瓶中。

进一步地，所述取样装置13设计纯水清洗管道，所述纯水清洗管道用于取样后进行清洁，所述取样装置13通过线路连接PLC控制系统12。

进一步地，所述充填定量装置一16、充填定量装置二17上均设置有液位检测传感器14，所述充填定量装置一16、充填定量装置二17分别对应连接有排气管口一18、排气管口二19。

进一步地，所述充填区前部装设有前防护拉门2，所述充填区设有充填机械手臂5以及布置于充填机械手臂5下方的取样瓶定位机构7，所述充填机械手臂5包括电缸6、充填阀组10、气缸11、接酸盒机构9，所述电缸6的输出端连接充填阀组10，并控制充填阀组10上下移动，所述气缸11的活塞端连接接酸盒机构9，并控制接酸盒机构9前后移动，所述电缸6、气缸11分别通过线路连接PLC控制系统12，所述充填阀组10的气动阀门配合充填机械手臂5同时配合取样瓶定位机构7以精确定位取样瓶。

进一步地，所述设备主体1底部装设有泄露传感器28，所述泄露传感器28通过线路连接PLC控制系统12。

进一步地，所述设备主体1采用不锈钢304L镜面板制成，所述混合桶槽一32、混合桶槽二34均采用SUS316LEP材质制成。

本实用新型同现有技术相比，具有如下优点：

(1)本实用新型整体设备采用洁净材料，顶部高效过滤器，合理的回风系统，设备内形成洁净空气流场，提高分装区域洁净度，防止残余腐蚀性气体挥发，调高作业人员安全性；

(2)本实用新型设计多级混合桶槽和搅拌系统通过多级过滤器，既能使得溶液充分混合，又可以保证管道和桶槽内光刻胶不易结晶，出现质量问题，增加设备可靠性，同时对桶内及连接管道进行高纯氮气保持正压，增加混合桶槽内的洁净度，保证光刻胶品质，确保光刻胶溶液的纯度；

(3)本实用新型设计PLC控制系统控制电缸、接酸盒模组、充填阀模组和气缸完成光刻胶的全自动充填，增加设备安全性，提高设备内洁净度；

(4)本实用新型能够实施供应及充填实时监测，充填参数可编辑和记录，实现产品生产可追溯，方便控制充填产品质量；

(5)本实用新型通过设计必要的防呆措施和设备侦测装置，控制化学品产品质量，提高作业人员安全性；

(6)本实用新型通过设计必要部件的防腐能力，避免金属离子污染，调高设备使用寿命；

(7)本实用新型采用标准化机械零部件易于采购和生产，使设备成本降低，维修保养方便而且全部可以国产化；

(8)本实用新型半导体光刻胶随着市场对半导体产品小型化、功能多样化的要求，不断通过缩短曝光波长提高极限分辨率，从而达到集成电路更高密度的集积；

(9)本实用新型使得机构省力易操作，并且开启环境为密闭环境，保证了开启环境的洁净度，更大程度上考虑了操作人员的安全，整个操作过程安全、可靠；

综上，本实用新型整体结构简单、新颖，使用方便，并方便制造且结构可靠性高；同时采用PLC控制不仅能够消除技术人员操作时的人为误差，还具有操作参数管理功能，能够保存、修改和重复使用各种操作参数，能够建立、保存、使用各种自定义的操作方法，十分的简洁方便，值得广泛推广应用。

[附图说明]

图1是本实用新型的立体结构示意图；

图2是本实用新型的正面结构示意图；

图3是本实用新型的局部结构示意图；

图中：1、设备主体 2、前防护拉门 3、高效空气过滤器 4、排风装置 5、充填机械手臂 6、电缸 7、取样瓶定位机构 8、设备底部回风道 9、接酸盒机构 10、充填阀组 11、气缸12、PLC控制系统 13、取样装置 14、液位检测传感器 15、充填接口 16、充填定量装置一17、充填定量装置二 18、排气管口一 19、排气管口二 20、高纯氮气接口一 21、设备仪控区22、设备气体控制区 23、高纯氮气接口二 24、搅拌电机二 25、高纯氮气接口三 26、搅拌电机一 27、过滤器组合一 28、泄露传感器 29、电子秤组合一 30、供应泵一 31、搅拌桨一32、混合桶槽一 33、搅拌桨二 34、混合桶槽二 35、供应泵二 36、过滤器组合二 37、电子秤组合二 38、供应出口。

[具体实施方式]

下面结合附图对本实用新型作以下进一步说明：

如附图1至附图3所示，本实用新型提供了一种光刻胶混配过滤供应设备，包括设备主体1，设备主体1内分割成充填区、设备管道区、设备仪控区21及设备气体控制区22，设备仪控区21设有PLC控制系统12，设备主体1顶部安装有高效空气过滤器3和排风装置4，设备主体1内底部设置有设备底部回风道8，高效空气过滤器3、排风装置4与设备底部回风道8形成洁净空气流场，设备主体1内后部设有混合桶槽一32和混合桶槽二34，混合桶槽一32、混合桶槽二34分别置于电子秤组合一29、电子秤组合二37上，混合桶槽一32、混合桶槽二34顶部分别装设有搅拌电机一26、搅拌电机二24，搅拌电机一26带动搅拌桨一31对混合桶槽一32内溶液充分混合搅拌，搅拌电机二24带动搅拌桨二33对混合桶槽二34内溶液充分混合搅拌，混合桶槽一32底部通过管道连接供应泵一30，供应泵一30通过管道连接过滤器组合一27，过滤器组合一27通过管道分别连接混合桶槽一32、混合桶槽二34顶部的进口，混合桶槽二34底部通过管道连接供应泵二35，供应泵二35通过管道连接过滤器组合二36，过滤器组合二36通过管道分别连接供应出口38、混合桶槽二34顶部的进口，供应出口38通过管道连接至充填区；混合桶槽一32、混合桶槽二34上分别设有高纯氮气接口三25、高纯氮气接口二23，并通过高纯氮气接口三25、高纯氮气接口二23对桶内加入GN2确保桶内正压状态。

其中，供应出口38通过管道连接至充填区的充填接口15，并经充填接口15将合格产品加入到充填定量装置一16和充填定量装置二17中，充填接口15处的切换控制阀通过线路连接PLC控制系统12，充填定量装置一16、充填定量装置二17分别通过管道连接高纯氮气接口一20，高纯氮气接口一20通过管道连接取样装置13，高纯氮气接口一20将充填定量装置一16、充填定量装置二17中的溶液压入到取样装置13的取样瓶中；取样装置13设计纯水清洗管道，纯水清洗管道用于取样后进行清洁，取样装置13通过线路连接PLC控制系统12；充填定量装置一16、充填定量装置二17上均设置有液位检测传感器14，充填定量装置一16、充填定量装置二17分别对应连接有排气管口一18、排气管口二19。

本实用新型中，充填区前部装设有前防护拉门2，充填区设有充填机械手臂5以及布置于充填机械手臂5下方的取样瓶定位机构7，充填机械手臂5包括电缸6、充填阀组10、气缸11、接酸盒机构9，电缸6的输出端连接充填阀组10，并控制充填阀组10上下移动，气缸11的活塞端连接接酸盒机构9，并控制接酸盒机构9前后移动，电缸6、气缸11分别通过线路连接PLC控制系统12，充填阀组10的气动阀门配合充填机械手臂5同时配合取样瓶定位机构7以精确定位取样瓶。设备主体1底部装设有泄露传感器28，泄露传感器28通过线路连接PLC控制系统12，设备主体1采用不锈钢304L镜面板制成，混合桶槽一32、混合桶槽二34均采用SUS316LEP材质制成。

本实用新型中，整体设备采用洁净材料，材质为不锈钢304L镜面板，根据钣金工艺设计、制造，设计顶部高效空气过滤器3，合理的回风系统，设计设备底部回风道(内置)及排风装置4在设备内形成洁净空气流场，使机台内部处于超高洁净环境中，满足光刻和蚀刻的环境需求，提高设备内的洁净度，防止残余腐蚀性气体挥发，有效保护各个机构件不被腐蚀并提高区域内作业人员安全性。设备采用全密闭设计，分割成充填区、设备管道区、设备仪控区21及设备气体控制区22四个区间，配合PLC控制系统12完成设备自动充填取样和自动供应功能。

混合桶槽一32为初混桶槽，采用SUS316LEP材质，为IC厂高洁净度化学品容器，其容量设计根据化学品系统需求而定；配合电子称组合一29以及配套搅拌电机一26带动搅拌桨一31对桶槽内不同种类溶液充分混合搅拌；通过供应泵一30提供动力，经过多级过滤器组合一27循环桶内溶液，混合过程中，要全程通过高纯氮气接口三25对桶内加入GN2，确保桶内正压状态；增加混合桶槽内的洁净度，保证光刻胶品质；综上所述达到混合出需求浓度的药品的目的，其各适配器连接处采用PFA材质管材和PFA防腐密封垫片或密封圈，全都是采用新高分子管道连接技术，确保整体管道系统整体无泄漏。

经过初混桶槽混合合格的溶液输送到混合桶槽二34，混合桶槽二34为终混桶槽，采用SUS316LEP材质，为IC厂高洁净度化学品容器，其容量设计根据初混桶槽混合桶槽一32容量而定；配合电子称组合二37以及配套搅拌电机二24带动搅拌桨二33对桶槽内溶液充分混合搅拌；通过供应泵二35提供动力，经过多级过滤器组合二36循环桶内溶液，混合过程中，要全程通过高纯氮气接口二23对桶内加入GN2，确保桶内正压状态；增加混合桶槽内的洁净度，经过多级过滤保证光刻胶溶液的纯度；达到目标纯度的溶液经过供应泵二35提供动力，经供应出口38管道输送至需求点；整个过程自动化程度高。

经供应出口38管道连接到充填接口15，将合格产品加入到充填定量装置一16和充填定量装置二17中，通过PLC控制系统12自动控制和切换自动阀使得达到不间断充填，充填定量装置一16和充填定量装置二17都各自设置液位检测传感器14，达到精准控制，容量可调的效果；通过高纯氮气接口一20将充填定量装置中的溶液压入到指定的取样瓶中，同时设计对应定量装置的排气管口一18和排气管口二19确保压力稳定和安全，达到自动充填和精准充填的效果。

充填区采用前防护拉门2设计，充填机械手臂5包含电缸6控制充填阀组10上下移动，气缸11控制接酸盒机构9前后移动，配合PLC控制系统12的紧急停止按钮及设备漏液传感器28保护设备充填过程及内部机构的安全运行，所有执行运动部件全部采用防腐蚀性材料保护，并设计在合理的空间位置中，避免机械运动中产生的颗粒污染物污染高洁净度化学溶液，提高产品质量，减少产品异常。采用充填阀组10的气动阀门配合充填机械手臂5配合精准取样瓶定位机构7，可以精确定位取样瓶，确保分装精度，提高生产效率，提高分装区环境洁净度，降低作业风险；同时配合设备前防护拉门2确保充填环境的密闭，实现了自动充填，全密闭设计，半自动操作，利于提高生产效率，提高安全性。

设备设计了独立的取样装置13，同时该装置设计纯水清洗管道，使取样后很方便清洁，并且取样环境为密闭环境，保证了取样环境的洁净度。并能准确掌握所取样的化学品容量，保证提供样品的分析结果的准确性；由于采用跟PLC控制系统12联动，使整个取样过程都是自动化控制，更大程度上考虑取样操作人员的安全。

本实用新型的应用原理为：光刻胶混配过滤供应设备可达到客户需求的精密精度并设计压力传感器和泄露传感器确保装置运行安全，同时设计电子秤表头和液位传感器实时联动PLC控制系统确保系统运行安全稳定。设备管路区域管路材质采用特氟龙(PFA)软管加自动阀设计可以防止液体泄露，安全性的装置采用冗余设计，杜绝化学溶液泄漏情况。光刻胶混配过滤供应设备所有配件都是采用高洁净度的不锈钢316L材质，机构件采用精加工制成，其中零件连接处采用PFA防腐密封圈，都是采用新高分子管道连接技术，确保管道系统整体无泄漏。光刻胶混配过滤供应设备整体材质和设计、加工要求都确保化学品的品质，结构设计精密新颖，可针对不同化学品溶剂测量需求元器件做对应加工定制，将成本及测量稳定性控制到极致。使用螺纹连接结构省力易操作，并且开启环境为密闭环境，保证了开启环境的洁净度，更大程度上考虑操作人员的安全，整个操作过程安全，可靠。实施分装实时监测，分装参数可编辑和记录，实现产品生产可追溯，方便控制分装产品质量。设计必要的防呆措施和设备侦测装置，控制分装化学品产品质量，提高作业人员安全性。

半导体芯片是信息技术的重要基础，电子元件在芯片上集成度的迅速提高是集成电路性能提高、价格降低的重要原因。光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，决定着芯片的最小特征尺寸，占芯片制造时间的40-50％。光刻胶是光刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料，光刻胶混配过滤供应设备满足半导体制造的苛刻的使用需求，且具有良好的耐磨性使得维护成本降低。

本实用新型采用标准化机械零部件易于采购和生产，使设备成本降低，维修保养方便且全部可以国产化。此设计使得机构省力易操作，并且开启环境为密闭环境，保证了开启环境的洁净度，更大程度上考虑操作人员的安全，整个操作过程安全，可靠。半导体光刻胶随着市场对半导体产品小型化、功能多样化的要求，不断通过缩短曝光波长提高极限分辨率，从而达到集成电路更高密度的集积。

本实用新型所述光刻胶混配过滤供应设备满足以下需求：超高的可靠性，自动化程度高，可以自动不间断供应(满足365天*24小时)；高精度的混合溶液精确性，无结晶，絮凝等问题；自动在线检测，自动纠正调整混合配比；高洁净度机械部件设计，满足集成电路(IC)制造需求；设备安全性设计满足半导体制造标准；实施自动化操作，监测，参数可编辑和记录；优化化学管道和其余零部件设计，保证混合精度和供应的安全稳定性；设计必要的清洗回路，提高光刻胶混合供应的质量。

本实用新型并不受上述实施方式的限制，其他的任何未背离本实用新型的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种光刻胶混配过滤供应设备，包括设备主体(1)，所述设备主体(1)内分割成充填区、设备管道区、设备仪控区(21)及设备气体控制区(22)，所述设备仪控区(21)设有PLC控制系统(12)，其特征在于：所述设备主体(1)顶部安装有高效空气过滤器(3)和排风装置(4)，所述设备主体(1)内底部设置有设备底部回风道(8)，所述高效空气过滤器(3)、排风装置(4)与设备底部回风道(8)形成洁净空气流场，所述设备主体(1)内后部设有混合桶槽一(32)和混合桶槽二(34)，所述混合桶槽一(32)、混合桶槽二(34)分别置于电子秤组合一(29)、电子秤组合二(37)上，所述混合桶槽一(32)、混合桶槽二(34)顶部分别装设有搅拌电机一(26)、搅拌电机二(24)，所述搅拌电机一(26)带动搅拌桨一(31)对混合桶槽一(32)内溶液充分混合搅拌，所述搅拌电机二(24)带动搅拌桨二(33)对混合桶槽二(34)内溶液充分混合搅拌，所述混合桶槽一(32)底部通过管道连接供应泵一(30)，所述供应泵一(30)通过管道连接过滤器组合一(27)，所述过滤器组合一(27)通过管道分别连接混合桶槽一(32)、混合桶槽二(34)顶部的进口，所述混合桶槽二(34)底部通过管道连接供应泵二(35)，所述供应泵二(35)通过管道连接过滤器组合二(36)，所述过滤器组合二(36)通过管道分别连接供应出口(38)、混合桶槽二(34)顶部的进口，所述供应出口(38)通过管道连接至充填区。

2.如权利要求1所述的光刻胶混配过滤供应设备，其特征在于：所述混合桶槽一(32)、混合桶槽二(34)上分别设有高纯氮气接口三(25)、高纯氮气接口二(23)，并通过高纯氮气接口三(25)、高纯氮气接口二(23)对桶内加入GN2确保桶内正压状态。

3.如权利要求1所述的光刻胶混配过滤供应设备，其特征在于：所述供应出口(38)通过管道连接至充填区的充填接口(15)，并经充填接口(15)将合格产品加入到充填定量装置一(16)和充填定量装置二(17)中，所述充填接口(15)处的切换控制阀通过线路连接PLC控制系统(12)，所述充填定量装置一(16)、充填定量装置二(17)分别通过管道连接高纯氮气接口一(20)，所述高纯氮气接口一(20)通过管道连接取样装置(13)，所述高纯氮气接口一(20)将充填定量装置一(16)、充填定量装置二(17)中的溶液压入到取样装置(13)的取样瓶中。

4.如权利要求3所述的光刻胶混配过滤供应设备，其特征在于：所述取样装置(13)设计纯水清洗管道，所述纯水清洗管道用于取样后进行清洁，所述取样装置(13)通过线路连接PLC控制系统(12)。

5.如权利要求3所述的光刻胶混配过滤供应设备，其特征在于：所述充填定量装置一(16)、充填定量装置二(17)上均设置有液位检测传感器(14)，所述充填定量装置一(16)、充填定量装置二(17)分别对应连接有排气管口一(18)、排气管口二(19)。

6.如权利要求1至5中任一项所述的光刻胶混配过滤供应设备，其特征在于：所述充填区前部装设有前防护拉门(2)，所述充填区设有充填机械手臂(5)以及布置于充填机械手臂(5)下方的取样瓶定位机构(7)，所述充填机械手臂(5)包括电缸(6)、充填阀组(10)、气缸(11)、接酸盒机构(9)，所述电缸(6)的输出端连接充填阀组(10)，并控制充填阀组(10)上下移动，所述气缸(11)的活塞端连接接酸盒机构(9)，并控制接酸盒机构(9)前后移动，所述电缸(6)、气缸(11)分别通过线路连接PLC控制系统(12)，所述充填阀组(10)的气动阀门配合充填机械手臂(5)同时配合取样瓶定位机构(7)以精确定位取样瓶。

7.如权利要求1所述的光刻胶混配过滤供应设备，其特征在于：所述设备主体(1)底部装设有泄露传感器(28)，所述泄露传感器(28)通过线路连接PLC控制系统(12)。

8.如权利要求1所述的光刻胶混配过滤供应设备，其特征在于：所述设备主体(1)采用不锈钢304L镜面板制成，所述混合桶槽一(32)、混合桶槽二(34)均采用SUS316LEP材质制成。

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