CN216063200U - 一种反应釜高低温炉 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种反应釜高低温炉，包括上釜盖、下釜体、加热器和均热块，下釜体包括连接部和下釜体本体，所述上釜盖通过螺栓与连接部连接，连接部位于下釜体本体的上端，下釜体的侧壁与均热块贴合，加热器包裹在均热块的外圈，本实用新型接触热阻很小，有效的增加传热效率，高低温炉升温速度和温度均匀性均有显著提高。通过选择加热器的材料和均热块的材料，制作的高低温炉可以实现不同的温度需求。
Description
技术领域
本实用新型涉及实验室、工业反应釜加热技术领域，具体涉及一种反应釜高低温炉。
背景技术
目前，反应釜在食品、医药、化工等领域的应用十分广泛，传统的反应釜通常是一个容器，内部设有搅拌装置，在反应釜本体上设置进料口和出料口，因为反应釜在工作时候，需要对反应进行加热，以便使得反应物在反应爸内处于最佳的反应温度。但是，目前的反应釜加热一般是采用设置在釜体外的加热元件，这种结构的反应釜在加热时，由于间隙较大，导致接触热阻巨大，釜内的反应物很难达到温度均匀，而且，对于大型的反应釜来说，很难实现快速加热，因此，这种结构的反应釜在使用时，难以实现精确的反应条件控制，严重影响反应效果。虽然目前也出现了一些反应釜加热炉，但是，目前的加热炉比较笨重，难以满足大型反应釜的要求，而且难以维修与装配，影响安装使用的方便性
现有技术主要是通过工业炉形式和反应釜有一定间隙空气对流加热形式实现加热功能,普遍存在设备体积大、温度均匀性不加，加热效率慢，受潮等问漏电等问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种反应釜高低温炉，以克服现有技术中的所述缺陷。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种反应釜高低温炉，包括上釜盖、下釜体、加热器和均热块，下釜体包括连接部和下釜体本体，所述上釜盖通过螺栓与连接部连接，连接部位于下釜体本体的上端，下釜体的侧壁与均热块贴合，加热器包裹在均热块的外圈。
优选的，下釜体本体为圆台结构，下釜体本体的顶部直径大于下釜体本体的底部直径，下釜体本体的顶部直径小于连接部的直径。
优选的，上釜盖为圆柱结构，上釜盖的直径与连接部的直径相等。
优选的，下釜体本体内设有测温元件，测温元件与加热器电连接。
优选的，加热器为铠装加热丝，均热块材料为黄铜或紫铜。
优选的，加热器为陶瓷加热器，均热块材料为310S或碳化硅。
优选的，加热器为半导体加热制冷元件，均热块材料为铝。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
本实用新型接触热阻很小，有效的增加传热效率，高低温炉升温速度和温度均匀性均有显著提高。通过选择加热器的材料和均热块的材料，制作的高低温炉可以实现不同的温度需求。
附图说明
图1为本实用新型示意图；
图2为本实用新型另一实施例示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图所示，本实用新型提供如下技术方案：一种反应釜高低温炉包括上釜盖1、下釜体2、加热器3和均热块4，下釜体2包括连接部21和下釜体本体22，所述上釜盖1通过螺栓与连接部21连接，连接部位于下釜体本体22 的上端，下釜体2的侧壁与均热块4贴合，加热器3包裹在均热块4的外圈。
均热块4将加热器包裹，加热器3对均热块加热后，均热块对下釜体加热，均热块起到均匀热传导的作用，相比于现有的加热器直接加热下釜体2 的高低温炉，有效的增加传热效率，高低温炉升温速度和温度均匀性均有显著提高。
在本实用新型一实施例中，下釜体本体22为圆台结构，下釜体本体22 的顶部直径大于下釜体本体22的底部直径，下釜体本体22的顶部直径小于连接部21的直径。圆台结构有利于与均热块充分接触，接触热阻很小，有效增加传热效率。
在本实用新型一实施例中，上釜盖1为圆柱结构，上釜盖1的直径与连接部21的直径相等。
在本实用新型一实施例中，下釜体本体22内设有测温元件，测温元件与加热器3电连接，即形成形成pid温度控制回路，根据测量的温度来控制加热器工作。此时高低温炉为加热炉。
在本实用新型一实施例中，加热器3为铠装加热丝，均热块4材料为黄铜或紫铜。均热块4材料也可以是其他热传系数高的材料。实现温度范围为室温～500度。即可以将高低温炉内的温度调整为室温～500度。此时高低温炉为加热炉。
在本实用新型一实施例中，加热器3为陶瓷加热器。均热块4材料为310S 或碳化硅，均热块4的材料也可以是其他耐高温材料。实现温度范围为室温～1200度。
在本实用新型一实施例中，加热器3为半导体加热制冷元件，均热块4 材料为铝，均热块4的材料也可以是其他热传系数高材料。实现温度范围为 -40～200度。此时高低温炉可以加热也可以制冷。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种反应釜高低温炉，其特征在于：包括上釜盖(1)、下釜体(2)、加热器(3)和均热块(4)，下釜体(2)包括连接部(21)和下釜体本体(22)，所述上釜盖(1)通过螺栓与连接部(21)连接，连接部位于下釜体本体(22)的上端，下釜体(2)的侧壁与均热块(4)贴合，加热器(3)包裹在均热块(4)的外圈。
2.根据权利要求1所述的一种反应釜高低温炉，其特征在于：下釜体本体(22)为圆台结构，下釜体本体(22)的顶部直径大于下釜体本体(22)的底部直径，下釜体本体(22)的顶部直径小于连接部(21)的直径。
3.根据权利要求2所述的一种反应釜高低温炉，其特征在于：上釜盖(1)为圆柱结构，上釜盖(1)的直径与连接部(21)的直径相等。
4.根据权利要求1所述的一种反应釜高低温炉，其特征在于：下釜体本体(22)内设有测温元件，测温元件与加热器(3)电连接。
5.根据权利要求1所述的一种反应釜高低温炉，其特征在于：加热器(3)为铠装加热丝，均热块(4)材料为黄铜或紫铜。
6.根据权利要求1所述的一种反应釜高低温炉，其特征在于：加热器(3)为陶瓷加热器，均热块(4)材料为310S或碳化硅。
7.根据权利要求1所述的一种反应釜高低温炉，其特征在于：加热器(3)为半导体加热制冷元件，均热块(4)材料为铝。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202122671554.2U CN216063200U (zh) | 2021-11-03 | 2021-11-03 | 一种反应釜高低温炉 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN216063200U true CN216063200U (zh) | 2022-03-18 |
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Family Applications (1)
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| CN202122671554.2U Active CN216063200U (zh) | 2021-11-03 | 2021-11-03 | 一种反应釜高低温炉 |
Country Status (1)
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2021
- 2021-11-03 CN CN202122671554.2U patent/CN216063200U/zh active Active
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