CN215867496U - 版架、腐蚀机及显影设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种版架、腐蚀机及显影设备，版架包括底架和支撑架，支撑架设置在底架上并用于支撑掩膜版；支撑架具有用于被掩膜版覆盖的预设支撑面；沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，预设支撑面逐渐远离掩膜版，这样可以减小支撑架的预设支撑面和掩膜版之间的接触面积，甚至可以使支撑架和掩膜版之间为线接触，进而减少掩膜版和版架之间的摩擦现象，以降低对掩模版造成划伤的风险，解决了现有技术中的版架容易对掩膜版造成划伤的问题。

Description

版架、腐蚀机及显影设备

技术领域

本实用新型涉及掩膜版版架领域，具体而言，涉及一种版架、腐蚀机及显影设备。

背景技术

现有技术中，掩膜版设置在版架上，电机带动版架旋转，进而带动掩膜版转动；在掩膜版转动过程中，向掩膜版喷洒药剂，以完成掩模版的处理流程。

然而，由于掩膜版通常是放置在版架上，故在版架带动掩膜版转动过程中，掩模版玻璃面与版架的接触处会在旋转过程中产生摩擦，这容易对掩模版造成划伤。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种版架、腐蚀机及显影设备，以解决现有技术中的版架容易对掩膜版造成划伤的问题。

为了实现上述目的，根据本实用新型的一个方面，提供了一种版架，其包括：底架；支撑架，支撑架设置在底架上并用于支撑掩膜版；其中，支撑架具有用于被掩膜版覆盖的预设支撑面，沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，预设支撑面逐渐远离掩膜版，以减小预设支撑面和掩膜版之间的接触面积。

进一步地，支撑架包括：多个支撑台，多个支撑台沿底架的周向间隔设置；各个支撑台上设置有卡槽，多个支撑台与掩膜版的多个顶角一一对应地设置，以使掩膜版的各个顶角卡设在相应的卡槽内；其中，多个卡槽的底壁共同形成预设支撑面；沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，各个卡槽的底壁逐渐远离掩膜版。

进一步地，各个支撑台包括两个台阶结构，各个支撑台的两个台阶结构围成卡槽；其中，各个支撑台的两个台阶结构的台阶面共同形成相应的卡槽的底壁；各个台阶结构的台阶面相对于水平面倾斜设置。

进一步地，各个支撑台的两个台阶结构的台阶侧壁面分别用于与掩膜版的相应的顶角的两个侧边接触；和/或，各个支撑台的两个台阶结构间隔设置。

进一步地，多个台阶结构的台阶面的较高端所处的高度均相等。

进一步地，支撑架为多个，多个支撑架沿底架的中心至其外周边的方向依次间隔布置；其中，任意两个支撑架分别为第一支撑架和第二支撑架，第二支撑架位于第一支撑架的外侧；第二支撑架的用于与掩膜版接触的接触部的最小高度大于第一支撑架的最大高度。

进一步地，版架还包括多个基座，多个支撑台一一对应地设置在多个基座上；多个基座均设置在底架上；或者，支撑架为多个，多个支撑架沿底架的中心至其外周边的方向依次间隔布置；版架还包括多个底座，多个底座沿底架的周向间隔设置在底架上；各个支撑架的各个支撑台用于与一个底座对应，以使各个支撑架的各个支撑台设置在相应的底座上。

进一步地，底架上设置有连接孔，通过使限位件穿设在连接孔内并穿设在电机的输出轴上，以使底架与电机的输出轴在电机的输出轴的转动方向上相对固定。

根据本实用新型的另一方面，提供了一种腐蚀机，其包括上述的版架。

根据本实用新型的第三方面，提供了一种显影设备，其包括上述的版架。

应用本实用新型的技术方案，版架包括底架和支撑架，支撑架设置在底架上并用于支撑掩膜版；当掩膜版设置在支撑架上时，支撑架具有用于被掩膜版覆盖的预设支撑面；沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，预设支撑面逐渐远离掩膜版，这样可以减小支撑架的预设支撑面和掩膜版之间的接触面积，甚至可以使支撑架和掩膜版之间为线接触，进而减少掩膜版和版架之间的摩擦现象，以降低对掩模版造成划伤的风险，解决了现有技术中的版架容易对掩膜版造成划伤的问题。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本实用新型的版架的一个实施例的结构示意图；

图2示出了图1中的版架的支撑台设置在底座上的结构示意图；

图3示出了根据本实用新型的版架的底架上的连接孔的结构示意图；

图4示出了根据本实用新型的版架的另一个实施例的结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

100、版架；10、底架；11、减重孔；12、连接孔；20、支撑架；21、支撑台；22、卡槽；23、台阶结构；231、台阶面；232、阶侧壁面；30、底座。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

本实用新型提供了一种版架100，请参考图1至图4，版架100包括底架10和支撑架20，支撑架20设置在底架10上并用于支撑掩膜版；其中，支撑架20具有用于被掩膜版覆盖的预设支撑面，沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，预设支撑面逐渐远离掩膜版，以减小预设支撑面和掩膜版之间的接触面积。

在本实用新型的版架100中，版架100包括底架10和支撑架20，支撑架20设置在底架10上并用于支撑掩膜版；当掩膜版设置在支撑架20上时，支撑架20具有用于被掩膜版覆盖的预设支撑面；沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，预设支撑面逐渐远离掩膜版，这样可以减小支撑架20的预设支撑面和掩膜版之间的接触面积，甚至可以使支撑架20和掩膜版之间为线接触，进而减少掩膜版和版架100之间的摩擦现象，以降低对掩模版造成划伤的风险，解决了现有技术中的版架容易对掩膜版造成划伤的问题。

在本实施例中，支撑架20包括多个支撑台21，多个支撑台21沿底架10的周向间隔设置；各个支撑台21上设置有卡槽22，多个支撑台21与掩膜版的多个顶角一一对应地设置，以使掩膜版的各个顶角卡设在相应的卡槽22内；其中，多个卡槽22的底壁共同形成预设支撑面；沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，各个卡槽22的底壁逐渐远离掩膜版。即支撑架20的多个支撑台21沿相应的掩膜版的周向间隔布置。

需要说明的是，掩膜版为多边形玻璃板，故掩膜版具有多个顶角；例如，掩膜版为长方形板，掩膜版具有四个顶角。

需要说明的是，支撑架20具有用于与掩膜版接触的接触部，支撑架20的接触部位于其预设支撑面上。

具体地，各个支撑台21包括两个台阶结构23，各个支撑台21的两个台阶结构23围成卡槽22；其中，各个支撑台21的两个台阶结构23的台阶面231共同形成相应的卡槽22的底壁；各个台阶结构23的台阶面231相对于水平面倾斜设置；即沿各个台阶结构23的台阶面231的倾斜方向，各个台阶结构23的台阶面231的较高端形成相应的支撑架20的接触部，以用于与掩膜版接触，进而对掩膜版进行支撑。

其中，各个支撑台21的两个台阶结构23沿底架10的周向分布；支撑架20具有多个台阶结构23，支撑架20的多个台阶结构23沿底架10的周向分布；即支撑架20的多个台阶结构23沿相应的掩膜版的周向分布。

具体地，各个支撑台21的两个台阶结构23的台阶侧壁面232分别用于与掩膜版的相应的顶角的两个侧边接触。

具体地，各个支撑台21的两个台阶结构23间隔设置。

具体地，各个支撑台21包括两个凸柱，各个凸柱对应一个与该凸柱的延伸方向平行的分切面，各个凸柱通过其所对应的分切面将该凸柱划分成两个柱体；通过使各个凸柱的一个柱体的高度高于另一个柱体的高度，以使该凸柱形成台阶结构23。

可选地，各个支撑台21包括两个长方体凸柱，沿各个长方体凸柱的一个对角面，以将该长方体凸柱划分成两个三棱柱；其中，长方体凸柱的该对角面为其分切面；通过使各个长方体凸柱的一个三棱柱的高度高于另一个三棱柱的高度，以使该长方体凸柱形成台阶结构23。

可选地，各个凸柱的两个柱体分别为第一柱体和第二柱体，第二柱体的高度高于第一柱体高度，则第一柱体的顶面为台阶面231，第二柱体的与台阶面231连接的侧面为台阶侧壁面232；自第二柱体至第一柱体的方向，第一柱体的顶面的高度逐渐减小，即沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，第一柱体的顶面逐渐远离掩膜版，也即第一柱体的顶面相对于水平面倾斜设置。

具体地，沿各个台阶结构23的台阶面231的倾斜方向，各个台阶结构23的台阶面231具有较高端；支撑架20的多个台阶结构23的台阶面231的较高端所处的高度均相等。即多个第一柱体的顶面的较高端所处的高度均相等。

具体地，多个台阶结构23的台阶面231相对于水平面的倾斜角度均相等；即多个第一柱体的顶面相对于水平面的倾斜角度均相等。

可选地，各个台阶结构23的台阶面231相对于水平面的倾斜角度均为5度。

在本实施例中，支撑架20为多个，多个支撑架20沿底架10的中心至其外周边的方向依次间隔布置，以使各个支撑架20适用于相应规格的掩膜版。其中，任意两个支撑架20分别为第一支撑架和第二支撑架，第二支撑架位于第一支撑架的外侧；第二支撑架的用于与掩膜版接触的接触部的最小高度大于第一支撑架的最大高度。这样对于除多个支撑架20中位于最内侧的支撑架20外的其余支撑架20来说，各个支撑架20的位于其内侧的所有支撑架20均不会与该支撑架20所支撑的掩膜版接触，进而使各个支撑架20的位于其内侧的所有支撑架20均不会对该支撑架20所支撑的掩膜版造成干涉。

可选地，底架10为板状结构，上述提到的“底架10的中心至其外周边”是指底架10的一个板面的中心至该板面的外周边。

例如，底架10为圆形板，多个支撑架20沿底架10的径向间隔布置。如图1所示，图1中的版架100具有三个支撑架20，这三个支撑架20沿底架10的径向依次布置，这三个支撑架20分别用于支撑5寸掩膜版、6寸掩膜版和7寸掩膜版；其中，这三个支撑架20的每个支撑架20均具有四个支撑台21。如图4所示，图4中的版架100具有一个支撑架20，该支撑架20具有四个支撑台21。

具体地，第二支撑架的各个卡槽22的底壁的用于与掩膜版接触的接触部的最小高度均大于第一支撑架的各个支撑台21的最大高度。其中，第二支撑架的多个卡槽22的底壁的接触部共同形成第二支撑架的接触部。

具体地，第二支撑架的各个台阶面231的用于与掩膜版接触的接触部的最小高度均大于第一支撑架的各个台阶结构23的最大高度。其中，第二支撑架的各个支撑台21的两个台阶面231的接触部共同形成该支撑台21的卡槽22的底壁的接触部。

可选地，第二支撑架的预设支撑面的最小高度大于第一支撑架的最大高度；即第二支撑架的各个卡槽22的底壁的最小高度大于第一支撑架的各个支撑台21的最大高度；即第二支撑架的各个台阶面231的最小高度大于第一支撑架的各个台阶结构23的最大高度。

在本实施例中，支撑台21设置在底架10上的第一种设置形式为：版架还包括多个基座，多个支撑台21一一对应地设置在多个基座上；多个基座均设置在底架10上。

具体地，当支撑架20为一个，该支撑架20的多个支撑台21一一对应地设置在多个基座上。

具体地，当支撑架20为多个，版架包括多个基座单元，各个基座单元均包括多个基座；多个支撑架20与多个基座单元一一对应地设置，以使各个支撑架20的多个支撑台21一一对应地设置在相应的基座单元的多个基座上。

在本实施例中，支撑台21设置在底架10上的第二种设置形式为：当支撑架20为多个时，版架还包括多个底座30，多个底座30沿底架10的周向间隔设置在底架10上；各个支撑架20的各个支撑台21用于与一个底座30对应，以使各个支撑架20的各个支撑台21设置在相应的底座30上。

具体地，各个支撑架20的支撑台21的数量均与底座30的数量相等，各个支撑架20的多个支撑台21一一对应地设置在多个底座30上。

可选地，各个底座30与其上的至少一个支撑台21为一体成型结构。

具体地，底架10上设置有多个减重孔11，多个减重孔11沿底架10的周向间隔布置；多个减重孔与多个底座30依次交错布置。

具体地，如图3所示，底架10上设置有连接孔12，通过使限位件穿设在该连接孔12内并穿设在电机的输出轴上，以使底架10与电机的输出轴固定连接，进而使底架10与电机的输出轴在电机的输出轴的转动方向上相互固定，这样可以防止在电机的输出轴高速旋转时，底架10相对电机的输出轴打滑；电机通过底架10带动整个版架转动。可选地，限位件为限位螺丝。

可选地，底架10为圆形板，该连接孔12位于底架10的中心线的一侧，即该连接孔12偏心设置；其中，此处底架10的中心线垂直于底架10的板面。

可选地，连接孔12和支撑架20分别位于底架10的相对两侧。

本实用新型还提供了一种腐蚀机，其包括上述的版架100。可选地，腐蚀机为APT3140腐蚀机。

本实用新型还提供了一种显影设备，其包括上述的版架100。

从以上的描述中，可以看出，本实用新型上述的实施例实现了如下技术效果：

在本实用新型的版架100中，版架100包括底架10和支撑架20，支撑架20设置在底架10上并用于支撑掩膜版；当掩膜版设置在支撑架20上时，支撑架20具有用于被掩膜版覆盖的预设支撑面；沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，预设支撑面逐渐远离掩膜版，这样可以减小支撑架20的预设支撑面和掩膜版之间的接触面积，甚至可以使支撑架20和掩膜版之间为线接触，进而减少掩膜版和版架100之间的摩擦现象，以降低对掩模版造成划伤的风险，解决了现有技术中的版架容易对掩膜版造成划伤的问题。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种版架，其特征在于，包括：

底架(10)；

支撑架(20)，所述支撑架(20)设置在所述底架(10)上并用于支撑掩膜版；

其中，所述支撑架(20)具有用于被所述掩膜版覆盖的预设支撑面，沿所述掩膜版的外周边至其内侧的方向，所述预设支撑面逐渐远离所述掩膜版，以减小所述预设支撑面和所述掩膜版之间的接触面积。

2.根据权利要求1所述的版架，其特征在于，所述支撑架(20)包括：

多个支撑台(21)，所述多个支撑台(21)沿所述底架(10)的周向间隔设置；各个所述支撑台(21)上设置有卡槽(22)，多个所述支撑台(21)与所述掩膜版的多个顶角一一对应地设置，以使所述掩膜版的各个顶角卡设在相应的所述卡槽(22)内；

其中，多个所述卡槽(22)的底壁共同形成所述预设支撑面；沿所述掩膜版的外周边至其内侧的方向，各个所述卡槽(22)的底壁逐渐远离所述掩膜版。

3.根据权利要求2所述的版架，其特征在于，各个所述支撑台(21)包括两个台阶结构(23)，各个所述支撑台(21)的所述两个台阶结构(23)围成所述卡槽(22)；

其中，各个所述支撑台(21)的所述两个台阶结构(23)的台阶面(231)共同形成相应的所述卡槽(22)的底壁；各个所述台阶结构(23)的台阶面(231)相对于水平面倾斜设置。

4.根据权利要求3所述的版架，其特征在于，

各个所述支撑台(21)的所述两个台阶结构(23)的台阶侧壁面(232)分别用于与所述掩膜版的相应的顶角的两个侧边接触；和/或

各个所述支撑台(21)的所述两个台阶结构(23)间隔设置。

5.根据权利要求3所述的版架，其特征在于，多个所述台阶结构(23)的台阶面(231)的较高端所处的高度均相等。

6.根据权利要求1所述的版架，其特征在于，所述支撑架(20)为多个，多个所述支撑架(20)沿所述底架(10)的中心至其外周边的方向依次间隔布置；

其中，任意两个所述支撑架(20)分别为第一支撑架和第二支撑架，所述第二支撑架位于所述第一支撑架的外侧；所述第二支撑架的用于与所述掩膜版接触的接触部的最小高度大于所述第一支撑架的最大高度。

7.根据权利要求2所述的版架，其特征在于，

所述版架还包括多个基座，多个所述支撑台(21)一一对应地设置在所述多个基座上；所述多个基座均设置在所述底架(10)上；或者

所述支撑架(20)为多个，多个所述支撑架(20)沿所述底架(10)的中心至其外周边的方向依次间隔布置；所述版架还包括多个底座(30)，所述多个底座(30)沿所述底架(10)的周向间隔设置在所述底架(10)上；各个所述支撑架(20)的各个所述支撑台(21)用于与一个所述底座(30)对应，以使各个所述支撑架(20)的各个所述支撑台(21)设置在相应的所述底座(30)上。

8.根据权利要求1所述的版架，其特征在于，所述底架(10)上设置有连接孔(12)，通过使限位件穿设在所述连接孔(12)内并穿设在电机的输出轴上，以使所述底架(10)与所述电机的输出轴在所述电机的输出轴的转动方向上相对固定。

9.一种腐蚀机，其特征在于，包括权利要求1至8中任一项所述的版架。

10.一种显影设备，其特征在于，包括权利要求1至8中任一项所述的版架。

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