CN215850112U - 一种雾面超轻离型膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种雾面超轻离型膜，涉及离型膜领域，包括基材，所述基材的一面上涂敷有硅离型剂层，所述硅离型剂层远离基材的一面上均匀设置有凹凸结构。本实用新型中的凹凸结构一方面用于形成硅离型剂层表面的雾面，另一方面便于硅离型剂层表面排气，通过改变凹凸结构的厚度调节硅离型剂层与物体之间的剥离力，满足要求比较特殊的胶带或者特殊模切加工时需的超轻要求。本实用新型可以根据需求增加防静电层。
Description
技术领域
本实用新型涉及离型膜领域，特别涉及一种雾面超轻离型膜。
背景技术
离型膜因其表面平整度好、离型力稳定等优点，而在胶粘带行业有很大的市场应用。
离型膜是将离型剂涂布于环保材质PET、PE、OPP薄膜基材的表层上，让它对各种不同的有机感压胶可以表现出极轻且稳定的离型力，不同的有机感压胶例如热熔胶、亚克力和橡胶系统的压感胶等，所需的膜离型力有所不同，针对需隔离产品胶的粘性不同，离型力相对应调整，使之在剥离时达到极轻且稳定的离型力，为了能使感压胶达到一定程度的凹凸状，胶面有一定的粗糙度和低反光效果，其雾面离型膜起到了主要作用，一般制备方法为将薄膜基材通过磨砂片打磨粗糙，清洗包膜基材的粉尘，水洗、除尘后再在薄膜表面涂布一层离型膜，该方法的缺点是，打磨的深浅度不一致，膜表面的凹凸状不均匀，导致离型膜的剥离力不稳定，或者由于离型纸和涂覆层之间由高粘度粘合剂贴膜贴附，会导致离型不良的现象出现，还可能会出现雾度不均匀，造成产品的浪费。
实用新型内容
本实用新型解决的技术问题是提供一种在剥离时具有极轻且稳定的离型力的雾面超轻离型膜。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种雾面超轻离型膜，包括基材，所述基材的一面上涂敷有第一硅离型剂层，所述第一硅离型剂层远离基材的一面上均匀设置有第一凹凸结构。
进一步的是：所述基材的材质为PET、PE或PP。
进一步的是：所述基材远离第一硅离型剂层的一侧上设置有第一防静电层。
进一步的是：所述基材和第一硅离型剂层之间设置有第二防静电层。
进一步的是：所述第一防静电层远离基材的一侧上设置有第二硅离型剂层，所述第二硅离型剂层远离第一防静电层一侧上设置有第二凹凸结构。
进一步的是：所述第一凹凸结构和第二凹凸结构为球状、柱状或长方体状。
进一步的是：所述基材的厚度为6-250um。
进一步的是：所述第一硅离型剂层和第二硅离型剂层的厚度为0.5-10um。
进一步的是：所述第一凹凸结构和第二凹凸结构的厚度为0.5-10um。
本实用新型的有益效果是：本实用新型中的凹凸结构一方面用于形成硅离型剂层表面的雾面，另一方面便于硅离型剂层表面排气，通过改变凹凸结构的厚度调节硅离型剂层与物体之间的剥离力，满足要求比较特殊的胶带或者特殊模切加工时需的超轻要求，本实用新型可以根据需求增加防静电层。
附图说明
图1为不含防静电层的雾面超轻离型膜的结构示意图；
图2为含有一层防静电层的雾面超轻离型膜的结构示意图；
图3为含有双层防静电层的雾面超轻离型膜的结构示意图；
图4为含有双层防静电层双雾面的雾面超轻离型膜的结构示意图；
图中标记为：1、基材；2、第一硅离型剂层；3、第一凹凸结构；4、第一防静电层；5、第二防静电层；6、第二硅离型剂层；7、第二凹凸结构。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。
如图1所示，本申请的实施例提供了一种雾面超轻离型膜，包括基材1，所述基材1的一面上涂敷有硅离型剂层2，所述硅离型剂层2远离基材1的一面上均匀设置有凹凸结构3。
所述基材1作为载体，所述凹凸结构3一方面用于形成硅离型剂层2表面的雾面，另一方面便于硅离型剂层2表面排气，通过改变凹凸结构3的厚度调节硅离型剂层2与物体之间的剥离力。
在上述基础上，所述基材1的材质为PET、PE或PP。
在上述基础上，如图2所示，所述基材1远离第一硅离型剂层2的一侧上设置有第一防静电层4。
在上述基础上，如图3所示，所述基材1和第一硅离型剂层2之间设置有第二防静电层5。
在上述基础上，如图4所示，所述第一防静电层4远离基材1的一侧上设置有第二硅离型剂层6，所述第二硅离型剂层6远离第一防静电层4一侧上设置有第二凹凸结构7。
在上述基础上，所述第一凹凸结构3和第二凹凸结构7为球状、柱状或长方体状。
在上述基础上，所述基材1的厚度为6-250um。
所述基材1的厚度可以是6um、65um、125um、185um或250um，本实施案例中所述基材1的厚度为65um。
在上述基础上，所述第一硅离型剂层2和第二硅离型剂层6的厚度为0.5-10um。
所述硅离型剂层2的厚度可以是0.5um、1.75um、2.5um、3um、6um、9um或10um，本实施案例中所述硅离型剂层2的厚度3um。
在上述基础上，第一凹凸结构3和第二凹凸结构7的厚度为0.5-10um。
所述凹凸结构3的厚度可以是0.5um、1.70um、2.45um、3um、5um、8um或10um，本实施案例中所述凹凸结构3的厚度为3um。
所述第一凹凸结构3的厚度越大，第一硅离型剂层2与物体之间的剥离力越小；
所述第一凹凸结构3的厚度越小，第一硅离型剂层2与物体之间的剥离力越大。
所述第二凹凸结构7的厚度越大，第二硅离型剂层6与物体之间的剥离力越小；
所述第二凹凸结构7的厚度越小，第二硅离型剂层6与物体之间的剥离力越大。
以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种雾面超轻离型膜，其特征在于：包括基材(1)，所述基材(1)的一面上涂敷有第一硅离型剂层(2)，所述第一硅离型剂层(2)远离基材(1)的一面上均匀设置有第一凹凸结构(3)。
2.如权利要求1所述的一种雾面超轻离型膜，其特征在于：所述基材(1)的材质为PET、PE或PP。
3.如权利要求1所述的一种雾面超轻离型膜，其特征在于：所述基材(1)远离第一硅离型剂层(2)的一侧上设置有第一防静电层(4)。
4.如权利要求3所述的一种雾面超轻离型膜，其特征在于：所述基材(1)和第一硅离型剂层(2)之间设置有第二防静电层(5)。
5.如权利要求4所述的一种雾面超轻离型膜，其特征在于：所述第一防静电层(4)远离基材的一侧上设置有第二硅离型剂层(6)，所述第二硅离型剂层(6)远离第一防静电层(4)一侧上设置有第二凹凸结构(7)。
6.如权利要求1所述的一种雾面超轻离型膜，其特征在于：所述第一凹凸结构(3)和第二凹凸结构(7)为球状、柱状或长方体状。
7.如权利要求1所述的一种雾面超轻离型膜，其特征在于：所述基材(1)的厚度为6-250um。
8.如权利要求1所述的一种雾面超轻离型膜，其特征在于：所述第一硅离型剂层(2)和第二硅离型剂层(6)的厚度为0.5-10um。
9.如权利要求1所述的一种雾面超轻离型膜，其特征在于：所述第一凹凸结构(3)和第二凹凸结构(7)的厚度为0.5-10um。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202122112968.1U CN215850112U (zh) | 2021-09-02 | 2021-09-02 | 一种雾面超轻离型膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202122112968.1U CN215850112U (zh) | 2021-09-02 | 2021-09-02 | 一种雾面超轻离型膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN215850112U true CN215850112U (zh) | 2022-02-18 |
Family
ID=80246497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202122112968.1U Active CN215850112U (zh) | 2021-09-02 | 2021-09-02 | 一种雾面超轻离型膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN215850112U (zh) |
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2021
- 2021-09-02 CN CN202122112968.1U patent/CN215850112U/zh active Active
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