CN215834532U - 显示面板及显示设备 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及显示设备及显示面板。显示设备包括显示面板和抗反射层，显示面板包括发光元件。抗反射层设置在显示面板上并且包括第一层、第二层和滤色器层，第一层包括具有第一折射率的图案，第二层具有大于第一层的第一折射率的第二折射率，滤色器层与第一层和第二层重叠。第一层的图案包括相对于显示面板的上表面倾斜的表面，并且第二层设置在第一层的图案的所述表面上。

Description

显示面板及显示设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年7月1日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0080992号韩国专利申请的优先权和利益，该韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本公开涉及显示面板和显示设备。本公开涉及包括具有降低的反射率的发光元件的显示面板和显示设备。
背景技术
正在开发各种电子物品，诸如智能电话、平板计算机、笔记本计算机和智能电视。电子物品可以包括提供信息的显示设备。随着多媒体的发展，显示设备越来越重要。例如，正在使用诸如液晶显示器、有机发光显示器的各种显示设备。例如，显示设备可以包括颜色转换层，该颜色转换层包括量子点，该量子点可以将特定或预定颜色的光转换为另一颜色的光。
有机发光显示器可以包括发射光的有机发光二极管。然而，可能发生入射到显示设备中的外部光可在传播到有机发光二极管时被反射的现象。这种现象可能导致有机发光显示器的亮度和色域的降低。
应当理解，该背景技术部分部分地旨在为理解技术提供有用的背景。然而，该背景技术部分也可以包括在本文所公开的主题的相应有效申请日之前不是相关领域的技术人员已知或理解的部分的思想、概念或认识。
实用新型内容
本公开提供能够减少传播至有机发光二极管的外部光的量以防止其对比度和可见度的劣化的显示面板。
本公开提供包括所述显示面板的显示设备。
实施方式提供显示设备，包括：显示面板，包括发光元件；以及抗反射层，设置在显示面板上。抗反射层可包括：第一层，包括具有第一折射率的图案；第二层，具有大于第一层的第一折射率的第二折射率；以及滤色器层，与第一层和第二层重叠。第一层的图案可包括相对于显示面板的上表面倾斜的表面，以及第二层可设置在第一层的图案的表面上。
显示面板还可以包括设置在发光元件之间的像素限定层。
像素限定层可以包括挡光材料。
滤色器层可以包括多个滤色器以及设置在多个滤色器之间的挡光层。
像素限定层可包括可暴露发光元件的第一开口区域，且挡光层可包括第二开口区域，第二开口区域可大于第一开口区域。
抗反射层的第一层和第二层可以设置在第二开口区域中。
显示设备还可以包括设置在显示面板和抗反射层之间的输入感测层。
显示面板还可以包括与发光元件重叠的封装层，并且输入感测层可以直接设置在封装层上。
抗反射层的第一层的图案可包括面向显示面板的上表面的第一表面以及与第一表面相对的第二表面，并且第二表面的宽度可以比第一表面的宽度小。
抗反射层的第二层可以包括第三开口区域，第三开口区域可以暴露抗反射层的第一层的图案的第二表面。
图案可以设置为多个图案，并且多个图案可以在第一方向和第二方向上彼此间隔开。第一方向和第二方向可以彼此不同。
图案可以设置成多个图案，并且多个图案可以在第一方向上延伸并且在第二方向上彼此间隔开。第一方向和第二方向可以彼此不同。
图案可以具有闭环形状。
实施方式提供了一种显示面板，可包括发射第一颜色光的发光元件层、颜色转换层和导光层。颜色转换层可包括设置在发光元件层上的多个颜色转换构件，从发光元件层接收第一颜色光，并转换第一颜色光以发射至少两个不同的颜色光。导光层可以设置在颜色转换层上，并且可以改变从显示面板的外部入射到显示面板中的光的路径。导光层可以包括：第一层，包括相对于颜色转换层的上表面倾斜的表面以及具有第一折射率的图案；以及第二层，设置在第一层的表面上并且具有大于第一折射率的第二折射率。
发光元件层可以包括发射第一颜色光的发光元件以及设置在发光元件之间的像素限定层。
显示面板还可以包括设置在颜色转换层和导光层之间的滤色器层。
滤色器层可以包括多个滤色器以及设置在多个滤色器之间的挡光层。
颜色转换层还可包括设置在多个颜色转换构件之间的阻挡层。
阻挡层可以包括挡光材料。
导光层可以与多个颜色转换构件和阻挡层重叠。
根据以上，可以控制从外部入射到显示设备和显示面板中的光的路径，并且因此可以减少传播到发光元件的光的量。因此，可以防止显示设备和显示面板的对比度和可见度的劣化。
附图说明
当结合附图考虑时，通过参考以下详细描述，本公开的上述和其它优点将容易变得显而易见，其中：
图1是示出根据实施方式的显示设备的组装立体图；
图2是示出根据实施方式的显示设备的分解立体图；
图3是沿着图2所示的线A-A'截取的示意性剖视图；
图4是沿着图2所示的线A-A'截取的示意性剖视图；
图5A是示出图3所示的区域A1中的显示设备的放大平面图；
图5B是沿着图5A所示的线B-B'截取的放大示意性剖视图；
图6A是示出图3所示的区域A1中的显示设备的放大平面图；
图6B是沿着图6A所示的线C-C'截取的放大示意性剖视图；
图7A是示出图3所示的区域A1中的显示设备的放大平面图；
图7B是沿着图7A所示的线D-D'截取的放大示意性剖视图；
图8A和图8B是示出图3所示的区域A1中的显示设备的放大平面图；
图9是沿着图2所示的线A-A'截取的示意性剖视图；以及
图10是示出入射到显示设备中并穿过显示面板的外部光的路径的示意性剖视图。
具体实施方式
在本公开中，应当理解，当元件或层被称为在另一个元件或层上、连接到或联接到另一个元件或层时，它可以直接在该另一个元件或层上、直接连接到或直接联接到另一个元件或层，或者可以存在介于中间的元件或层。
相同的附图标记始终表示相同的元件。在附图中，为了有效地描述本公开和为了清楚起见，可以夸大组件的厚度、比例和尺寸。
如本文所使用的，术语“和/或”包括相关所列项目中的一个或多个的任何和所有组合。
术语“和”以及“或”可以以结合或分离的意义使用，并且可以理解为等同于“和/或”。在说明书和权利要求书中，短语“至少一个”出于其含义和解释的目的旨在包括“选自……的组的至少一个”的含义。例如，“A和B中的至少一个”可以理解为意指A、B或A和B。
应当理解，尽管术语第一、第二等可以在本文中用于描述各种元件、组件、区、层和/或区段，但是这些元件、组件、区、层和/或区段不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区、层和/或区段与另一个元件、组件、区、层或区段区分开。因此，在不背离本公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件、第一组件、第一区、第一层或第一区段可以被称为第二元件、第二组件、第二区、第二层或第二区段。除非上下文另外清楚地指示，否则如本文所使用，单数形式“一个”、“一种”和“该”旨在也包括复数形式。
为便于描述，可在本文中使用诸如“在……下面”、“在……下方”、“下部”、“在……上方”、“上部”等空间相对术语来描述如附图所示的一个元件或部件与另一个元件(多个元件)或另一部件(多个部件)的关系，但其不限于此。
应当理解，除了附图所描绘的取向之外，空间相对术语旨在包括设备在使用或操作中的不同取向。例如，在附图所示的设备翻转的情况下，位于另一设备“下方”或“下面”的设备可以被放置在另一设备“上方”。因此，说明性术语“下方”可以包括下部位置和上部位置两者。该设备也可以在其它方向上取向，且因此空间相对术语可以根据取向而被不同地解释。
另外，术语“重叠”或“重叠的”是指第一对象可以在第二对象的上方或下方或者到第二对象的侧面，且第二对象可以在第一对象的上方或下方或者到第一对象的侧面。另外，术语“重叠”可以包括本领域普通技术人员将理解的层叠、堆叠、面向(face)或面向(facing)、在……之上延伸、覆盖或部分地覆盖或任何其它合适的术语。术语“面向(face)”和“面向(facing)”是指第一元件可以直接或间接地与第二元件相对。在第三元件介于第一元件和第二元件之间的情况下，第一元件和第二元件可以被理解为彼此间接相对，但仍然面向。当元件被描述为不与另一元件重叠(“not overlapping”)或重叠(“to notoverlap”)时，这可包括元件彼此间隔开、彼此偏移或彼此并排设置，或本领域普通技术人员将认同和理解的任何其它合适的术语。
短语“在平面图中”是指从顶部观察对象，且短语“在示意性剖视图中”是指从侧面观察对象被竖直地切割的截面。
本文所使用的“约”或“近似”包括所述值和在由本领域普通技术人员考虑所讨论的测量和与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的限制)所确定的特定值的可接受偏差范围内的平均值。例如，“约”可以指在所述值的一个或多个标准偏差内或在所述值的±30％、±20％、±10％、±5％内。
除非另有定义，否则本文使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还应当理解，术语，诸如在常用词典中定义的那些术语，应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义一致的含义，并且将不会被解释为理想化的或过于形式化的含义，除非本文明确地如此定义。
还应理解，术语“包括(includes)”和/或“包括(including)”、“包含(comprises)”和/或“包含(comprising)”、“具有(have)”和/或“具有(having)”及其变形当在本说明书中使用时指定所叙述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件的存在，但不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合的存在或添加。
在下文中，将参考附图详细解释本公开。
图1是示出根据实施方式的显示设备DD的组装立体图，且图2是示出根据实施方式的显示设备DD的分解立体图。
参照图1和图2，显示设备DD具有基本上矩形的形状，该矩形的形状具有在第一参考方向DR1上的长边和在第二参考方向DR2上的短边。然而，显示设备DD的形状不应限于此，或者由此限制，且显示设备DD可以具有多种形状。
在本公开的精神和范围内，显示设备DD可以是诸如电视机、监视器等的大型显示设备，或者是诸如移动电话、平板计算机、车辆导航单元、游戏单元等的中小型显示设备。然而，这仅是示例，并且在本公开的精神和范围内，显示设备DD可被其它电子物品采用。
参照图1，显示设备DD可以通过基本上平行于第一参考方向DR1和第二参考方向DR2中的每一个的显示表面FS向第三参考方向DR3显示图像IM。可以通过其显示图像IM的显示表面FS可以对应于显示设备DD的前表面。
显示设备DD的显示表面FS可以被分成多个区域。显示设备DD的显示表面FS可以包括可以形成或包括在其中的显示区域DA和非显示区域NDA。
显示区域DA可以是通过其可以显示图像IM的区域，并且用户通过显示区域DA观看图像IM。显示区域DA可以具有基本上四边形的形状。非显示区域NDA可以围绕显示区域DA或者可以与显示区域DA相邻。因此，显示区域DA可以具有由非显示区域NDA形成的形状，然而，这仅是示例。非显示区域NDA可以仅与显示区域DA的一侧相邻，或者可以省略。根据实施方式的显示设备DD可以包括各种实施方式，并且不应该被特别限制。
非显示区域NDA可以与显示区域DA相邻，并且图像IM可以不通过非显示区域NDA显示。显示设备DD的边框区域可以由非显示区域NDA形成。
非显示区域NDA可以围绕显示区域DA或者可以与显示区域DA相邻，然而，这仅是示例。非显示区域NDA可以设置为仅与显示区域DA的边缘的一部分相邻，并且不应该被特别限制。
显示设备DD可以感测从外部提供的用户输入。用户输入可以包括各种形式的外部输入，诸如用户身体的一部分、光、热或压力。显示设备DD可以根据显示设备DD的结构来感测施加到显示设备DD的侧面或后表面上的用户输入，并且其不应限于特定实施方式。
显示设备DD可以激活显示表面FS以显示图像IM，并且可以基本上同时感测外部输入。在实施方式中，可以感测外部输入的区域可以包括在显示区域DA中。然而，这仅是示例，并且感测外部输入的区域可以包括在非显示区域NDA中，或者可以遍及显示表面FS的整个区域被包括。
参照图2，显示设备DD可以包括显示面板DP、设置在显示面板DP上的抗反射层RPL、设置在抗反射层RPL上的窗WM、设置在显示面板DP和抗反射层RPL之间的输入感测层ISL以及盖壳EDC。
窗WM的上表面可以限定显示设备DD的显示表面FS。窗WM可以是光学透明的。因此，由显示面板DP生成的图像IM可以容易地被用户通过窗WM观看。
窗WM的上表面可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。显示区域DA可以透射从显示面板DP提供的光。与显示区域DA相比，非显示区域NDA可以具有相对低的透光率。非显示区域NDA可以限定或形成显示区域DA的形状。窗WM可以在非显示区域NDA中具有预定颜色。
窗WM可以包括柔性材料。例如，窗WM的形状可以改变为与显示面板DP的形状变化相对应。窗WM可以传输来自显示面板DP的图像IM，并且基本上同时地可以减小外部冲击，且因此，窗WM可以防止显示面板DP由于外部冲击而被损坏或故障。来自外部的外部冲击可指可在显示面板DP中引起缺陷的力，其可表示为压力或应力。
显示面板DP可以通过前表面IS输出图像IM。前表面IS可以包括有效区域AA和外围区域NAA。图像IM(参考图1)可以通过有效区域AA显示。外围区域NAA可以被限定为与有效区域AA相邻。
显示面板DP的有效区域AA可以对应于窗WM的显示区域DA。因此，通过有效区域AA显示的图像IM可以通过显示区域DA从外部观看。
窗WM的非显示区域NDA可以覆盖显示面板DP的外围区域NAA或与显示面板DP的外围区域NAA重叠，以防止从外部看到外围区域NAA。例如，在由显示面板DP产生的光泄漏到外围区域NAA的情况下，泄漏的光可以被非显示区域NDA阻挡，且因此，可以防止从外部看到外围区域NAA。
显示面板DP可以包括多个像素。像素可以响应于电信号输出具有颜色信息的光，并且可以通过有效区域AA显示图像IM。有效区域AA可以包括与像素相对应的多个像素区域PXA和与像素区域PXA相邻的非像素区域NPXA。
显示面板DP可以是柔性显示面板。作为示例，显示面板DP可以是有机发光显示面板。
盖壳EDC可以提供显示设备DD的后表面。盖壳EDC可以联接或连接到窗WM以提供内部空间。显示面板DP以及可联接或连接到显示面板DP的电路组件、相机模块和电力模块可以容纳在内部空间中。盖壳EDC可以包括具有预定刚度的材料。例如，盖壳EDC可以包括包含玻璃、塑料、金属或其组合的多个框架和/或板。盖壳EDC可以稳定地保护可以容纳在内部空间中的显示设备DD的组件免受外部冲击。
抗反射层RPL可以设置在显示面板DP上。抗反射层RPL可以降低从窗WM的上方入射到窗WM的外部光的反射率。根据实施方式的抗反射层RPL可以包括滤色器层CFL(参考图3)，然而，它不应限于此或由此限制。抗反射层RPL可以包括延迟器和偏振器。延迟器可以是膜型或液晶涂层型，并且可以包括λ/2延迟器和/或λ/4延迟器。偏振器可以是膜型或液晶涂层型。
输入感测层ISL可以设置在显示面板DP和抗反射层RPL之间。输入感测层ISL可以直接设置在显示面板DP上。例如，在输入感测层ISL直接设置在显示面板DP上的情况下，可以不在输入感测层ISL和显示面板DP之间设置粘合膜。显示面板DP可以产生图像IM，并且输入感测层ISL可以获得关于外部输入(例如触摸事件)的坐标信息。
图3是沿着图2所示的线A-A'截取的示意性剖视图。
参照图3，显示面板DP可以包括基层BL、设置在基层BL上的电路层CL、发光元件EMD、以及设置在发光元件EMD之间的像素限定层PDL、封装层TFE和输入感测层ISL。
基层BL可以包括合成树脂层。合成树脂层可以在制造显示面板DP的情况下使用的工作衬底上形成。然后，可以在合成树脂层上形成或设置导电层和绝缘层。在除去工作衬底的情况下，合成树脂层可以对应于基层BL。合成树脂层可以是基于聚酰亚胺的树脂层，然而，用于合成树脂层的材料不应被特别限制。例如，基层BL可以包括玻璃衬底、金属衬底或有机/无机复合衬底。
电路层CL可以包括至少一个绝缘层和电路元件。在下文中，包括在电路层CL中的绝缘层可以被称为“层间绝缘层”。层间绝缘层可以包括至少一个中间无机层和至少一个中间有机层。电路元件可以包括信号线和像素驱动电路。可以通过使用涂覆和沉积工艺的层间绝缘层、半导体层和导电层的形成工艺以及使用光刻工艺的层间绝缘层、半导体层和导电层的图案化工艺来形成电路层CL。
发光元件EMD可以包括有机发光二极管。像素限定层PDL可以包括有机材料。第一电极AE可以设置在电路层CL上。像素限定层PDL可以设置在第一电极AE上。第一电极AE可以包括金属合金或导电化合物。第一电极AE可以是阳极。
发光元件EMD的每个第一电极AE可以是反射电极，然而，其不应限于此或由此限制。例如，每个第一电极AE可以是透射电极或半透射半反射电极。在每个第一电极AE是半透射半反射电极或反射电极的情况下，每个第一电极AE可以包括Ag、Mg、Cu、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca、Mo、Ti、其化合物或其混合物，例如Ag和Mg的混合物，或者诸如LiF/Ca或LiF/Al的多层结构的材料。
可以通过像素限定层PDL来限定或形成第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B。第一电极AE的至少部分可以通过像素限定层PDL的第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B暴露。在实施方式中，可以省略像素限定层PDL。
如图2所示，显示面板DP可以包括像素区域PXA和与像素区域PXA相邻的非像素区域NPXA。每个非像素区域NPXA可以围绕像素区域PXA中的相应像素区域。在实施方式中，像素区域PXA可以对应于通过第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B暴露的第一电极AE的部分。非像素区域NPXA可以对应于其中可以设置像素限定层PDL的区域。第一电极AE可以分别形成或设置在像素中。
像素限定层PDL可以由聚合物树脂形成。例如，像素限定层PDL可以包括基于聚丙烯酸酯的树脂或基于聚酰亚胺的树脂。例如，除了聚合物树脂之外，像素限定层PDL还可以包括无机材料。同时，像素限定层PDL可以包括挡光材料或者可以包括黑色颜料或黑色染料。包括黑色颜料或黑色染料的像素限定层PDL可以形成黑色像素限定层。在形成像素限定层PDL的情况下，可以使用炭黑作为黑色颜料或黑色染料，然而，本公开不应限于此或由此限制。
发射光的发光层EML可以设置在第一电极AE上。发光层EML可以设置在对应于第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B的区域中。例如，发光层EML可以分别形成在第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B的每一个中。发光层EML可以包括有机材料和/或无机材料。发光层EML可以产生预定颜色的光。例如，发光层EML可以产生红色光、绿色光和蓝色光中的至少一种光。与产生红色光的发光层EML对应的第一开口区域、与产生绿色光的发光层EML对应的第一开口区域以及与产生蓝色光的发光层EML对应的第一开口区域可以分别被称为第一红色开口区域OA1-R、第一绿色开口区域OA1-G以及第一蓝色开口区域OA1-B。
在实施方式中，发光层EML可以被图案化并且可以共同地设置在第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B中。在这种情况下，发光层EML可以产生白光。例如，发光层EML可以具有称为“串联”的多层结构。
尽管未单独示出，但是可以在发光层EML和第一电极AE之间设置空穴控制层。
第二电极CE可以设置在发光层EML上。第二电极CE通常可以设置在像素区域PXA和非像素区域NPXA之上。第二电极CE可以是公共电极或阴极。第二电极CE可以包括金属合金或导电化合物。第二电极CE可以是透射电极、半透射半反射电极或反射电极。在第二电极CE是透射电极的情况下，第二电极CE可以包括透明金属氧化物，例如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或氧化铟锡锌(ITZO)。
尽管未单独示出，但是电子传输层可以设置在第二电极CE和发光层EML之间。
封装层TFE可以设置在第二电极CE上。封装层TFE可以封装发光元件EMD。封装层TFE可以包括至少一个绝缘层。封装层TFE可以包括至少一个无机层(下文中称为“第一封装无机层IL1”)。封装层TFE还可包括至少一个有机层(下文称为“封装有机层OL”)和至少一个无机层(下文称为“第二封装无机层IL2”)。封装有机层OL可以设置在第一封装无机层IL1和第二封装无机层IL2之间。
第一封装无机层IL1和第二封装无机层IL2可以保护发光元件EMD不受湿气和氧气的影响，并且封装有机层OL可以保护发光元件EMD不受诸如尘埃粒子的外来物质的影响。第一封装无机层IL1和第二封装无机层IL2可包括氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层或氧化铝层，然而，其不应被特别地限制。封装有机层OL可以包括基于丙烯酸的有机层，然而，其不应被特别地限制。
参照图3和图5B，输入感测层ISL可以包括第一绝缘层IIL1、设置在第一绝缘层IIL1上的第一导电层、覆盖第一导电层或与第一导电层重叠的第二绝缘层IIL2以及设置在第二绝缘层IIL2上的第二导电层。第一绝缘层IIL1可以包括无机材料。例如，第一绝缘层IIL1可以包括氮化硅层。设置在封装层TFE的最上位置处的第二封装无机层IL2可以包括氮化硅层。然而，封装层TFE的氮化硅层和第一绝缘层IIL1的氮化硅层可以在彼此不同的沉积条件下或通过彼此不同的沉积条件形成。
第一导电层可以设置在第一绝缘层IIL1上。第一导电层可以包括第一连接部分CP1。第二导电层可以设置在第一导电层上。第二导电层可以包括第一感测部分SP1。
第二绝缘层IIL2可以设置在第一导电层和第二导电层之间。在截面中，第二绝缘层IIL2可以将第一导电层与第二导电层分开。第二绝缘层IIL2可以设置有穿过其设置的第一接触孔CNT1和第二接触孔CNT2，以部分地暴露第一连接部分CP1。第一连接部分CP1可以通过第一接触孔CNT1和第二接触孔CNT2与彼此相邻的两个第一感测部分SP1电接触。
第二绝缘层IIL2可以包括无机材料。例如，第二绝缘层IIL2可以包括氮化硅层。作为示例，第二绝缘层IIL2的厚度可以大于第一绝缘层IIL1的厚度。
输入感测层ISL还可以包括第三绝缘层IIL3。第三绝缘层IIL3可以覆盖第二绝缘层IIL2和包括在第二导电层中的第一感测部分SP1或与第二绝缘层IIL2和包括在第二导电层中的第一感测部分SP1重叠。第三绝缘层IIL3可以包括有机材料。第三绝缘层IIL3可以包括基于丙烯酸的树脂。第三绝缘层IIL3的厚度可以大于第一绝缘层IIL1和第二绝缘层IIL2的厚度。例如，输入感测层ISL还可以包括高折射率层RFL。高折射率层RFL可以设置在第三绝缘层IIL3上。由发光元件EMD产生的光可由于高折射率层RFL和第三绝缘层IIL3之间的折射率差而被衍射。因此，当沿着基本上垂直于显示设备DD的第三参考方向DR3向上传播的正面光和相对于正面光倾斜的侧面光被衍射时，可以减小正方向和侧方向之间的颜色差异，且因此可以改善显示设备DD的总体视角特性。然而，根据实施方式，可以省略高折射率层RFL。
作为示例，第二导电层可以包括第二感测部分和第二连接部分(参见图6B和图7B中的CP2)。第二连接部分可以形成为穿过两个第一感测部分之间的空间。彼此相邻的两个第二感测部分可以通过第二连接部分电连接。
参照图3，抗反射层RPL可以设置在显示面板DP上。抗反射层RPL可以包括第一层LR1，该第一层LR1包括具有第一折射率n1的多个图案PT。每个图案PT可以包括相对于显示面板DP的上表面倾斜的倾斜表面ICA。例如，抗反射层RPL可包括至少设置在倾斜表面ICA上并具有比第一折射率n1高或大的第二折射率n2的第二层LR2，以及设置成与第一层LR1和第二层LR2重叠的滤色器层CFL。由于包括在第一层LR1中的图案PT包括相对于显示面板DP的上表面倾斜的倾斜表面ICA，因此至少设置在第一层LR1的倾斜表面ICA上的第二层LR2可以包括相对于显示面板DP的上表面倾斜的倾斜表面ICA。然而，本公开不应限于此或由此限制，并且第二层LR2可以设置在第一层LR1的其它位置或区或区域上，而不是设置在倾斜表面ICA上。在实施方式中，导光层LGL(参照图9)可以包括第一层和第二层，其中，第一层包括相对于颜色转换层CCL(参照图9)的上表面倾斜的表面和具有第一折射率的图案，第二层设置在第一层的所述表面上并且具有大于第一折射率的第二折射率。
第一层LR1可以包括具有第一折射率n1的材料，并且第一折射率n1可以是约1.5。第一层LR1可以包括基于丙烯酸的有机层，然而，其不应被特别限制。第二层LR2可以包括具有第二折射率n2的材料，并且第二折射率n2可以大于第一折射率n1。作为示例，第二折射率n2可以是约1.8。第二层LR2可以是无机层，其可以包括氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层或氧化铝层，然而，其不应被特别限制。与在第一层LR1和第二层LR2之间不存在折射率差(n2-n1)的情况相比，在第一层LR1和第二层LR2之间存在折射率差(n2-n1)的情况下，从外部入射到显示设备DD并传播到发光元件EMD的第一电极AE的光LT(参考图10)的量可以减小。
抗反射层RPL可包括设置成与第一层LR1和第二层LR2重叠的滤色器层CFL。滤色器层CFL可以包括多个滤色器CF和设置在滤色器CF之间的挡光层BM。滤色器CF可以包括设置为对应于第一红色开口区域OA1-R的第一滤色器CF-R、设置为对应于第一绿色开口区域OA1-G的第二滤色器CF-G以及设置为对应于第一蓝色开口区域OA1-B的第三滤色器CF-B。第一滤色器CF-R可以是红色滤色器，第二滤色器CF-G可以是绿色滤色器，并且第三滤色器CF-B可以是蓝色滤色器。第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B中的每一个可以包括聚合物光敏树脂和颜料或染料。第一滤色器CF-R可以包括红色颜料或染料，第二滤色器CF-G可以包括绿色颜料或染料，并且第三滤色器CF-B可以包括蓝色颜料或染料。
同时，实施方式不应限于此或由此限制，并且第三滤色器CF-B可以不包括颜料或染料。第三滤色器CF-B可以包括聚合物光敏树脂并且可以不包括颜料或染料。第三滤色器CF-B可以是透明的。第三滤色器CF-B可以包括透明光敏树脂。
第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B可以在第一参考方向DR1和第二参考方向DR2上彼此间隔开。
挡光层BM可以设置在彼此间隔开的第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B之间，然而，实施方式不应限于此或由此限制。挡光层BM可以与第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B的边缘重叠。挡光层BM可以是但不限于黑色矩阵。挡光层BM可以包括可包括黑色颜料或染料的有机挡光材料或无机挡光材料。挡光层BM可以防止漏光现象，并且可以用作相邻的第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B之间的边界。
可以通过挡光层BM限定第二开口区域OA2-R、OA2-G和OA2-B。第二开口区域OA2-R、OA2-G和OA2-B可以包括对应于第一红色开口区域OA1-R的第二红色开口区域OA2-R、对应于第一绿色开口区域OA1-G的第二绿色开口区域OA2-G以及对应于第一蓝色开口区域OA1-B的第二蓝色开口区域OA2-B。第二开口区域OA2-R、OA2-G和OA2-B中的每个可以比第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B中的相应第一开口区域宽或大或者可以具有比第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B中的相应第一开口区域大的尺寸。第二开口区域OA2-R、OA2-G和OA2-B中的每一个可以被限定为对应于第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B中整个相应的第一开口区域以及像素限定层PDL的一部分区或一部分区域。
抗反射层RPL的第一层LR1和第二层LR2可以设置在第二开口区域OA2-R、OA2-G和OA2-B中。第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B中的每一个可以具有根据由设置在暴露的第一电极AE上的发光层EML产生的光的颜色而变化的尺寸。因此，对应于第一开口区域OA1-R、OA1-G和OA1-B的第二开口区域OA2-R、OA2-G和OA2-B的尺寸可以变化，并且抗反射层RPL的第一层LR1和第二层LR2在第二开口区域OA2-R、OA2-G和OA2-B中的布置可以变化。作为示例，与产生绿色光的发光层EML对应的第一绿色开口区域OA1-G的尺寸可以小于与产生红色光的发光层EML对应的第一红色开口区域OA1-R的尺寸以及与产生蓝色光的发光层EML对应的第一蓝色开口区域OA1-B的尺寸。因此，设置在第二绿色开口区域OA2-G中的第一层LR1中包含的图案PT的数目可以小于设置在第二红色开口区域OA2-R中的图案PT的数目和设置在第二蓝色开口区域OA2-B中的图案PT的数目。然而，根据实施方式，第一绿色开口区域OA1-G的尺寸可以基本上与第一红色开口区域OA1-R和第一蓝色开口区域OA1-B中的每一个的尺寸相同。
平坦化层FTL可以设置在抗反射层RPL上。平坦化层FTL可以覆盖滤色器CF或与滤色器CF重叠，并且可以具有单层或多层结构。平坦化层FTL可以具有有机层的单层结构，并且可以具有有机层和无机层的多层结构。平坦化层FTL可以在其上提供平坦化表面。
窗WM可以设置在平坦化层FTL上。窗WM可以是光学透明的。图4是沿着图2所示的线A-A'截取的示意性剖视图。
参照图4，显示面板DP可以包括基层BL、设置在基层BL上的电路层CL、发光元件EMD、设置在发光元件EMD之间的像素限定层PDL以及封装层TFE。
抗反射层RPL可以设置在显示面板DP上。在这种情况下，包括图案PT的第一层LR1、第二层LR2和滤色器层CFL可以设置在封装层TFE的第二封装无机层IL2上。
图5A是示出图3所示的区域A1中的显示设备的放大平面图，且图5B是沿着图5A所示的线B-B'截取的放大示意性剖视图。
参照图5A和图5B，抗反射层RPL的第二层LR2不仅可以设置在包括在第一层LR1中的图案PT的倾斜表面ICA上，而且可以设置在图案PT之间。在实施方式中，包括在第一层LR1中的图案PT和围绕图案PT的第二层LR2可以设置在第二绿色开口区域OA2-G中。图案PT可以在第一参考方向DR1和第二参考方向DR2之间在第一方向AX1上布置或设置成相互间隔开，并且可以在不同于第一方向AX1的第二方向AX2上布置或设置成相互间隔开。然而，本公开不应限于此或由此限制。第一参考方向DR1可以基本上与第一方向AX1相同，且第二参考方向DR2可以基本上与第二方向AX2相同。在图案PT在第一方向AX1和第二方向AX2上布置或设置成彼此间隔开的情况下，在抗反射层RPL中形成的倾斜表面ICA的数量可以增加。因此，从外部入射到显示设备DD(参考图1)并且传播到发光元件EMD的第一电极AE的光LT(参考图10)的量可以减少。
参照图5B，每个图案PT可以包括面对显示面板DP的上表面的第一表面AR1和与第一表面AR1相对的第二表面AR2。图案PT的第二表面AR2可以具有小于图案PT的第一表面AR1的宽度ARW1的宽度ARW2。
设置在包括图案PT的第一层LR1上的第二层LR2可以具有穿过其形成的第三开口区域OA3，以暴露图案PT的第二表面AR2。在第二层LR2设置有第三开口区域OA3的情况下，可防止可能由可从发光元件EMD发射并由第二层LR2折射以不在垂直于显示设备DD(参考图1)的第三参考方向DR3(参考图1)上传播而是在倾斜方向上传播的光引起的光提取效率的降低。
图6A是示出图3所示的区域A1中的显示设备的放大平面图，且图6B是沿着图6A所示的线C-C'截取的放大示意性剖视图。
参照图6A和图6B，可以通过去除第一层LR1的部分来形成包括在抗反射层RPL的第一层LR1中的图案PT。在这种情况下，第二层LR2可以设置在通过部分地去除第一层LR1的部分而形成的图案PT上。在实施方式中，第一层LR1、形成在第一层LR1中的图案PT以及设置在图案PT上的第二层LR2可以设置在第二绿色开口区域OA2-G中。图7A是示出图3所示的区域A1中的显示设备DD的放大平面图。图7B是沿着图7A所示的线D-D'截取的放大示意性剖视图。
参照图7A和图7B，抗反射层RPL的第二层LR2可以设置在包括在第一层LR1中的图案PT的倾斜表面ICA上。在实施方式中，包括在第一层LR1中的图案PT以及围绕图案PT的第二层LR2可以在第二绿色开口区域OA2-G中设置在输入感测层ISL的其上可以形成或设置抗反射层RPL的高折射率层RFL上。然而，它们不限于此或由此限制。例如，在高折射率层RFL不设置在输入感测层ISL上的情况下，包括在第一层LR1中的图案PT以及围绕图案PT的第二层LR2可以设置在第三绝缘层IIL3上，而在没有设置输入感测层ISL的情况下，包括在第一层LR1中的图案PT以及围绕图案PT的第二层LR2可以设置在封装层TFE上。
图8A和图8B是示出图3所示的区域A1中的显示设备DD的放大平面图。参照图8A，包括在抗反射层RPL的第一层LR1中的图案PT可以在第一方向AX1上延伸，并且可以在第二方向AX2上设置成彼此间隔开，然而，它们不应限于此或由此限制。作为另一示例，包括在抗反射层RPL的第一层LR1中的图案PT可以在第二方向AX2上延伸，并且可以在第一方向AX1上设置成彼此间隔开。
参照图8B，包括在抗反射层RPL的第一层LR1中的图案PT可以设置成具有彼此不同尺寸的闭环形状。图案PT可以具有基本上四边形的形状。图案PT可以设置成具有彼此不同的长度和/或宽度。然而，它们不应限于此或由此限制。图案PT可以设置成具有圆形形状。图案PT可以设置成具有彼此不同的半径。在图案PT在第一方向AX1或第二方向AX2上延伸或具有闭环形状的情况下，在抗反射层RPL中形成的倾斜表面ICA的数量可以减少。因此，由发光元件EMD产生的光向垂直于显示设备DD的第三参考方向DR3(参考图1)传播，且因此，可以防止显示面板DP(参考图1)的光提取效率由于抗反射层RPL而劣化。
图9是沿着图2所示的线A-A'截取的示意性剖视图。
参照图9，显示面板DP可以包括第一基层BL1、设置在第一基层BL1上的电路层CL、设置在电路层CL上的发光元件层EDL、设置在发光元件层EDL上的封装层TFE、设置在封装层TFE上的颜色转换层CCL、设置在颜色转换层CCL上的导光层LGL以及第二基层BL2。
第一基层BL1可以提供其上可以设置电路层CL的基础表面。第一基层BL1可以是玻璃衬底、金属衬底和塑料衬底，然而，本公开不应限于此或由此限制。作为另一个示例，第一基层BL1可以是无机层、有机层或复合材料层。
第二基层BL2可以设置在导光层LGL上。第二基层BL2可以提供其上可以设置导光层LGL和颜色转换层CCL的基础表面。第二基层BL2可以是玻璃衬底、金属衬底和塑料衬底，然而，本公开不应限于此或由此限制。作为另一个示例，第二基层BL2可以是无机层、有机层或复合材料层。
发光元件层EDL可以包括发射第一颜色光的发光元件EMD。第一颜色光可以是蓝色光。发光层EML可以是可遍及多个发光元件EMD共同设置的公共层。例如，发光元件EMD通常可以通过发光层EML发射第一颜色光。发光层EML可以具有包括单一材料的单层结构、包括多种不同材料的单层结构或包括彼此不同的多种不同材料的多层结构。发光层EML不应被特别限定，且可以包括荧光物质或磷光物质。例如，发光层EML可以包括主体和掺杂剂。
输入感测层ISL和第一平坦化层FTL1可以设置在封装层TFE和颜色转换层CCL之间。输入感测层ISL可以直接设置在封装层TFE上。第一平坦化层FTL1可以具有有机层的单层结构，或者可以具有有机层和无机层的多层结构。第一平坦化层FTL1可以在其上提供平坦化表面。
颜色转换层CCL可以包括颜色转换构件CCB。颜色转换构件CCB可以包括量子点或荧光物质。颜色转换构件CCB可以转换提供至其的光的波长，并且可以发射转换后的光。例如，颜色转换层CCL可以是包括量子点的层或包括荧光物质的层。
颜色转换层CCL可以包括多个颜色转换构件CCB-R、CCB-G和CCB-B。颜色转换构件CCB-R、CCB-G和CCB-B可以在第一参考方向DR1和第二参考方向DR2上彼此间隔开。
阻挡层BKL可以设置在彼此间隔开的颜色转换构件CCB-R、CCB-G和CCB-B之间，然而，实施方式不应限于此或由此限制。阻挡层BKL可以是黑矩阵。阻挡层BKL可以包括可以包含黑色颜料或染料的有机或无机挡光材料。阻挡层BKL可以防止漏光现象，并且可以用作彼此相邻的颜色转换构件CCB-R、CCB-G和CCB-B之间的边界。
颜色转换构件CCB-R、CCB-G和CCB-B可以包括：第一颜色转换构件CCB-R，其可以将从发光元件层EDL提供的第一颜色光转换为第二颜色光；第二颜色转换构件CCB-G，其可以将从发光元件层EDL提供的第一颜色光转换为第三颜色光；以及第三颜色转换构件CCB-B，其可以透射第一颜色光。第一颜色转换构件CCB-R可对应于第一红色开口区域OA1-R，第二颜色转换构件CCB-G可对应于第一绿色开口区域OA1-G，且第三颜色转换构件CCB-B可对应于第一蓝色开口区域OA1-B。
在实施方式中，第一颜色转换构件CCB-R可以提供作为红色光的第二颜色光，并且第二颜色转换构件CCB-G可以提供作为绿色光的第三颜色光。第三颜色转换构件CCB-B可以透射作为蓝色光的从发光元件层EDL提供的第一颜色光。
由发光元件EMD产生的蓝色光可以在通过颜色转换层CCL时被散射，且因此，光的路径可以变得多样化。相应地，从发光元件EMD发射的光可以在通过导光层LGL时被导光层LGL折射，且因此可以防止在光不在第三参考方向DR3(参考图1)上传播而是在倾斜方向上传播的情况下可能发生的光提取效率的劣化。
颜色转换构件CCB-R、CCB-G和CCB-B可以包括量子点材料。量子点的核可以选自II-VI族化合物、III-VI族化合物、I-III-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、IV族元素、IV族化合物或其组合。
II-VI族化合物可以选自从由CdSe、CdTe、Cds、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe、MgS及其混合物构成的组中选择的二元化合物、从由CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、MgZnSe、MgZnS及其混合物构成的组中选择的三元化合物以及从由HgZnTeS、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe及其混合物构成的组中选择的四元化合物。
III-VI族化合物可以包括In2S3或In2Se3的二元化合物、InGaS3或InGaSe3的三元化合物或它们的任意组合。
I-III-VI族化合物可包括AgInS、AgInS2、CuInS、CuInS2、AgGaS2、CuGaS2、CuGaO2、AgGaO2、AgAlO2及其混合物的三元化合物，或选自由AgInGaS2和CuInGaS2构成的组的四元化合物。
III-V族化合物可以选自从由GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb及其混合物构成的组选择的二元化合物、从由GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InGap、InAlP、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb及其混合物构成的组选择的三元化合物以及从由GaAlNP、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb及其混合物构成的组选择的四元化合物。同时，III-V族化合物可以还包括II族金属，诸如作为III-II-V族化合物的InZnP。
IV-VI族化合物可以选自从由SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe及其混合物构成的组选择的二元化合物、从由SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe及其混合物构成的组选择的三元化合物以及从由SnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe及其混合物构成的组选择的四元化合物。IV族元素可以选自由Si、Ge及其混合物构成的组。IV族化合物可以是选自SiC、SiGe及其混合物的二元化合物。
在这种情况下，二元化合物、三元化合物或四元化合物可以以均匀的浓度存在于粒子中，或者可以在被分成具有不同浓度的多个部分之后存在于同一粒子中。例如，每个量子点可以具有一个量子点围绕另一个量子点的核-壳结构。核和壳之间的界面可以具有存在于壳中的元素的浓度随着距核-壳结构的中心的距离减小而降低的浓度梯度。
在实施方式中，量子点可以具有包括含有纳米晶体的核和包围核的壳的上述核-壳结构。量子点的壳可以用作保护层以防止芯的化学改性并保持半导体性能和/或用作充电层以给量子点提供电泳性能。壳可以具有单层或多层结构。核和壳之间的界面可以具有存在于壳中的元素的浓度随着距核-壳结构的中心的距离减小而降低的浓度梯度。作为量子点的壳，可以使用金属或非金属的氧化物、半导体化合物或其组合。
例如，金属或非金属的氧化物可以是诸如SiO2、Al2O3、TiO2、ZnO、MnO、Mn2O3、Mn3O4、CuO、FeO、Fe2O3、Fe3O4、CoO、Co3O4以及NiO的二元化合物，或诸如MgAl2O4、CoFe2O4、NiFe2O4和CoMn2O4的三元化合物。然而、本公开不应限于此或由此限制。
半导体化合物可以是CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnSeS、ZnTeS、GaAs、GaP、GaSb、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InP、InGaP、InSb、AlAs、AlP和AlSb，然而，本公开不应限于此或由此限制。
量子点可以具有发光波长光谱的半高全宽(FWHM)，其可以是约45nm或更小、约40nm或更小或约30nm或更小，并且可以在上述范围内改善颜色纯度或颜色再现性。例如，由于通过量子点发射的光可以在所有方向上传播，因此可以改善光学视角。
例如，量子点不应限于特定的形状。详细地，量子点可以具有多种形状，例如，基本上球状的形状、基本上金字塔的形状、基本上多臂的形状、基本上立方体的纳米粒子、纳米管、纳米线、纳米纤维和基本上成纳米片形状的粒子。
从量子点发射的光的颜色可以根据粒子尺寸而改变。因此，量子点可以具有各种发光颜色，诸如蓝色、红色或绿色。
滤色器层CFL可以进一步设置在颜色转换层CCL和导光层LGL之间。滤色器层CFL可以包括第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B，第一滤色器CF-R设置为对应于第一颜色转换构件CCB-R，第二滤色器CF-G设置为对应于第二颜色转换构件CCB-G，第三滤色器CF-B设置为对应于第三颜色转换构件CCB-B。第一滤色器CF-R可以是红色滤色器，第二滤色器CF-G可以是绿色滤色器，并且第三滤色器CF-B可以是蓝色滤色器。第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B可以在第一参考方向DR1和第二参考方向DR2(参考图3)上彼此间隔开。
第一挡光层BM1可设置在彼此间隔开的第一滤色器CF-R、第二滤色器CF-G和第三滤色器CF-B之间，然而，实施方式不应限于此或由此限制。
导光层LGL可以设置在滤色器层CFL上。导光层LGL可以包括具有图案PT的第一层LR1和第二层LR2。
第二平坦化层FTL2可以设置在导光层LGL上。第二平坦化层FTL2可以具有有机层的单层结构，或者可以具有有机层和无机层的多层结构。第二平坦化层FTL2可以在其上提供平坦化层。
第二挡光层BM2可以设置在第二平坦化层FTL2和第二基层BL2之间。第二挡光层BM2可以防止漏光现象的发生，并且可以在由颜色转换层CCL转换的光之间提供边界。
图10是示出从外部入射到显示设备中并穿过显示面板的光的路径的示意性剖视图。
参照图3和图10，具有第二折射率n2的第二层LR2可以设置在包括在第一层LR1中并且具有第一折射率n1的图案PT和设置在第一层LR1上的滤色器CF或第二平坦化层FTL2之间。在这种情况下，滤色器CF或第二平坦化层FTL2可以具有低于或小于第二折射率n2的折射率。在光LT入射到显示设备DD的具有第二折射率n2的第二层LR2中的情况下，由于第二层LR2具有比周围环境的折射率高的第二折射率n2，因此入射光可以因斯涅耳定律而被全反射，且因此，入射光沿着相对于第三参考方向DR3的倾斜方向入射，而不是沿着与垂直于显示设备DD的显示面板DP的第三参考方向DR3相反的方向入射。相应地，光LT传播到像素限定层PDL或颜色转换层CCL的阻挡层BKL而不传播到发光元件EMD的第一电极AE，且因此，可减少由发光元件EMD的第一电极AE反射的光LT的量。结果，可以防止显示设备DD的对比度和可见性劣化。
尽管已经描述了实施方式，但是应当理解，本公开不应限于这些实施方式，而是可以由本领域普通技术人员在要求保护的本公开的精神和范围内进行各种改变和修改。因此，所公开的主题不应限于本文所述的任何单个实施方式，并且本公开的范围应根据所附权利要求及其等同来确定。

Claims (10)

1.一种显示设备，其特征在于，包括：
显示面板，包括发光元件；以及
抗反射层，设置在所述显示面板上，并且包括：
第一层，包括具有第一折射率的图案；以及
第二层，具有大于所述第一层的所述第一折射率的第二折射率；其中，所述第一层的所述图案包括相对于所述显示面板的上表面倾斜的表面，以及
所述第二层设置在所述第一层的所述图案的所述表面上。
2.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，所述显示面板还包括设置在所述发光元件之间的像素限定层。
3.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，还包括设置在所述显示面板和所述抗反射层之间的输入感测层。
4.根据权利要求3所述的显示设备，其特征在于，
所述显示面板还包括与所述发光元件重叠的封装层，以及
所述输入感测层直接设置在所述封装层上。
5.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，
所述抗反射层的所述第一层的所述图案包括：
第一表面，面向所述显示面板的所述上表面；以及
第二表面，与所述第一表面相对，以及
所述第二表面的宽度小于所述第一表面的宽度。
6.根据权利要求5所述的显示设备，其特征在于，所述抗反射层的所述第二层包括第三开口区域，所述第三开口区域暴露所述抗反射层的所述第一层的所述图案的所述第二表面。
7.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，
所述图案设置为多个图案，以及
所述多个图案在第一方向和第二方向上彼此间隔开，或者所述多个图案在所述第一方向上延伸并且在所述第二方向上彼此间隔开，所述第一方向和所述第二方向彼此不同。
8.一种显示面板，其特征在于，包括：
发光元件层；
颜色转换层，设置在所述发光元件层上；以及
导光层，设置在所述颜色转换层上并且改变从所述显示面板的外部入射到所述显示面板中的光的路径，所述导光层包括：
第一层，包括相对于所述颜色转换层的上表面倾斜的表面以及具有第一折射率的图案；以及
第二层，设置在所述第一层的所述表面上并且具有大于所述第一折射率的第二折射率。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，还包括设置在所述颜色转换层和所述导光层之间的滤色器层。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述滤色器层包括：
多个滤色器；以及
设置在所述多个滤色器之间的挡光层。
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