CN215796742U - 一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构，包括盘式研磨机、供水系统及料仓，所述料仓装配于上磨盘顶部，所述料仓包括料仓壁及料仓底，所述料仓底呈凹状结构且所述料仓底侧壁环包于料仓壁外侧；所述料仓底中心设有导流锥，所述导流锥的圆锥面设有锥形螺旋叶片，且所述料仓底于导流锥与料仓底侧壁的环状底面均匀分布下料孔，且所述下料孔沿着上磨盘直通入上磨盘与下磨盘的间隙，所述导流锥侧面对应所述下料孔向料仓底侧壁延伸出导流板；所述供水系统包括由料仓上方延伸入料仓内的至少四根搅拌棒，且所述搅拌棒均匀排布于导流锥与料仓底侧壁之间。本实用新型能够避免物料在料仓内堆积，减少甚至避免了人工进行清理料仓内阻塞物料的问题。

Description

一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构

技术领域

本实用新型涉及一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构，属于研磨设备领域。

背景技术

在工农业生产中，常需要采用磨机对各种物料进行粉碎处理。磨机根据磨矿介质和研磨物料的不同，可分为：球磨机、柱磨机、棒磨机、管磨机、自磨机、旋臼式辊磨机、立磨、多层立磨、立式辊磨机、DMC磨机等，而采用湿法生产，其研磨作用可分为两个部分，一是研磨体之间和研磨体与物料之间的研磨作用,二是研磨体下落时的冲击作用,为了提高研磨效率就要从这两方面入手。传统的磨碎机的物料大多无法实现自动进料和出料，容易造成物料在进料管内堆积，并且在停止供料之后，料仓内的物料无法全部进入圆筒内进行磨碎，需要人工进行清理，生产效率低下且浪费人力资源。

实用新型内容

针对上述现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构，设置有导流锥及其锥形螺旋叶片，并随着导流锥与上磨盘的转动，使得物料在搅拌棒的阻力推动下混合水流自行下滑，避免物料在料仓内堆积，减少甚至避免了人工进行清理料仓内阻塞物料的问题。

为实现上述实用新型目的，本实用新型采用如下技术方案：

本实用新型提供一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构，包括盘式研磨机、供水系统及料仓，所述盘式研磨机包括同轴间隙装配的上磨盘和下磨盘，所述料仓装配于上磨盘顶部，所述料仓包括料仓壁及料仓底，所述料仓底呈凹状结构且所述料仓底侧壁环包于料仓壁外侧；

所述料仓底中心设有导流锥，所述导流锥的圆锥面设有锥形螺旋叶片，且所述料仓底于导流锥与料仓底侧壁的环状底面均匀分布下料孔，且所述下料孔沿着上磨盘直通入上磨盘与下磨盘的间隙，所述导流锥侧面对应所述下料孔向料仓底侧壁延伸出导流板；

所述供水系统包括由料仓上方延伸入料仓内的至少四根搅拌棒，所述搅拌棒中心处设有供水流道，且所述搅拌棒均匀排布于导流锥与料仓底侧壁之间。

作为本实用新型的优选方案，所述搅拌棒的位置通过支架固定。

作为本实用新型的优选方案，所述导流板为弧状导流板，且所述导流板指向其圆心的方向与导流板的转动方向相同。

作为本实用新型的优选方案，所述下料孔共有四个，且导流锥的圆锥面均匀设置四片锥形螺旋叶片。

本实用新型的有益效果在于：

首先，在料仓底设有多个下料孔，能够将物料混合水流迅速直通布撒入上磨盘与下磨盘的间隙中，物料分布更为均匀，提高了研磨机的工作效率；其次，料仓底中心处导流锥的圆锥面设有锥形螺旋叶片，导流锥与料仓底侧壁之间均匀排布搅拌棒，使得物料随着料仓底的转动，在搅拌棒的阻力作用以及导流锥的导流作用下，迅速进入下料孔并自行下滑，同时导流板能够收拢物料，加速物料的聚集下滑过程。此外，搅拌棒的中心处设有供水流道，从而使得物料在收到搅拌棒阻力的同时，能够混合从搅拌棒流出的水，使物料与水的混合物均匀迅速进入研磨机的研磨间隙中，加快研磨工作面的散热效率和研磨效率。

附图说明

图1为本实用新型中一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构的结构示意图。

图2为图1中的A-A的截面结构示意图。

图3为图1的俯视结构图。

其中，1、料仓，2、导流锥，3、锥形螺旋叶片，4、下料孔，5、导流板，6、料仓壁，7、料仓底，8、搅拌棒，9、供水流道，10、支架。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

实施例1

如图1至图3所示的一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构，包括盘式研磨机、供水系统及料仓1，所述盘式研磨机包括同轴间隙装配的上磨盘和下磨盘，所述料仓1装配于上磨盘顶部，所述料仓1包括料仓壁6及料仓底7，所述料仓底7呈凹状结构且所述料仓底7侧壁环包于料仓壁6外侧；

所述料仓底7中心设有导流锥2，所述导流锥2的圆锥面设有锥形螺旋叶片3，且所述料仓底7于导流锥2与料仓底7侧壁的环状底面均匀分布下料孔4，且所述下料孔4沿着上磨盘直通入上磨盘与下磨盘的间隙，所述导流锥2侧面对应所述下料孔4向料仓底7侧壁延伸出导流板5；

所述供水系统包括由料仓1上方延伸入料仓1内的四根搅拌棒8，所述搅拌棒8中心处设有供水流道9，且所述搅拌棒8均匀排布于导流锥2与料仓底7侧壁之间。

在本实例中，所述搅拌棒8的位置通过支架固定。

在本实例中，所述导流板5为弧状导流板，且所述弧状导流板指向其圆心的方向与该弧状导流板5的转动方向相同。

在本实例中，所述下料孔4共有四个，且导流锥2的圆锥面均匀设置四片锥形螺旋叶片3。

实施例2

与上述实施例1不同之处在于，本实施例中，所述搅拌棒8被设置有六个，对应地所述导流板5及下料孔4、锥形螺旋叶片3同样设置有六个。

上述的一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构由物料导流锥及供水系统组成，物料通过料仓入口进入料仓1时，导流锥2及料仓底7随着上磨盘转动，导流锥2所设置的锥形螺旋叶片3便于物料下沉，导流锥外径圆周分布的下料孔4与上磨盘的研磨间隙相通，在下料过程中弧形导流板使得物料更容易聚集下入下料孔4内，供水系统的终端为支架10所固定的搅拌棒8，搅拌棒8的位置固定不动，水由搅拌棒8中心的供水流道9流出，物料转动时也受到搅拌棒8的阻力，在导流板5的作用下物料和水混合物被推入下料孔4中，同时导流板5能够收拢物料，加速物料的聚集下滑过程，从而加快研磨工作面的研磨效率，避免物料在料仓1内堆积，减少甚至避免了人工进行清理料仓内阻塞物料的问题。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (4)

1.一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构，包括盘式研磨机、供水系统及料仓，所述盘式研磨机包括同轴间隙装配的上磨盘和下磨盘，所述料仓装配于上磨盘顶部，其特征在于，所述料仓包括料仓壁及料仓底，所述料仓底呈凹状结构且所述料仓底侧壁环包于料仓壁外侧；

所述料仓底中心设有导流锥，所述导流锥的圆锥面设有锥形螺旋叶片，且所述料仓底于导流锥与料仓底侧壁的环状底面均匀分布下料孔，且所述下料孔沿着上磨盘直通入上磨盘与下磨盘的间隙，所述导流锥侧面对应所述下料孔向料仓底侧壁延伸出导流板；

所述供水系统包括由料仓上方延伸入料仓内的至少四根搅拌棒，所述搅拌棒中心处设有供水流道，且所述搅拌棒均匀排布于导流锥与料仓底侧壁之间。

2.根据权利要求1所述的一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构，其特征在于，所述搅拌棒的位置通过支架固定。

3.根据权利要求1所述的一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构，其特征在于，所述导流板为弧状导流板，且所述导流板指向其圆心的方向与导流板的转动方向相同。

4.根据权利要求1所述的一种盘式研磨机料仓螺旋导流结构，其特征在于，所述下料孔共有四个，且导流锥的圆锥面均匀设置四片锥形螺旋叶片。

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