CN215700652U - 一种多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，包括基座A、清洁组件和吸尘组件，所述清洁组件设置在基座A的前端，包括集尘罩，集尘罩内设置有气动打磨组件，所述集尘罩的顶部设置有吸尘管连接口，用于连接吸尘组件。本实用新型的清洁装置，清洁组件在高压气体的推动下对还原炉桶底座的硅粉进行打磨吹扫，吹扫起的硅粉被吸尘组件吸取，实现自动无尘清洁。

Description

一种多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产装置技术领域，具体涉及一种多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置。

背景技术

目前，多晶硅行业晶棒生产完成进行装拆炉后，在进行下一步的生产过程中，需要对炉体底座进行清洁。由于生产工艺原因，炉体底座的硅粉结垢严重。目前多采用敞开式人工清理方法清理，该方法存在清理效率低、清理不彻底等问题；使用常规的真空泵也不能彻底除去炉体底座的硅粉，并且会造成硅粉粉尘飞扬，污染室内环境。

实用新型内容

本实用新型为解决上述现有技术中的不足，提供一种多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，可以实现自动有效清洁还原炉桶底座的硅粉，同时避免粉尘飞扬造成环境污染。

为实现上述技术目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，包括基座A、清洁组件和吸尘组件，所述清洁组件设置在基座A的前端，包括集尘罩，集尘罩内设置有气动打磨组件，所述集尘罩的顶部设置有吸尘管连接口，用于连接吸尘组件。

进一步地，所述气动打磨组件包括隔板，所述隔板为中空结构，隔板的上表面连接中空气轴，所述中空气轴贯穿集尘罩通过气管与高压气源连接，隔板的下表面均布有多个气孔，隔板的下表面还设置有打磨头。

进一步地，还设置有推动组件，所述推动组件包括基座B和推动杆，所述基座B的前端连接基座A，所述推动杆一端连接基座B的后端，另一端设置有手柄。

进一步地，所述基座A与基座B之间设置有浮动顺应机构。

进一步地，所述浮动顺应机构为平行四边形连杆机构，所述平行四边形连杆机构包含四根等长的连杆，所述连杆的一端固接基座B的前端，连杆的另一端可上下转动的连接于基座A的尾端。

进一步地，所述连杆的一端开设有圆孔，基座A的尾端开设有上下两组贯通孔，所述连杆通过销轴可转动的连接于基座A。

进一步地，所述推动杆内设有伸缩结构。

优选的，所述手柄呈“一”字型或三角形或环形。

优选的，所述基座B的底部设置两个辅助脚轮，所述脚轮为万向脚轮。

优选的，所述吸尘组件为工业吸尘器。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果有：

本实用新型的清洁装置，清洁组件在高压气体的推动下对还原炉桶底座的硅粉进行打磨吹扫，吹扫起的硅粉被吸尘组件吸取，实现自动清洁；通过设置浮动顺应机构，可确保基座移动过程中，清洁组件始终贴合清扫表面，避免粉尘飞扬，进一步确保无尘清洁；同时，本实用新型设置的推动组件使得操作人员可站立推动，可减轻操作人员的劳动强度。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1是本实用新型的清洁装置的结构示意图；

图2是本实用新型中清洁组件的剖视图；

图3是本实用新型中手柄的结构示意图；

附图标记：10-基座A，11-集尘罩，12-隔板，13-中空气轴，14-气孔，15-打磨头，16-吸尘管连接口，20-基座B，30-连杆，31-销轴，21-推动杆，22-手柄，23-脚轮。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

一种多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，包括基座A10、清洁组件和吸尘组件，所述清洁组件设置在基座A10的前端，包括集尘罩11，集尘罩11内设置有隔板12，所述隔板12为中空结构，隔板12的上表面连接中空气轴13，所述中空气轴13贯穿集尘罩11通过气管与高压气源连接，隔板12的下表面均布有多个气孔14，隔板12的下表面还设置有打磨头15，所述打磨头15为尼龙毛刷；所述集尘罩11的顶部设置有吸尘管连接口16，用于连接吸尘组件；优选的，所述吸尘组件为工业吸尘器；所述打磨头15在高压气体的推动下对还原炉桶底座的硅粉进行打磨吹扫，吹扫起的硅粉被吸尘组件吸取，实现无尘清洁。

所述清洁装置还设置有推动组件，所述推动组件包括基座B20和推动杆21，所述基座B20的前端连接基座A10，所述推动杆21一端连接基座B20的后端，另一端设置便于抓握的手柄22，所述手柄22呈“一”字型或三角形或环形，所述推动杆21内设伸缩结构，使得杆体长度可调，便于不同场景或者不同身高的操作者使用；所述基座B20的底部设置两个辅助脚轮23，优选的，所述脚轮23为万向脚轮，便于推动。

进一步地，所述基座A10与基座B20之间设置有浮动顺应机构，所述浮动顺应机构为平行四边形连杆机构，具体的，所述平行四边形连杆机构包含四根等长的连杆30，所述连杆30的一端固接基座B20的前端，连杆30的另一端可上下转动的连接于基座A10的尾端，在本实施例中，连杆30的一端开设有圆孔，基座A10的尾端开设有上下两组贯通孔，所述连杆30通过销轴31可转动的连接于基座A10；在清扫过程中遇到不平整表面时，四根连杆30同步运动，可确保清洁组件始终平稳贴合清扫表面。

本实用新型的清洁装置，清洁组件在高压气体的推动下对还原炉桶底座的硅粉进行打磨吹扫，吹扫起的硅粉被吸尘组件吸取，实现自动无尘清洁；通过设置浮动顺应机构，可确保基座移动过程中，清洁组件始终贴合清扫表面，避免粉尘飞扬，实现无尘清洁；同时，本实用新型设置的推动组件使得操作人员可站立推动，可减轻操作人员的劳动强度。

在本申请实施例的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接连接，也可以通过中间媒介间接连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

当然，本实用新型还可有其它多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：包括基座A(10)、清洁组件和吸尘组件，所述清洁组件设置在基座A(10)的前端，包括集尘罩(11)，集尘罩(11)内设置有气动打磨组件，所述集尘罩(11)的顶部设置有吸尘管连接口(16)，用于连接吸尘组件。

2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：所述气动打磨组件包括隔板(12)，所述隔板(12)为中空结构，隔板(12)的上表面连接中空气轴(13)，所述中空气轴(13)贯穿集尘罩(11)通过气管与高压气源连接，隔板(12)的下表面均布有多个气孔(14)，隔板(12)的下表面还设置有打磨头(15)。

3.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：还设置有推动组件，所述推动组件包括基座B(20)和推动杆(21)，所述基座B(20)的前端连接基座A(10)，所述推动杆(21)一端连接基座B(20)的后端，另一端设置有手柄(22)。

4.根据权利要求3所述的多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：所述基座A(10)与基座B(20)之间设置有浮动顺应机构。

5.根据权利要求4所述的多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：所述浮动顺应机构为平行四边形连杆机构，所述平行四边形连杆机构包含四根等长的连杆(30)，所述连杆(30)的一端固接基座B(20)的前端，连杆(30)的另一端可上下转动的连接于基座A(10)的尾端。

6.根据权利要求5所述的多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：所述连杆(30)的一端开设有圆孔，基座A(10)的尾端开设有上下两组贯通孔，所述连杆(30)通过销轴(31)可转动的连接于基座A(10)。

7.根据权利要求3所述的多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：所述推动杆(21)内设有伸缩结构。

8.根据权利要求3所述的多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：所述手柄(22)呈“一”字型或三角形或环形。

9.根据权利要求3所述的多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：所述基座B(20)的底部设置两个辅助脚轮(23)，所述脚轮(23)为万向脚轮。

10.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉桶底座自动清洁装置，其特征在于：所述吸尘组件为工业吸尘器。

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