CN215668192U - 一种卷绕式镀膜机 - Google Patents

一种卷绕式镀膜机 Download PDF

Info

Publication number
CN215668192U
CN215668192U CN202120876055.4U CN202120876055U CN215668192U CN 215668192 U CN215668192 U CN 215668192U CN 202120876055 U CN202120876055 U CN 202120876055U CN 215668192 U CN215668192 U CN 215668192U
Authority
CN
China
Prior art keywords
chamber
coating
pretreatment
winding
unwinding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202120876055.4U
Other languages
English (en)
Inventor
佘自力
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Xinbang Film Technology Co ltd
Original Assignee
Shenzhen Xinbang Film Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Xinbang Film Technology Co ltd filed Critical Shenzhen Xinbang Film Technology Co ltd
Priority to CN202120876055.4U priority Critical patent/CN215668192U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN215668192U publication Critical patent/CN215668192U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型适用于镀膜机设备技术领域,提供了一种卷绕式镀膜机,所述镀膜机包括:放卷室,其内设有放卷辊;收卷室,其内设有收卷辊;以及镀膜室,安装于放卷室与收卷室之间,用于对镀膜基材进行镀膜;所述镀膜机还包括:第一前处理室,安装于放卷室与镀膜室之间;以及第二前处理室,设置于镀膜室与收卷室之间;所述第一前处理室和第二前处理室内均安装有前处理装置;通过在放卷室与镀膜室之间以及镀膜室与收卷室之间设置用于安装前处理装置的第一前处理室和第二前处理室,避免镀膜前处理点直接设置在放卷室、收卷室或镀膜室上,导致工艺气体污染镀膜室其他溅射阴极,以及占用了沉积阴极安装空间的问题。

Description

一种卷绕式镀膜机
技术领域
本实用新型属于镀膜机设备技术领域,尤其涉及一种卷绕式镀膜机。
背景技术
卷绕式真空镀膜技术具有可连续生产、生产效率高等特点,被广泛应用于功能性薄膜的生产中。卷绕式真空镀膜机应用越来越广泛,镀膜基材的种类越来越多,表面状况各种各样。
市面上的卷绕式镀膜机主要分为蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,为完成镀膜基材表面的功能镀层的真空沉积制程并实现良好沉积,对其表面的镀前处理越来越重要,在利用镀膜机镀膜之前需要针对不同的材料采取不同的前处理方式。
现有的卷绕式镀膜机通常将镀膜前处理点直接设置在放卷室、收卷室或镀膜室上,前处理的工艺气体极易污染镀膜室其他溅射阴极,也会占用沉积阴极的安装空间。
实用新型内容
本实用新型实施例的目的在于提供一种卷绕式镀膜机,旨在解决镀膜前处理点直接设置在放卷室、收卷室或镀膜室上,导致工艺气体污染镀膜室其他溅射阴极,以及占用了沉积阴极安装空间的问题。
本实用新型实施例是这样实现的,一种卷绕式镀膜机,所述镀膜机包括:
放卷室,其内设有放卷辊;
收卷室,其内设有收卷辊;以及
镀膜室,安装于放卷室与收卷室之间,用于对镀膜基材进行镀膜;
所述镀膜机还包括:
第一前处理室,安装于放卷室与镀膜室之间;以及
第二前处理室,安装于镀膜室与收卷室之间;
所述第一前处理室和第二前处理室内均安装有前处理装置。
优选地,所述第一前处理室与放卷室和镀膜室分别通过两个法兰按真空腔体连接方式连接,所述第二前处理室与收卷室和镀膜室分别通过两个法兰连接。
优选地,所述第一前处理室内设有多个用于运输镀膜基材的导辊。
优选地,所述第一前处理室与镀膜室的连接处设有隔离闸板阀。
优选地,所述第一前处理室和第二前处理室的顶部均设有操作窗口。
本实用新型实施例提供的一种卷绕式镀膜机,通过在放卷室与镀膜室之间以及镀膜室与收卷室之间设置用于安装前处理装置的第一前处理室和第二前处理室,避免镀膜前处理点直接设置在放卷室、收卷室或镀膜室上,导致工艺气体污染镀膜室其他溅射阴极,以及占用了沉积阴极安装空间的问题。
附图说明
图1为本实用新型实施例提供的一种卷绕式镀膜机的结构图;
图2为本实用新型实施例提供的一种卷绕式镀膜机中第一前处理室4的结构图;
附图中:1、放卷室;2、镀膜室;3、收卷室;4、第一前处理室;5、第二前处理室;6、法兰;7、处理模块;8、导辊;9、盖板;10、气缸;11、隔离闸板阀。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
以下结合具体实施例对本实用新型的具体实现进行详细描述。
如图1所示,为本实用新型的一个实施例提供的一种卷绕式镀膜机的结构图,包括:
放卷室1,其内设有放卷辊;
收卷室3,其内设有收卷辊;以及
镀膜室2,安装于放卷室1与收卷室3之间,用于对镀膜基材进行镀膜;
所述镀膜机还包括:
第一前处理室4,安装于放卷室1与镀膜室2之间;以及
第二前处理室5,安装于镀膜室2与收卷室3之间;
所述第一前处理室4和第二前处理室5内均安装有前处理装置。
在本实施例的一种情况中,所述第一前处理室4内的前处理装置为处理模块7,所述第二前处理室5内前处理装置可以为处理模块7,也可以按需设置为处理其他材料镀膜基材的结构,本实施例在此不进行具体的限定。
具体的来说,处理模块7可以为线性离子源,也可以为其他形式的结构,只要能够对镀膜基材进行前处理即可,本实施例在此不进行具体的限定。
本实施例在实际应用时,待处理的镀膜基材一端缠绕在放卷室1内的放卷辊上,此镀膜基材的另一端依次穿过第一前处理室4、镀膜室2和第二前处理室5后,缠绕在收卷室3内的收卷辊上,放卷辊以及收卷辊转动后,镀膜基材首先在第一前处理室4内由处理模块7进行镀前处理,随后进入镀膜室2 内进行镀膜处理,第二前处理室5内也可按需安装处理模块对镀膜基材进行处理,物料最终进入收卷室3内被收卷。
如图1和2所示,作为本实用新型的一种优选实施例,所述第一前处理室4与放卷室1和镀膜室2分别通过两个法兰6按真空腔体连接方式连接,所述第二前处理室5与收卷室3和镀膜室2分别通过两个法兰6连接。
在本实施例的一种情况中,所述第一前处理室4的长度在900~1100毫米之间,高度在600~900毫米之间,宽度与放卷室1的宽度一致。
如图2所示,作为本实用新型的另一种优选实施例,所述第一前处理室4 内设有多个用于运输镀膜基材的导辊8。
本实施例在实际应用时,镀膜基材进入第一前处理室4后,多个导辊8 引导镀膜基材的运输方向,使得镀膜基材在第一前处理室4得到充分的镀前处理。
如图2所示,作为本实用新型的另一种优选实施例,所述第一前处理室4 与镀膜室2的连接处设有隔离闸板阀11。
在本实施例的一种情况中,所述隔离闸板阀11由气缸10驱动,且其上设有隔离狭缝区。
本实施例在实际应用时,待处理基材通过导辊8导入第一前处理室4,被处理后由另外的导辊8导出并被引入隔离闸板阀11的隔离狭缝区,实现对基材的密封。
如图1和2所示,作为本实用新型的另一种优选实施例,所述第一前处理室4和第二前处理室5的顶部均设有操作窗口。
在本实施例的一种情况中,所述操作窗口由盖板9密封;优选的,所述盖板9上设有玻璃透明视窗。
本实施例在实际应用时,通过操作窗口,可对前处理装置进行维护、更换,也可以通过盖板9上的玻璃透明视窗对第一前处理室4和第二前处理室5 内进行的镀前处理进行观察,增加镀膜机的实用性。
本实用新型上述实施例中提供了一种卷绕式镀膜机,通过在放卷室1与镀膜室2之间以及镀膜室2与收卷室3之间设置用于安装前处理装置的第一前处理室4和第二前处理室5,避免镀膜前处理点直接设置在放卷室1、收卷室3或镀膜室2上,导致工艺气体污染镀膜室其他溅射阴极,以及占用了沉积阴极安装空间的问题。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种卷绕式镀膜机,所述镀膜机包括:
放卷室,其内设有放卷辊;
收卷室,其内设有收卷辊;以及
镀膜室,安装于放卷室与收卷室之间,用于对镀膜基材进行镀膜;
其特征在于,所述镀膜机还包括:
第一前处理室,设置于放卷室与镀膜室之间;以及
第二前处理室,设置于镀膜室与收卷室之间;
所述第一前处理室和第二前处理室内均安装有前处理装置。
2.根据权利要求1所述的卷绕式镀膜机,其特征在于,所述第一前处理室与放卷室和镀膜室分别通过两个法兰按真空腔体连接方式连接,所述第二前处理室与收卷室和镀膜室分别通过两个法兰连接。
3.根据权利要求2所述的卷绕式镀膜机,其特征在于,所述第一前处理室内设有多个用于运输镀膜基材的导辊。
4.根据权利要求1或3所述的卷绕式镀膜机,其特征在于,所述第一前处理室与镀膜室的连接处设有隔离闸板阀。
5.根据权利要求1所述的卷绕式镀膜机,其特征在于,所述第一前处理室和第二前处理室的顶部均设有操作窗口。
CN202120876055.4U 2021-04-26 2021-04-26 一种卷绕式镀膜机 Active CN215668192U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202120876055.4U CN215668192U (zh) 2021-04-26 2021-04-26 一种卷绕式镀膜机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202120876055.4U CN215668192U (zh) 2021-04-26 2021-04-26 一种卷绕式镀膜机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN215668192U true CN215668192U (zh) 2022-01-28

Family

ID=79971012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202120876055.4U Active CN215668192U (zh) 2021-04-26 2021-04-26 一种卷绕式镀膜机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN215668192U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6474546B2 (ja) プラズマを使った前処理装置を有した蒸着装置
US20100215848A1 (en) Vacuum treatment of strip-shaped substrates
TWI727921B (zh) 真空處理系統以及用於固定其之方法
US9333525B2 (en) Substrate spreading device for vacuum processing apparatus, vacuum processing apparatus with substrate spreading device and method for operating same
KR20180110123A (ko) 진공 프로세싱 시스템 및 이를 위한 방법들
CN101492809B (zh) 一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置
CN110004427A (zh) 柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离方法
JP5199962B2 (ja) 真空処理装置
CN215668192U (zh) 一种卷绕式镀膜机
US20160045934A1 (en) Method for processing a flexible substrate
CN106011798A (zh) 基于pecvd的石墨烯薄膜镀膜设备及方法
TWI728283B (zh) 沉積設備、塗佈軟質基材的方法、及具有塗層的軟質基材
CN210314474U (zh) 一种带隔膜阀的t型卷绕真空镀膜设备
JP5144393B2 (ja) プラズマcvd成膜方法およびプラズマcvd装置
CN201158699Y (zh) 卷绕镀膜机
CN216891198U (zh) 一种新型真空容器结构的卷对卷真空镀膜设备
CN111699277B (zh) 沉积设备、涂覆柔性基板的方法和具有涂层的柔性基板
KR20140143589A (ko) 플렉서블 woled 디스플레이와 플렉서블 oled 조명용 박막 대량생산 제조용 롤투롤 증착기
CN203360567U (zh) 双面卷绕式镀膜机
US20230406663A1 (en) Roll exchange chamber, roll-to-roll processing system and method of continuously providing a flexible substrate
CN215593180U (zh) 真空卷绕镀膜装置
TWI713937B (zh) 用以塗佈撓性基板的沉積設備、塗佈撓性基板之方法及具有塗佈之撓性基板
WO2018149510A1 (en) Deposition apparatus for coating a flexible substrate and method of coating a flexible substrate
CN108962597B (zh) 一种高温高性能电容器薄膜连续生产装置及方法
CN212270229U (zh) 一种隧道式不锈钢装饰卷板的连续卷绕真空镀膜生产装置

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant