CN215613967U - 一种刻蚀机腔体排风结构 - Google Patents
一种刻蚀机腔体排风结构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN215613967U CN215613967U CN202122176461.2U CN202122176461U CN215613967U CN 215613967 U CN215613967 U CN 215613967U CN 202122176461 U CN202122176461 U CN 202122176461U CN 215613967 U CN215613967 U CN 215613967U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cavity
- air
- exhaust
- etching machine
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
本实用型发明公开了一种刻蚀机腔体排风结构，包括腔体，设置在腔体内的可上下移动的工作台，所述腔体的底部位于工作台的外侧设置有一组相互独立的排风口，所述排风口上设置有盖板；排风口的下方连接设置有排风管道。可根据各处风压的差异调整对应位置处排风口的开闭，从而使腔体内各处的风压保持一致，保证刻蚀速度的一致性，提高产品刻蚀的质量，可广泛应用于刻蚀机领域。
Description
技术领域
本实用新型涉及刻蚀机领域，尤其是涉及一种刻蚀机腔体排风结构。
背景技术
刻蚀机是晶片干法刻蚀常用的设备，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。工件送入刻蚀机腔体后，从刻蚀机腔体的顶部向下吹刻蚀气体，刻蚀气体与等离子体进行交换，等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物从排风口抽走。
现有刻蚀机腔体的排风方式采用的是单面排风，这种排风方式结构简单，便于清理和维修，但在实际生产中发现该结构会导致刻蚀速度不一致的问题。通过分析和实际检测发现，主要是单面排风会使排风口处的气压和其他出气压存在差异，这样一来通入刻蚀气体刻蚀时刻蚀气体在腔内分布不均，会导致排风处的刻蚀效果和其他地方造成差异，从而影响产品刻蚀的一致性和产品刻蚀的质量。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种刻蚀机腔体排风结构，解决现有刻蚀机腔体排风结构会导致腔体内刻蚀气体分布不均匀的问题。
为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：一种刻蚀机腔体排风结构，包括腔体，设置在腔体内的可上下移动的工作台，所述腔体的底部位于工作台的外侧设置有一组相互独立的排风口，所述排风口上设置有盖板；排风口的下方连接设置有排风管道。
优选的，所述排风口在腔体内设置有一圈。
为提高盖板的密封性，所述排风口上设置有与盖板相适配的安装台阶，盖板与安装台阶螺栓固定连接，所述盖板与安装台阶间还设置有密封圈。
为了根据实际工况需要增强排风能力，所述腔体的侧面还设有一个主排风口。
优选的，所述排气道与主排风口相连接。
本实用新型的有益效果：本实用新型通过在腔体底部四周设置一组排风口，并通过盖板控制排风口的开启和关闭，从而方便对腔体内各处的风压进行调整，提高刻蚀气体的分布均匀性，从而提高产品的刻蚀均匀性。
以下将结合附图和实施例，对本实用新型进行较为详细的说明。
附图说明
图1为本实用新型实施例1的俯视图。
图2为本实用新型中实施例1的剖视图。
图3为本图2中A的局部放大图。
图4为本实用新型中实施例2的立体结构示意图。
具体实施方式
实施例1：如图1至3所示，一种刻蚀机腔体排风结构，包括腔体1，设置在腔体1内的可上下移动的工作台2，待刻蚀晶片被放置在工作台2上。所述工作台2的下方连接设置有驱动气缸8，驱动气缸8带动工作台2上下运动。
所述腔体1的底部位于工作台2的外侧沿腔体1的四周设置有一圈相互独立的排风口3，所述排风口3上设置有盖板4，排风口3的下方连接设置有排风管道5，排风道5连接设置有空气泵，为排风管道5提供动力，及时将气体抽出。可通过各位置处排风口3的开闭来调整对应区域内的风压，调整方便，以使作用在工作台2上的风压更加的均匀，从而提高刻蚀的均匀性。所述排风口3分布在腔体1的下方，刻蚀气体从上方进入作用在工作台2上后再从下方被抽走，该方式较传统的侧边出风，风力分布更加的均匀，流畅性更好。
为了保证排风口3和盖板4间的气密性，所述排风口3上设置有安装台阶31，盖板4放置在台阶31上并通过一组螺栓固定安装在一起。同时，为更好的保证密封性，所述安装台阶31与盖板4间还设置有密封圈6。
实施例2：
如图2至4所示，一种刻蚀机腔体排风结构，包括腔体1，设置在腔体1内的可上下移动的工作台2，待刻蚀晶片被放置在工作台2上。所述工作台2的下方连接设置有驱动气缸8，驱动气缸8带动工作台2上下运动。
所述腔体1的一侧壁上设置有进料口，与进料口相对的侧面上设置有一个主排风口7，所述主排风口7连接设置有主排风管9，所述主排风口7上还设置有Mesh网，可用于调节抽风的流量。
为解决侧面出风造成的气压不一致的问题，所述腔体1的底部位于工作台2的外侧沿腔体1的四周设置有一圈相互独立的排风口3，所述排风口3上设置有盖板4，排风口3的下方连接设置有排风管道5，排风管道5的末端连接至主排风管9，通过一个空气泵完成抽风。可通过各位置处排风口3的开闭来调整对应区域内的风压，调整方便，以使作用在工作台2上的风压更加的均匀，从而提高刻蚀的均匀性。其他同实施例1。
以上结合附图对本实用新型进行了示例性描述。显然，本实用新型具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进；或未经改进，将本实用新型的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种刻蚀机腔体排风结构，包括腔体(1)，设置在腔体(1)内的可上下移动的工作台(2)，其特征在于：所述腔体(1)的底部位于工作台(2)的外侧设置有一组相互独立的排风口(3)，所述排风口(3)上设置有盖板(4)；排风口(3)的下方连接设置有排风管道(5)。
2.如权利要求1所述的刻蚀机腔体排风结构，其特征在于：所述排风口(3)在腔体(1)内设置有一圈。
3.如权利要求1所述的刻蚀机腔体排风结构，其特征在于：所述排风口(3)上设置有与盖板(4)相适配的安装台阶(31)，盖板(4)与安装台阶(31)螺栓固定连接，所述盖板(4)与安装台阶(31)间还设置有密封圈(6)。
4.如权利要求1所述的刻蚀机腔体排风结构，其特征在于：所述腔体(1)的侧面还设有一个主排风口(7)。
5.如权利要求4所述的刻蚀机腔体排风结构，其特征在于：所述排风管道(5)与主排风口(7)相连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202122176461.2U CN215613967U (zh) | 2021-09-08 | 2021-09-08 | 一种刻蚀机腔体排风结构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202122176461.2U CN215613967U (zh) | 2021-09-08 | 2021-09-08 | 一种刻蚀机腔体排风结构 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN215613967U true CN215613967U (zh) | 2022-01-25 |
Family
ID=79914222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202122176461.2U Active CN215613967U (zh) | 2021-09-08 | 2021-09-08 | 一种刻蚀机腔体排风结构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN215613967U (zh) |
-
2021
- 2021-09-08 CN CN202122176461.2U patent/CN215613967U/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR960005831A (ko) | 가스첨가, 감소된 챔버 직경 및 감소된 rf 웨이퍼 페데스탈 직경에 의해 개선된 플라즈마 균일성을 가진 플라즈마 반응기 | |
| CN215613967U (zh) | 一种刻蚀机腔体排风结构 | |
| CN209298062U (zh) | 用于处理基板的设备 | |
| CN113832448B (zh) | 一种半导体薄膜沉积设备及半导体镀膜方法 | |
| CN111993663B (zh) | 一种防水木门加工用覆膜机 | |
| CN113115507A (zh) | 一种电子帘加速器束流引出窗结构 | |
| CN210693191U (zh) | 一种电力工作用电力柜 | |
| CN218989370U (zh) | 一种用于提高退膜效率的设备 | |
| CN213878033U (zh) | 一种等离子蚀刻装置 | |
| CN1582487B (zh) | 一种等离子体处理装置及其处理方法 | |
| CN216435833U (zh) | 一种深反应干法离子刻蚀装置 | |
| CN219052318U (zh) | 一种微波等离子清洗装置 | |
| CN212695120U (zh) | 一种干法刻蚀机台 | |
| CN219435217U (zh) | 等离子去胶电极结构 | |
| CN212062379U (zh) | 一种真空等离子清洗腔 | |
| CN220984468U (zh) | 供气装置以及矩形射频离子源 | |
| CN221156526U (zh) | 一种新型布料器自清装置 | |
| CN209094318U (zh) | 一种洗衣机带吸废料装置的模具 | |
| CN212190389U (zh) | 一种气帘结构及晶圆移送装置 | |
| JPH1131661A (ja) | 半導体ウエハ成膜装置 | |
| CN208472188U (zh) | 一种cvd镀膜机 | |
| CN114156155B (zh) | 一种icp刻蚀机 | |
| CN208835018U (zh) | 一种icp设备残气抽风装置 | |
| CN218039092U (zh) | 真空镀膜设备 | |
| CN210281990U (zh) | 一种改进型真空吸盘 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |