CN212062379U - 一种真空等离子清洗腔 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出了一种真空等离子清洗腔,包括腔体和所述腔体侧边的门体,所述腔体顶部设有固定板,所述固定板下部竖直排列设置有若干电极,所述电极上部设有进气板,所述进气板上设有进气接头,所述进气接头处连接有出气硬管,所述出气硬管伸于所述电极之间,所述出气硬管内设有匀气机构,本等离子清洗腔在腔门口设置了进气板,通过进气板上设置的进气管深入至电极板之间,从电极板上部分别进气,能够保证气体在电极板之间分部均匀,并且设置了匀气机构,保证每根出气硬管出气均匀,提高清洗效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子清洗设备领域,尤其涉及真空等离子清洗腔。
背景技术
针对电路板加工完成后,需要进入等离子清洗机内进行清洗,等离子清洗机的原理是:在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面.以达到清洗目的,所以在清洗过程中是需要不断通入气体,被电离成等离子体后进行清洗,现有技术中,如专利公告号为:CN207624654U的实用新型公开了一种格栅式电极板等离子处理真空腔,其公开的竖直设置的电极板的等离子清洗腔,现有的通气方式都从腔体的侧壁进气,但由于竖直设置的电极板,气体只能从侧边直至电极板下部或者上部慢慢渗透,所以在实际工作时,气体的分部极为不均匀,导致清洗效果较差。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提出了一种真空等离子清洗腔,包括腔体和所述腔体侧边的门体,所述腔体顶部设有固定板,所述固定板下部竖直排列设置有若干电极,所述电极上部设有进气板,所述进气板上设有进气接头,所述进气接头处连接有出气硬管,所述出气硬管伸于所述电极之间,所述出气硬管内设有匀气机构。
优选的,所述进气板通过螺钉固定于所述固定板的端部。
优选的,所述匀气机构包括固定于所述出气硬管内的挡板,所述挡板将所述出气硬管分隔为上下设置的进气腔和出气腔,所述出气腔下部设有水平排列设置的出气孔;所述挡板中心设有进气口。
优选的,所述门体内侧设有进气总管,所述进气总管与所述进气接头连接。
优选的,所述出气硬管侧壁设有卡槽,所述挡板卡于所述卡槽内。
本实用新型提出的真空等离子清洗腔有以下有益效果:本等离子清洗腔在腔门口设置了进气板,通过进气板上设置的进气管深入至电极板之间,从电极板上部分别进气,能够保证气体在电极板之间分部均匀,并且设置了匀气机构,保证每根出气硬管出气均匀,提高清洗效率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为A-A剖视图;
图3为本实用新型的进气硬管的示意图;
其中,1、腔体;2、门体;3、固定板;4、电极;5、进气板;6、进气接头;7、出气硬管;8、挡板;9、密封条;10、进气腔;11、出气腔;12、进气口;13、出气孔;14、卡槽。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
如图1所示,本实用新型提出了一种真空等离子清洗腔,包括腔体1和所述腔体1侧边的门体2,门体2上设有密封条9,与腔体1对应,门体2闭合时,能够将腔体1闭合,所述腔体1顶部设有固定板3,所述固定板3下部竖直排列设置有若干电极4,所述电极4上部设有进气板5,所述进气板5上设有进气接头6,所述进气接头6处连接有出气硬管7,所述出气硬管7伸于所述电极4之间,出气硬管7的可以有PVC制成,出气硬管7的端部密封,所述出气硬管7内设有匀气机构,所述门体2内侧设有进气总管,所述进气总管与所述进气接头6连接,通过进气总管想进气接头6通气,能够从进气接头6通气至出气硬管7内,由于出气硬管7是分部在相邻的电极4之间的,能够将气体直接通入电极4之间,保证电离均匀性。
此外,特别设置的匀气机构为:如图2、图3所示,所述匀气机构包括固定于所述出气硬管7内的挡板8,所述挡板8将所述出气硬管7分隔为上下设置的进气腔10和出气腔11,所述出气腔11下部设有水平排列设置的出气孔13;所述挡板8中心设有进气口12,进气接头6连接进气主管之后,气筒进入至上部的进气腔10,由于进气腔10只有中间一个将气体引入下部的进气口12,所以通入的气体进入至进气腔10后,从进气口12进入下部的出气腔11,出气腔11下部均匀排布有出气孔13,出气孔13分部均匀,能够有效将从中间均匀排出,防止通入的气体集聚在出口处,分部均匀的气体能够被有效电离,单位时间内的清洗效果增加。
其中,所述进气板5通过螺钉固定于所述固定板3的端部,另外,所述出气硬管7侧壁设有卡槽14,所述挡板8卡于所述卡槽14内,挡板8通过卡槽14插于出气硬管7内。
对实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (5)
1.一种真空等离子清洗腔,包括腔体和所述腔体侧边的门体,所述腔体顶部设有固定板,所述固定板下部竖直排列设置有若干电极,其特征在于,所述电极上部设有进气板,所述进气板上设有进气接头,所述进气接头处连接有出气硬管,所述出气硬管伸于所述电极之间,所述出气硬管内设有匀气机构。
2.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔,其特征在于,所述进气板通过螺钉固定于所述固定板的端部。
3.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔,其特征在于,所述匀气机构包括固定于所述出气硬管内的挡板,所述挡板将所述出气硬管分隔为上下设置的进气腔和出气腔,所述出气腔下部设有水平排列设置的出气孔;所述挡板中心设有进气口。
4.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔,其特征在于,所述门体内侧设有进气总管,所述进气总管与所述进气接头连接。
5.根据权利要求3所述的真空等离子清洗腔,其特征在于,所述出气硬管侧壁设有卡槽,所述挡板卡于所述卡槽内。
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