CN215547246U - 一种等离子液体纳米抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种等离子液体纳米抛光装置，主要包括加工头、旋转工作台、电极棒、弹力件；所述旋转工作台承载生产零件，由旋转机构驱动，实现360°连续旋转；所述加工头由执行机构控制走位，配合所述旋转工作台，基于生产零件的形状，实现大尺寸复杂零件的自动抛光动作；所述电极棒在所述弹力件作用下始终保持与所述旋转工作台接触，使加工电流连续导通；旋转工作台与旋转机构之间设有绝缘结构。本实用新型可实现大尺寸复杂零件的自动抛光作业，提升抛光效率，减少漏电隐患。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子液体纳米抛光技术领域，尤其是涉及一种旋转工作台装置。
背景技术
等离子液体纳米抛光是基于汽液等离子发生原理，通过抛光液在工件表面形成完整包裹工件的气层，并激发到等离子态，使抛光后的工件表面粗糙度值可以达到或者接近纳米级别的现有技术。目前，对于尺寸较大的零件，具体加工设备方案是将零件置于可旋转平台上，用简易的可升降装置夹持一个或多个可喷出抛光液的加工头。在加工时，将电源线通过夹具连接在零件上，零件带正电，与平台绝缘，以一定速度旋转。加工头带负电，并将带负电的抛光液喷射到零件表面。在升降装置的带动下，加工头沿一定的轨迹运动，扫过零件的表面，实现对其整体抛光。加工过程中，零件的通过电流可达到500A以上。简易的升降机构由于自由度低，平台与升降机构分别控制，故难以相互配合，不适用于形状不规则的零件。而且，由于加工电流大，电源线必须较粗较硬，平台的旋转因此受限，一般只能旋转180°，不能连续旋转，影响加工效率，并且电源线还容易与设备其他装置发生磕碰，安全隐患极大。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种等离子液体纳米抛光装置，以解决现有技术中存在的至少一个上述问题。
为解决上述技术问题，本实用新型提供的等离子液体纳米抛光装置，主要包括:加工头、旋转工作台、电极棒和弹力件；
所述旋转工作台自由转动设置，旋转工作台由导电材料制成，用于承载被加工件；
所述电极棒与电源正极连接；
所述弹力件一端与所述电极棒连接，趋向于迫使电极棒的一端抵靠在所述旋转工作台上；
所述加工头与电源负极连接，用于形成加工电流回路。
加工时，电流可以依次通过电极棒、旋转工作台、被加工件、抛光溶液、加工头，实现抛光作业。
本申请通过设置可伸缩的电极棒，电极棒在弹力件的作用下始终保持与旋转工作台的接触，在实现电流传输的同时，可实现旋转工作台的360°旋转，从而大大提高工作效率。
进一步地，还包括执行机构，用于迫使所述加工头相对于所述旋转工作台上被加工件移动，进而对被加工件不同区域进行抛光处理。
优选地，所述执行机构为机械手臂，所述加工头设置在所述机械手臂上。
本申请通过设置机械手臂，大大增加了加工头移动自由度，从而使得其作业面覆盖零件复杂曲面。
进一步地，机械手臂可以设置多个。
加工头数量多，同时作业，抛光速度快。
进一步地，所述执行机构可为升降机构，所述旋转工作台设置在升降机构上。
进一步地，还包括旋转机构，用于驱动所述旋转工作台360°转动。
优选地，所述旋转机构为电机、单轴变位机、带链转动机等。
优选地，所述旋转机构为单轴变位机，实现360°连续精确转动，转动速度及角度可控。
进一步地，所述旋转机构和所述旋转工作台之间设置有绝缘结构。
进一步地，所述绝缘结构为绝缘垫板、绝缘套、绝缘筒等。
这样可防止加工时，500A加工电流击穿、烧毁旋转机构。
优选地，所述绝缘结构采用绝缘垫板。
优选地，所述绝缘垫板材质电木。
优选地，所述电极棒材质铜。
利用铜材硬度软、导电性能优异的特性，保障500A加工电流持续可靠地传导至旋转工作台。
进一步地，所述电极棒外设有绝缘盒，防止其漏电。
优选地，所述旋转工作台为平台。
优选地，所述弹力件为弹簧。
通过弹簧弹力，将电极棒顶紧在旋转工作台上，保持电流随时导通。
进一步地，所述电极棒抵靠在旋转工作台下表面边缘。
不占用工作台承载空间，远离旋转机构，减少电磁干扰。
进一步地，所述旋转工作台下表面设置有环槽，所述电极棒插装在环槽内。
采用上述技术方案，本实用新型具有如下有益效果：
本实用新型提供的等离子液体纳米抛光装置，可以实现旋转平台360°连续回转，对大尺寸复杂零件表面进行自动抛光，大幅提升抛光效率，绝缘防护到位，减少安全隐患。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的等离子液体纳米抛光装置的主视图；
图2为本实用新型实施例提供的旋转工作台下表面凹槽的剖切、放大示意图。
附图标记：
1-机械手臂；2-单轴变位机；3-绝缘垫板；4-旋转工作台；5-零件；6-溶液；7-加工头；8-电源；9-电源线；10-电极棒；11-弹簧；12-绝缘盒；13-凹槽。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
下面结合具体的实施方式对本实用新型做进一步的解释说明。
如图1所示，本实施例提供的抛光装置主要由机械手臂1、单轴变位机2、绝缘垫板3、旋转工作台4、电极棒10、弹簧11组成。
所述旋转工作台4，由导电材料制成，采用平台形式，水平放置，用于承载零件5。
所述电极棒10竖直放置，材质为铜，下端接电源线9，上端在弹簧11的作用下，利用铜材相对较软的特性，使电极棒10上表面始终与旋转工作台4下表面紧密接触，保持500A加工电流导通，在实现电流传输的同时，可实现旋转工作台的360°旋转，从而大大提高工作效率。
设有一台多自由度机械手臂1作为执行机构，其末端装有可喷射抛光用溶液6的加工头7。这样大大增加了加工头移动自由度，从而使得其作业面覆盖零件复杂曲面。
加工头7与电源负极连接，用于形成加工电流回路。
加工过程中，500A加工电流从电源8正极依次经过电源线9、电极棒10、旋转工作台4、零件5、溶液6、加工头7、电源线9回到电源8负极，实现通路，工件表面的抛光液激发到等离子态，实现抛光工艺。
所述单轴变位机2作为旋转机构，竖直放置，驱动旋转工作台4持续360°旋转。
对机械手臂1和360°旋转工作台4进行联控配合，加工头7在零件表面进行走位，实现对大尺寸复杂零件5表面的自动高效抛光。
所述单轴变位机2与平台4间设置有绝缘垫板3作为绝缘结构，电木材质，防止500A加工电流击穿。
所述电极棒10及弹簧11设置在绝缘盒12中，独立安装在地面上、平台边缘处，远离单轴变位机，实现有效的绝缘及电磁屏蔽保护。
所述旋转工作台4下表面设置有环槽，所述电极棒10插装在环槽内，如图2所示。
利于电极棒10与旋转工作台4保持稳定地嵌合接触状态。
本实用新型可以实现对大尺寸复杂零件表面的自动抛光，提升了抛光效率，减少了安全隐患。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，主要包括:加工头、旋转工作台、电极棒和弹力件；
所述旋转工作台自由转动设置，旋转工作台由导电材料制成，用于承载被加工件；
所述电极棒与电源正极连接；
所述弹力件一端与所述电极棒连接，趋向于迫使电极棒的一端抵靠在所述旋转工作台上；
所述加工头与电源负极连接，用于形成加工电流回路。
2.根据权利要求1所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，还包括执行机构，用于迫使所述加工头相对于所述旋转工作台上被加工件移动，进而对被加工件不同区域进行抛光处理。
3.根据权利要求2所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，所述执行机构为机械手臂，所述加工头设置在所述机械手臂上。
4.根据权利要求2所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，所述执行机构为升降机构，所述旋转工作台设置在升降机构上。
5.根据权利要求1所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，还包括旋转机构，用于驱动所述旋转工作台转动。
6.根据权利要求5所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，所述旋转机构为电机、单轴变位机、带链转动机。
7.根据权利要求5所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，所述旋转机构和所述旋转工作台之间设置有绝缘结构。
8.根据权利要求1所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，所述电极棒外设有绝缘盒，防止其漏电。
9.根据权利要求1所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，所述旋转工作台放置角度范围为0~90°。
10.根据权利要求1所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，所述电极棒抵靠在旋转工作台下表面边缘；所述旋转工作台下表面设置有环槽，所述电极棒插装在环槽内。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202123085234.5U CN215547246U (zh) | 2021-12-10 | 2021-12-10 | 一种等离子液体纳米抛光装置 |
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| CN202123085234.5U CN215547246U (zh) | 2021-12-10 | 2021-12-10 | 一种等离子液体纳米抛光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN215547246U true CN215547246U (zh) | 2022-01-18 |
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ID=79853734
Family Applications (1)
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| CN202123085234.5U Active CN215547246U (zh) | 2021-12-10 | 2021-12-10 | 一种等离子液体纳米抛光装置 |
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| CN (1) | CN215547246U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114473649A (zh) * | 2022-03-09 | 2022-05-13 | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 | 电解质等离子抛光组件和电解质等离子抛光装置 |
| CN114713854A (zh) * | 2022-06-07 | 2022-07-08 | 西安交通大学 | 一种复杂曲面激光粉末床熔融成形表面后处理装置 |
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2021
- 2021-12-10 CN CN202123085234.5U patent/CN215547246U/zh active Active
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