CN215466612U - 一种sic衬底的清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种SIC衬底的清洗装置，包括第一底座，第一底座的一侧固定连接有第二底座，所述第二底座的顶部固定连接有安装架，所述安装架的顶部安装有刷盘机构，刷盘机构包括电动伸缩杆、安装箱和电机，电机的输出端固定连接有转杆，第一底座顶端的中部固定安装有加药机构，第一底座中部的一侧固定安装有第一晶片清洗机，第一底座中部的另一侧固定安装有第二晶片清洗机，本实用新型一种SIC衬底的清洗装置，设置第一底座、刷盘机构、第一晶片清洗机和第二晶片清洗机，增加海绵刷进行搓刷，新增热水超声清洗，并搭配清洗剂超声清洗以及喷淋清洗，提高表面洁净度，降低表面颗粒数，提高了生产效率，降低成本。

Description

一种SIC衬底的清洗装置

技术领域

本实用新型涉及SIC衬底的清洗领域，具体为一种SIC衬底的清洗装置。

背景技术

SIC作为第三代半导体材料，其具有禁带宽度大，击穿场强，热导率大，电子饱和漂移速度高，抗辐射能力强和良好化学稳定性等特性，成为新一代的电子器件关键材料。 在节能减排、国防建设、电子信息等方面有着可催生出上万亿的市场。同时SIC与制作大功率微波、电力电子、光电子器件的重要材料GaN之间具有非常小的晶格失配和热膨胀系数差，使得SIC成为新一代宽禁带半导体器件的重要衬底材料。随着三代半导体的持续发展，对SIC衬底晶片的表面质量要求越来越严，SIC衬底需要进行清洗工作。

现有技术对SIC衬底晶片的清洗主要采用超声清洗和QDR槽搭配清洗，但这些物理清洗方式对有机物和颗粒去除能力弱，整体清洗效果不佳，产品重工率较高，品质无法得到保障，增加了成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种SIC衬底的清洗装置，以解决上述背景技术中提出的现有技术对SIC衬底晶片的清洗主要采用超声清洗和QDR槽搭配清洗，但这些物理清洗方式对有机物和颗粒去除能力弱，整体清洗效果不佳，产品重工率较高，品质无法得到保障，增加了成本。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种SIC衬底的清洗装置，包括第一底座，所述第一底座的一侧固定连接有第二底座，所述第二底座的顶部固定连接有安装架，所述安装架的顶部安装有刷盘机构，所述刷盘机构包括电动伸缩杆、安装箱和电机，所述电动伸缩杆的输出端固定连接有安装箱，所述安装箱内壁的顶部固定安装有电机，所述电机的输出端固定连接有转杆，所述转杆的输出端固定连接有固定板，所述固定板的底部粘接有海绵刷，所述第一底座顶端的中部固定安装有加药机构，所述加药机构包括支撑架、第一药箱和第二药箱，所述支撑架顶部的一侧固定安装有第一药箱，所述支撑架顶部的另一侧固定安装有第二药箱，所述第一底座中部的一侧固定安装有第一晶片清洗机，所述第一底座中部的另一侧固定安装有第二晶片清洗机，所述第一底座底部的一侧固定连接有支撑板，所述支撑板的顶部安装有热水箱，所述热水箱内壁的中部固定安装有加热管，所述热水箱内壁底部的一侧固定安装有第一水泵，所述热水箱内壁底部的另一侧固定安装有第二水泵，所述第一底座顶端的一侧固定安装有冷水箱，所述冷水箱内壁的底部固定安装有第三水泵，所述第一底座正面的一侧固定安装有开关面板，所述第一底座远离开关面板一侧的顶部固定连接有连接块，所述连接块的顶部固定安装有喷淋箱，所述连接块的一侧固定连接有喷淋架，所述喷淋架顶部的一侧固定安装有第一喷头，所述喷淋架顶部的另一侧固定安装有第二喷头。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述开关面板的表面设有伸缩杆开关、电机开关、第一水泵开关、第二水泵开关、第三水泵开关和加热管开关，且所述电动伸缩杆、电机、第一水泵、第二水泵、第三水泵和加热管分别通过伸缩杆开关、电机开关、第一水泵开关、第二水泵开关、第三水泵开关和加热管开关与外接电源电性连接，所述第一晶片清洗机和第二晶片清洗机均与外接电源电性连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一水泵的输出端连通有第一输水管，所述第一输水管远离第一水泵的一端与第二晶片清洗机的顶部连通。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第二水泵的输出端连通有第二输水管，所述第二输水管远离第二水泵的一端与第一喷头固定连通。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第三水泵的输出端连通有第三输水管，所述第三输水管远离第三水泵的一端与第二喷头固定连通。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述热水箱的顶部固定安装有电子温度计，所述电子温度计的检测端安装在热水箱内壁的一侧。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一药箱的顶部和第二药箱的顶部均固定连通有入料斗，所述第一药箱的底部和第二药箱的底部均安装有阀门，第一药箱的表面和第二药箱的表面均刻有刻度。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

设置第一底座、刷盘机构、加药机构、第一晶片清洗机、第二晶片清洗机和喷淋箱，优化SIC衬底抛光后清洗，增加海绵刷进行搓刷，其次新增热水超声清洗，并搭配清洗剂超声清洗以及喷淋清洗，提高表面洁净度，降低表面颗粒数，降低终检入库清洗压力，提高了生产效率，达到了降低成本的目的。

附图说明

图1为本实用新型的正面结构图；

图2为本实用新型刷盘机构的结构图；

图3为本实用新型加药机构的结构图；

图4为本实用新型第一药箱的结构图。

图中：1、第一底座；2、开关面板；3、安装架；4、刷盘机构；5、加药机构；6、第一晶片清洗机；7、第二晶片清洗机；8、冷水箱；9、连接块；10、喷淋箱；11、喷淋架；12、第一喷头；13、第二喷头；14、支撑板；15、热水箱；16、第一水泵；17、第二水泵；18、加热管；19、电子温度计；20、第三水泵；21、电动伸缩杆；22、安装箱；23、电机；24、转杆；25、固定板；26、海绵刷；27、支撑架；28、第一药箱；29、第二药箱；30、入料斗；31、阀门；32、刻度；33、第一输水管；34、第二输水管；35、第三输水管；36、第二底座。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供了一种SIC衬底的清洗装置，包括第一底座1，第一底座1的一侧固定连接有第二底座36，第二底座36的顶部固定连接有安装架3，安装架3的顶部安装有刷盘机构4，刷盘机构4包括电动伸缩杆21、安装箱22和电机23，电动伸缩杆21的输出端固定连接有安装箱22，安装箱22内壁的顶部固定安装有电机23，电机23的输出端固定连接有转杆24，转杆24的输出端固定连接有固定板25，固定板25的底部粘接有海绵刷26，第一底座1顶端的中部固定安装有加药机构5，加药机构5包括支撑架27、第一药箱28和第二药箱29，支撑架27顶部的一侧固定安装有第一药箱28，支撑架27顶部的另一侧固定安装有第二药箱29，第一底座1中部的一侧固定安装有第一晶片清洗机6，第一底座1中部的另一侧固定安装有第二晶片清洗机7，第一底座1底部的一侧固定连接有支撑板14，支撑板14的顶部安装有热水箱15，热水箱15内壁的中部固定安装有加热管18，热水箱15内壁底部的一侧固定安装有第一水泵16，热水箱15内壁底部的另一侧固定安装有第二水泵17，第一底座1顶端的一侧固定安装有冷水箱8，冷水箱8内壁的底部固定安装有第三水泵20，第一底座1正面的一侧固定安装有开关面板2，第一底座1远离开关面板2一侧的顶部固定连接有连接块9，连接块9的顶部固定安装有喷淋箱10，连接块9的一侧固定连接有喷淋架11，喷淋架11顶部的一侧固定安装有第一喷头12，喷淋架11顶部的另一侧固定安装有第二喷头13，增加海绵刷26进行搓刷，新增热水超声清洗，并搭配清洗剂进行超声清洗以及喷淋清洗，整体提高了表面洁净度，降低表面颗粒数，大大提高了生产效率。

优选的，开关面板2的表面设有伸缩杆开关、电机开关、第一水泵开关、第二水泵开关、第三水泵开关和加热管开关，且电动伸缩杆21、电机23、第一水泵16、第二水泵17、第三水泵20和加热管18分别通过伸缩杆开关、电机开关、第一水泵开关、第二水泵开关、第三水泵开关和加热管开关与外接电源电性连接，第一晶片清洗机6和第二晶片清洗机7均与外接电源电性连接，设置开关面板2便于分别对电动伸缩杆21、电机23、第一水泵16、第二水泵17、第三水泵20和加热管18进行控制。

优选的，第一水泵16的输出端连通有第一输水管33，第一输水管33远离第一水泵16的一端与第二晶片清洗机7的顶部连通，设置第一水泵16向第二晶片清洗机7内部抽热水进行热水超声。

优选的，第二水泵17的输出端连通有第二输水管34，第二输水管34远离第二水泵17的一端与第一喷头12固定连通，设置第二水泵17用于进行热水喷淋。

优选的，第三水泵20的输出端连通有第三输水管35，第三输水管35远离第三水泵20的一端与第二喷头13固定连通，设置第三水泵20可用于抽出冷水进行喷淋工作。

优选的，热水箱15的顶部固定安装有电子温度计19，电子温度计19的检测端安装在热水箱15内壁的一侧，设置电子温度计19便于观察热水箱15的水温。

优选的，第一药箱28的顶部和第二药箱29的顶部均固定连通有入料斗30，第一药箱28的底部和第二药箱29的底部均安装有阀门31，第一药箱28的表面和第二药箱29的表面均刻有刻度32，设置入料斗30和阀门31便于添加和排出清洗药剂。

具体使用时，本实用新型一种SIC衬底的清洗装置，使用前，将10%浓度的清洗药剂和15%浓度的清洗药剂分别置于第一药箱28和第二药箱29内部，装置的具体清洗使用步骤如下：

步骤一：下机刷洗搓片

抛光下机后的晶片，在表面保持湿润的状态下进行湿法机械搓片，启动电机23带动转杆24和海绵刷26转动，海绵刷26垂直下压进行搓刷，以盘为单位，搓3圈，确保晶片表面被完全搓到，海绵刷26为软质纳米海绵刷，针对抛光下机后的晶片，去除抛光过程中产生的抛光薄膜，减少接下来的物性以及化学清洗；

步骤二：药剂清洗

将10%浓度的清洗药剂排放至第一晶片清洗机6内部，晶片搓片后，放置在含有10%浓度的清洗药剂槽进行清洗，以片为单位，其清洗温度设置在75±5℃，超声使用低频40k即可，清洗时间20min，清洗过程中抛动频次15次/min；

步骤三：热水超声

晶片药剂清洗后，启动第一水泵16将热水抽至第二晶片清洗机7内部，晶片放置在第二晶片清洗机7进行热水超声清洗，其清洗温度为60℃，超声使用低频40k，清洗时间10min，清洗过程中抛动频次15次/min。

步骤四：热水喷淋

将晶片放置在喷淋箱10进行喷淋清洗，其喷淋温度设置在70±5℃，喷淋时间为15min；

步骤五：药剂漂洗

热水喷淋后，将含有15%浓度的清洗药剂排放至第一晶片清洗机6内部，晶片放置在含有15%浓度的清洗药剂槽进行清洗，以片为单位，其清洗温度设置在75±5℃，超声使用高频120k即可，清洗时间15min，清洗过程中抛动频次15次/min；

步骤六：喷淋

药剂漂洗后，放置在喷淋箱10内部，启动第二水泵17或者第三水泵20进行喷淋，喷淋时间15min；

增加海绵刷26进行搓刷，新增热水超声清洗，并搭配清洗剂进行超声清洗以及喷淋清洗，整体提高了表面洁净度，降低表面颗粒数，降低终检入库清洗压力，大大提高了生产效率，达到了降低成本的目的。

尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种SIC衬底的清洗装置，包括第一底座（1），其特征在于：所述第一底座（1）的一侧固定连接有第二底座（36），所述第二底座（36）的顶部固定连接有安装架（3），所述安装架（3）的顶部安装有刷盘机构（4），所述刷盘机构（4）包括电动伸缩杆（21）、安装箱（22）和电机（23），所述电动伸缩杆（21）的输出端固定连接有安装箱（22），所述安装箱（22）内壁的顶部固定安装有电机（23），所述电机（23）的输出端固定连接有转杆（24），所述转杆（24）的输出端固定连接有固定板（25），所述固定板（25）的底部粘接有海绵刷（26），所述第一底座（1）顶端的中部固定安装有加药机构（5），所述加药机构（5）包括支撑架（27）、第一药箱（28）和第二药箱（29），所述支撑架（27）顶部的一侧固定安装有第一药箱（28），所述支撑架（27）顶部的另一侧固定安装有第二药箱（29），所述第一底座（1）中部的一侧固定安装有第一晶片清洗机（6），所述第一底座（1）中部的另一侧固定安装有第二晶片清洗机（7），所述第一底座（1）底部的一侧固定连接有支撑板（14），所述支撑板（14）的顶部安装有热水箱（15），所述热水箱（15）内壁的中部固定安装有加热管（18），所述热水箱（15）内壁底部的一侧固定安装有第一水泵（16），所述热水箱（15）内壁底部的另一侧固定安装有第二水泵（17），所述第一底座（1）顶端的一侧固定安装有冷水箱（8），所述冷水箱（8）内壁的底部固定安装有第三水泵（20），所述第一底座（1）正面的一侧固定安装有开关面板（2），所述第一底座（1）远离开关面板（2）一侧的顶部固定连接有连接块（9），所述连接块（9）的顶部固定安装有喷淋箱（10），所述连接块（9）的一侧固定连接有喷淋架（11），所述喷淋架（11）顶部的一侧固定安装有第一喷头（12），所述喷淋架（11）顶部的另一侧固定安装有第二喷头（13）。

2.根据权利要求1所述的一种SIC衬底的清洗装置，其特征在于：所述开关面板（2）的表面设有伸缩杆开关、电机开关、第一水泵开关、第二水泵开关、第三水泵开关和加热管开关，且所述电动伸缩杆（21）、电机（23）、第一水泵（16）、第二水泵（17）、第三水泵（20）和加热管（18）分别通过伸缩杆开关、电机开关、第一水泵开关、第二水泵开关、第三水泵开关和加热管开关与外接电源电性连接，所述第一晶片清洗机（6）和第二晶片清洗机（7）均与外接电源电性连接。

3.根据权利要求1所述的一种SIC衬底的清洗装置，其特征在于：所述第一水泵（16）的输出端连通有第一输水管（33），所述第一输水管（33）远离第一水泵（16）的一端与第二晶片清洗机（7）的顶部连通。

4.根据权利要求1所述的一种SIC衬底的清洗装置，其特征在于：所述第二水泵（17）的输出端连通有第二输水管（34），所述第二输水管（34）远离第二水泵（17）的一端与第一喷头（12）固定连通。

5.根据权利要求1所述的一种SIC衬底的清洗装置，其特征在于：所述第三水泵（20）的输出端连通有第三输水管（35），所述第三输水管（35）远离第三水泵（20）的一端与第二喷头（13）固定连通。

6.根据权利要求1所述的一种SIC衬底的清洗装置，其特征在于：所述热水箱（15）的顶部固定安装有电子温度计（19），所述电子温度计（19）的检测端安装在热水箱（15）内壁的一侧。

7.根据权利要求1所述的一种SIC衬底的清洗装置，其特征在于：所述第一药箱（28）的顶部和第二药箱（29）的顶部均固定连通有入料斗（30），所述第一药箱（28）的底部和第二药箱（29）的底部均安装有阀门（31），第一药箱（28）的表面和第二药箱（29）的表面均刻有刻度（32）。

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