CN215393145U - 真空吸附平台及激光加工设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种真空吸附平台，其包括吸附盖板、微调单元和粗调单元。吸附盖板设置有真空吸嘴，真空吸嘴用于吸附待加工产品；微调单元与吸附盖板连接，微调单元用于微调吸附盖板沿吸附盖板的厚度方向的移动距离；粗调单元与微调单元背离吸附盖板的一侧连接，粗调单元用于粗调微调单元沿吸附盖板的厚度方向的移动距离；粗调时吸附盖板与微调单元同步移动。由于本真空吸附平台存在二级调节的共同配合，不仅大大缩短了调距所需要花费的时间，而且调节的效果更加良好，最终使得待加工产品的加工效果和加工效率均得到了明显的提高。

Description

真空吸附平台及激光加工设备

技术领域

本实用新型涉及激光加工设备技术领域，特别是涉及真空吸附平台及激光加工设备。

背景技术

随着激光加工技术的发展，激光加工被越来越广泛的应用在不同的加工领域。当利用激光对待加工产品进行加工时，一般需要调节激光头与待加工产品之间的距离，使得激光头发射出来的激光能够更好的聚焦在待加工产品表面，进而更好的完成加工。然而现有技术中，大多通过设置一个滑轨滑块机构来实现待加工产品的上下移动，而滑轨滑块机构由于加工精度不高，因而很难实现将待加工产品移动至合适的激光聚焦范围内，使得激光加工的效果较差；而当设置一个精密的移动机构来实现待加工产品的上下移动时，调节待加工产品移动至合适的聚焦范围内所需的时间又会较长，影响了激光加工的效率。

实用新型内容

基于此，有必要针对在激光加工过程中，当待加工产品需要移动至合适的激光聚焦范围内时，所需要的调节时间较长和难度较高的技术问题，提供一种真空吸附平台。

一种真空吸附平台，其包括：

吸附盖板，所述吸附盖板设置有真空吸嘴，所述真空吸嘴用于吸附待加工产品；

微调单元，所述微调单元与所述吸附盖板连接，所述微调单元用于微调所述吸附盖板沿所述吸附盖板的厚度方向的移动距离；以及

粗调单元，所述粗调单元与所述微调单元背离所述吸附盖板的一侧连接，所述粗调单元用于粗调所述微调单元的移动距离；粗调时所述吸附盖板与所述微调单元同步移动；

其中，通过所述粗调单元调节时的最小调节距离大于通过所述微调单元调节时的最小调节距离。

在其中一个实施例中，所述微调单元包括：

第一调节板，所述第一调节板与所述吸附盖板连接；

第二调节板，所述第二调节板与所述第一调节板滑动连接，所述第二调节板远离所述吸附盖板的一侧与所述粗调单元连接；以及

第一调节件，安装在所述第一调节板上，并与所述第二调节板连接；所述第一调节件用于带动所述第二调节板相对所述吸附盖板做靠近运动和远离运动。

在其中一个实施例中，所述第一调节件包括千分尺旋钮组件和安装座；所述千分尺旋钮组件安装于所述安装座，所述安装座固定于所述第一调节板；

所述千分尺旋钮组件包括第一旋钮和螺杆，所述螺杆与所述第二调节板连接，所述第一旋钮绕其自身轴线转动时，所述螺杆能够带动所述第二调节板与所述第一调节板做相对运动。

在其中一个实施例中，所述第一调节板和所述第二调节板之间设置有交叉滚珠导轨，所述交叉滚珠导轨由相互平行设置的第一滚珠导轨和第二滚珠导轨组成，所述第一滚珠导轨安装于所述第一调节板，所述第二滚珠导轨安装于所述第二调节板。

在其中一个实施例中，所述粗调单元包括升降交叉杆、第二调节件和第一转动轴以及第二安装板；

所述升降交叉杆包括主动杆和从动杆，所述主动杆与所述从动杆相互交叉并通过所述第一转动轴相互转动连接；

所述主动杆的一端与所述从动杆的一端分别与所述第二安装板连接；

所述主动杆的另一端与所述从动杆的另一端分别与所述第二调节板连接；

所述第二调节件连接所述主动杆，所述第二调节件用于带动所述主动杆绕所述第一转动轴的轴线转动。

在其中一个实施例中，所述粗调单元还包括第一安装板，所述第一安装板与所述第二调节板背离所述吸附盖板的一侧连接。

在其中一个实施例中，所述真空吸附平台还包括吸附底板和真空连接件，所述吸附底板安装于所述吸附盖板背离待加工产品的一侧，所述吸附底板与所述吸附盖板之间用于形成吸附腔，所述真空连接件穿过所述吸附底板与所述吸附腔连通，所述真空连接件用于与真空设备连接并控制所述吸附腔内的真空度。

在其中一个实施例中，所述真空连接件的数量为至少一个，至少一个所述真空连接件间隔设置于所述吸附底板外周。

在其中一个实施例中，所述真空吸附平台还包括吸附垫板，所述吸附垫板的一侧与所述吸附底板连接，所述吸附垫板的另一侧与所述微调单元连接。

本实用新型还提供一种激光加工设备，能够解决上述至少一个技术问题。

本实用新型提供的一种激光加工设备，包括上述的真空吸附平台。

本实用新型的有益效果：

本实用新型提供的一种真空吸附平台，在激光加工过程中，先将待加工产品吸附在吸附盖板上，当需要将激光头与待加工产品之间的距离调节至合适的激光聚焦范围内时，此时先通过粗调单元调节，使得微调单元通过粗调单元的调节发生沿吸附盖板厚度方向的移动，由于粗调时吸附盖板与微调单元同步移动，进而吸附在吸附盖板上的待加工产品能够通过粗调方式先移动至较为准确的距离内。此时，再通过微调单元来调节，使得吸附盖板通过微调方式发生移动，最终使得待加工产品与激光头之间的距离处于合适的激光聚焦范围内。由于存在二级调节的共同配合，不仅大大缩短了调距所需要花费的时间，而且调节的效果更加良好，最终使得待加工产品的加工效果和加工效率均得到了明显的提高。

附图说明

图1为本实用新型一实施例提供的真空吸附平台的示意图；

图2为图1所示的真空吸附平台的爆炸图；

图3为图1所示的真空吸附平台的吸附盖板的示意图；

图4为图1所示的真空吸附平台的主视图；

图5为图1所示的真空吸附平台的爆炸图的主视图。

附图标记：100-吸附盖板；110-真空吸嘴；120-连接孔；200-微调单元；210-第一调节板；220-第二调节板；230-第一调节件；2311-第一旋钮；2312-螺杆；232-安装座；240-第一连接板；250-第二连接板；300-粗调单元；311-主动杆；312-从动杆；313-第一转动轴；314-第二转动轴；320-第二调节件；330-第一安装板；340-第二安装板；400-吸附底板；410-吸附腔；500-真空连接件；600-吸附垫板；700-第三连接板。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

参阅图1，图1示出了本实用新型一实施例提供的真空吸附平台的示意图，本实用新型一实施例提供的真空吸附平台，包括吸附盖板100、微调单元200和粗调单元300。吸附盖板100设置有真空吸嘴110，真空吸嘴110用于吸附待加工产品；微调单元200与吸附盖板100连接，微调单元200用于微调吸附盖板100沿吸附盖板100的厚度方向的移动距离；粗调单元300与微调单元200背离吸附盖板100的一侧连接，粗调单元300用于粗调微调单元200沿吸附盖板100的厚度方向的移动距离；粗调时吸附盖板100与微调单元200同步移动。

在激光加工过程中，先将待加工产品吸附在吸附盖板100上，当需要将激光头与待加工产品之间的距离调节至合适的激光聚焦范围内时，此时先通过粗调单元300调节，使得微调单元200通过粗调单元300的调节发生沿吸附盖板100厚度方向的移动，由于粗调时吸附盖板100与微调单元200同步移动，进而吸附在吸附盖板100上的待加工产品能够通过粗调方式先移动至较为准确的距离内。此时，再通过微调单元200来调节，使得吸附盖板100通过微调方式发生移动，最终使得待加工产品与激光头之间的距离处于合适的激光聚焦范围内。由于存在二级调节的共同配合，不仅大大缩短了调距所需要花费的时间，而且调节的效果更加良好，最终使得待加工产品的加工效果和加工效率均得到了明显的提高。其中，通过粗调单元300调节时的单位调节距离大于通过微调单元200调节时的单位调节距离，从而能够实现不同级别的调节。单位调节距离即能够调节的最小调节距离。

以下针对真空吸附平台的结构进行具体地描述。请参阅图2-图5，图2示出了图1所示的真空吸附平台的爆炸图；图3示出了图1所示的真空吸附平台的吸附盖板100的示意图；图4示出了图1所示的真空吸附平台的主视图；图5示出了图1所示的真空吸附平台的爆炸图的主视图。

请参阅图2、图4和图5，本实用新型一实施例提供的真空吸附平台的微调单元200包括第一调节板210、第二调节板220和第一调节件230。第一调节板210与吸附盖板100连接；第二调节板220与第一调节板210滑动连接，第二调节板220远离吸附盖板100的一侧与粗调单元300连接；第一调节件230安装在第一调节板210上，并与第二调节板220连接；第一调节件230用于带动第二调节板220相对吸附盖板100做靠近运动和远离运动。

具体地，在其中一个实施例中，第一调节件230包括千分尺旋钮组件和安装座232。千分尺旋钮组件安装于安装座232，安装座232固定于第一调节板210上。千分尺旋钮组件包括第一旋钮2311和螺杆2312，当第一旋钮2311沿其自身轴线顺时针转动时，螺杆2312沿图4中的竖直方向向下运动，由于螺杆2312与第二调节板220连接，螺杆2312能够带动第二调节板220同步沿图4中的竖直方向向下运动，进而第二调节板220与第一调节板210之间发生了相对运动，最终使得与第一调节板210连接的吸附盖板100相对第二调节板220发生了相对运动，实现了吸附盖板100沿其自身厚度方向的微调功能。

需要说明的是，千分尺旋钮组件与螺旋测微器的千分尺旋钮组件的结构一致，第一旋钮2311带动螺杆2312运动的原理为现有技术，在此不再赘述。

在其中一个实施例中，第一调节板210和第二调节板220之间设置有交叉滚珠导轨，交叉滚珠导轨由相互平行设置的第一滚珠导轨和第二滚珠导轨组成，第一滚珠导轨安装于第一调节板210，第二滚珠导轨安装于第二调节板220。其中，第一滚珠导轨和第二滚珠导轨之间设置有用于连接两条导轨的滚珠。通过设置交叉滚珠导轨，能够减小第一调节板210与第二调节板220之间的滑动摩擦力，使得本真空吸附平台在微调过程中，第二调节板220相对第一调节板210移动时的调节精度更高。

请继续参阅图2、图4和图5，本实用新型一实施例提供的真空吸附平台的粗调单元300包括升降交叉杆、第二调节件320、第一转动轴313、第一安装板330和第二安装板340，第一安装板330与第二调节板220背离吸附盖板100的一侧连接，第一安装板330与第二安装板340沿竖直方向相对升降交叉杆的两端设置。其中，升降交叉杆包括主动杆311和从动杆312，主动杆311与从动杆312相互交叉并通过第一转动轴313相互转动连接；主动杆311的一端与从动杆312的一端分别通过第二转动轴314与第二安装板340连接；主动杆311的另一端与从动杆312的另一端分别通过第二转动轴314与第一安装板330连接；第二调节件320连接主动杆311，第二调节件320用于带动主动杆311绕第一转动轴313的轴线转动。

具体地，第二调节件320为第二旋钮，第二旋钮顺时针转动时，能够带动主动杆311绕第一转动轴313的轴线逆时针转动，从而，主动杆311的上端向上移动，带动第一安装板330向上移动，第一安装板330则带动从动杆312的上端向上移动，则从动杆312也绕第一转动轴313转动。在这个调节过程中，主动杆311和从动杆312的上端相互靠近，下端相互靠近，第一安装板330向上移动，从而实现了与第一安装板330背离升降交叉杆的一侧连接的吸附盖板100的粗调功能。吸附盖板100向下粗调的过程与上述向上粗调的过程相反，在此不再赘述。

具体地，第一安装板330上设置有第一滑槽，第二安装板340上设置有第二滑槽，第一滑槽上和第二滑槽上分别设置有两个滑块。每个滑块与对应的第一滑槽或第二滑槽滑动连接。主动杆311的上端与从动杆312的上端分别与第一滑槽上的两个不同的滑块转动连接，主动杆311的下端与从动杆312的下端与第二滑槽上两个不同的滑块同样转动连接，当主动杆311和从动杆312相互靠近时，主动杆311的上端与从动杆312的上端通过第一滑槽上的各自对应的滑块相对第一滑槽滑动，从而相互靠近，主动杆311的下端与从动杆312的下端通过第二滑槽上的滑块相对第二滑槽滑动，从而相互靠近。

当主动杆311和从动杆312相互远离时，与上述主动杆311和从动杆312的靠近过程相反，对此不再赘述。

在其中一个实施例中，本真空吸附平台还包括齿轮齿条组件，齿轮和齿条配合，其中齿轮与第二旋钮连接，齿条与主动杆311连接。当第二旋钮转动时，能够带动齿轮转动，齿轮带动齿条上下移动，从而主动杆311能够实现上下移动。

在其中另一个实施例中，第二旋钮的另一端与主动杆311抵接，当第二旋钮绕其自身轴线顺时针转动时，第二旋钮与主动杆311抵接的一端沿水平方向向右移动，使得第二旋钮推动主动杆311相对第一转动轴313的轴线逆时针转动，从而主动杆311的上端向上移动。当第二旋钮绕其自身轴线逆时针转动时，与上述移动过程相反，从而主动杆311相对第一转动轴313的轴线顺时针转动，主动杆311的上端向下移动。

请参阅图1、图2、图4和图5，本实用新型一实施例提供的真空吸附平台还包括吸附底板400和真空连接件500，吸附盖板100上设置有连接孔120，连接件穿过吸附底板400并与连接孔120的孔壁连接，吸附底板400与吸附盖板100之间用于形成吸附腔410，真空连接件500穿过吸附底板400与吸附腔410连通，真空连接件500用于与真空设备连接并控制吸附腔410内的真空度。

具体地，在其中一个实施例中，真空设备为真空泵，真空连接件500与真空泵连接，真空连接件500上设置有真空调节阀，通过控制真空调节阀，使得吸附腔410内的真空度能够发生改变，进而改变吸附盖板100上吸附待加工产品的吸力，使得吸附盖板100能够吸附不同重量和不同大小的待加工产品，真空吸附平台的适用范围更广。

请参阅图1、图4和图5，本实用新型一实施例提供的真空吸附平台的真空连接件500的数量为至少一个，至少一个真空连接件500间隔设置于吸附底板400外周。在其中一个实施例中，真空连接件500的数量为两个，两个真空连接件500沿吸附底板400的长度方向相对设置。需要说明的是，对于真空连接件500的数量和设置方式不做任何限定，其只要能够实现与真空设备连接并能够控制吸附腔410内真空度的功能即可。

请参阅图1、图2、图4和图5，本实用新型一实施例提供的真空吸附平台还包括吸附垫板600和第一连接板240，吸附垫板600的一侧与吸附底板400连接，吸附垫板600的另一侧与第一连接板240连接，第一连接板240与微调单元200里的第一调节板210连接。通过设置吸附垫板600和第一连接板240，能够使得微调平台与吸附底板400之间不直接连接，当微调单元200出现问题需要更换或保养时，通过拆除吸附垫板600或第一连接板240与微调平台的连接即可，这样对于吸附腔410的密封性影响较小，能够更好的保证本真空吸附平台的真空吸附能力。

请参阅图2、图4和图5，在其中一个实施例中，本实用新型一实施例提供的真空吸附平台还包括第二连接板250和第三连接板700。其中，第二连接板250的一侧与第二调节板220背离吸附盖板100的一侧连接，第二连接板250的另一侧与第三连接板700连接，第三连接板700与第一安装板330连接。通过设置第二连接板250和第三连接板700，使得微调平台与粗调平台不直接连接，当二者中的的其中一个需要更换或保养时，只需要拆除第二连接板250与第三连接板700之间的连接件即可，有效的避免了当微调单元200出现问题需要维修或保养时，拆除过程中对于粗调单元300的不小心破坏；或者当粗调单元300出现问题需要维修或保养时，拆除过程中对于微调单元200的不小心破坏，大大提高了本真空吸附平台上各个零部件的使用寿命。

本实用新型提供的一种激光加工设备，包括上述的真空吸附平台，能够解决上述至少一个技术问题。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种真空吸附平台，其特征在于，所述真空吸附平台包括：

吸附盖板，所述吸附盖板设置有真空吸嘴，所述真空吸嘴用于吸附待加工产品；

微调单元，所述微调单元与所述吸附盖板连接，所述微调单元用于微调所述吸附盖板沿所述吸附盖板的厚度方向的移动距离；以及

粗调单元，所述粗调单元与所述微调单元背离所述吸附盖板的一侧连接，所述粗调单元用于粗调所述微调单元的移动距离；粗调时所述吸附盖板与所述微调单元同步移动；

其中，通过所述粗调单元调节时的最小调节距离大于通过所述微调单元调节时的最小调节距离。

2.根据权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述微调单元包括：

第一调节板，所述第一调节板与所述吸附盖板连接；

第二调节板，所述第二调节板与所述第一调节板滑动连接，所述第二调节板远离所述吸附盖板的一侧与所述粗调单元连接；以及

第一调节件，安装在所述第一调节板上，并与所述第二调节板连接；所述第一调节件用于带动所述第二调节板相对所述吸附盖板做靠近运动和远离运动。

3.根据权利要求2所述的真空吸附平台，其特征在于，所述第一调节件包括千分尺旋钮组件和安装座；所述千分尺旋钮组件安装于所述安装座，所述安装座固定于所述第一调节板；

所述千分尺旋钮组件包括第一旋钮和螺杆，所述螺杆与所述第二调节板连接，所述第一旋钮绕其自身轴线转动时，所述螺杆能够带动所述第二调节板与所述第一调节板做相对运动。

4.根据权利要求3所述的真空吸附平台，其特征在于，所述第一调节板和所述第二调节板之间设置有交叉滚珠导轨，所述交叉滚珠导轨由相互平行设置的第一滚珠导轨和第二滚珠导轨组成，所述第一滚珠导轨安装于所述第一调节板，所述第二滚珠导轨安装于所述第二调节板。

5.根据权利要求2所述的真空吸附平台，其特征在于，所述粗调单元包括升降交叉杆、第二调节件和第一转动轴以及第二安装板；

所述升降交叉杆包括主动杆和从动杆，所述主动杆与所述从动杆相互交叉并通过所述第一转动轴相互转动连接；

所述主动杆的一端与所述从动杆的一端分别与所述第二安装板连接；

所述主动杆的另一端与所述从动杆的另一端分别与所述第二调节板连接；

所述第二调节件连接所述主动杆，所述第二调节件用于带动所述主动杆绕所述第一转动轴的轴线转动。

6.根据权利要求5所述的真空吸附平台，其特征在于，所述粗调单元还包括第一安装板，所述第一安装板与所述第二调节板背离所述吸附盖板的一侧连接。

7.根据权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述真空吸附平台还包括吸附底板和真空连接件，所述吸附底板安装于所述吸附盖板背离待加工产品的一侧，所述吸附底板与所述吸附盖板之间用于形成吸附腔，所述真空连接件穿过所述吸附底板与所述吸附腔连通，所述真空连接件用于与真空设备连接并控制所述吸附腔内的真空度。

8.根据权利要求7所述的真空吸附平台，其特征在于，所述真空连接件的数量为至少一个，至少一个所述真空连接件间隔设置于所述吸附底板外周。

9.根据权利要求7所述的真空吸附平台，其特征在于，所述真空吸附平台还包括吸附垫板，所述吸附垫板的一侧与所述吸附底板连接，所述吸附垫板的另一侧与所述微调单元连接。

10.一种激光加工设备，其特征在于，所述激光加工设备包括权利要求1-9任一项所述的真空吸附平台。

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