CN215390057U - 一种淋浴装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种淋浴装置，包括花洒和底座，所述底座上设置有凸台，所述花洒背部上设置有与凸台相配合的凹槽，所述底座上还设置有弹性扣，所述花洒上设置有能与弹性扣相配合卡接的卡槽，所述底座上还设置有另一用于挂接花洒的插座，本实用新型通过上述结构的设计，具体利用了卡槽和凹槽的配合关系，在一定方向上形成锁位，防止避免了小孩拉扯出水软管时，花洒容易脱落砸伤小孩的意外事故，同时，底座上设置的插座，满足了需要高处淋浴的用户需求，增强了多样性和灵活性。

Description

一种淋浴装置

技术领域

本实用新型涉及一种淋浴装置。

背景技术

目前市场上的磁性连接花洒，有的装配的时候需要对孔，有的在拉扯软管的时候，花洒容易脱离底座，易砸到小孩，同时也不能将花洒放在高处淋浴，各种不足之处，让用户体验感不佳。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种淋浴装置，具体通过花洒与底座的结构设计，使其在配合连接时，能形成一定方向上的锁位，防止小孩拉扯软管，花洒掉落砸伤的意外，同时，在底座的侧端增设高位插座，满足了喜欢在高处淋浴的人群。

本实用新型通过以下技术方案来实现：

一种淋浴装置，包括花洒和底座，所述底座上设置有凸台，所述花洒背部上设置有与凸台相配合的凹槽，所述底座上还设置有弹性扣，所述花洒上设置有能与弹性扣相配合卡接的卡槽，所述底座上还设置有另一用于挂接花洒的插座。

在本实用新型实施例中，所述花洒的背部上设置有第一磁吸面，所述底座上设置有与第一磁吸面相配合的第二磁吸面。

在本实用新型实施例中，所述凸台设置于第二磁吸面上，所述凹槽设置于第一磁吸面上。

在本实用新型实施例中，所述第一磁吸面上设置有突起部，所述突起部的中部设置有凹陷，所述凹陷形成卡槽。

在本实用新型实施例中，所述凹陷的上端面呈由里到外逐渐扩大的倾斜状。

在本实用新型实施例中，所述底座包括弹性扣支架，所述弹性扣支架上设置有滑槽，所述弹性扣与该滑槽配合，所述弹性扣支架与弹性扣之间还设置有弹簧。

在本实用新型实施例中，所述弹性扣上还设置有折弯部，所述折弯部与卡槽相配合卡接。

在本实用新型实施例中，所述弹性扣支架还配合连接有磁铁上盘，所述磁铁上盘内设置有第二磁性件。

在本实用新型实施例中，所述花洒的背部上设置有凹陷，所述凹陷配合连接有磁铁下盘，所述磁铁下盘上设置有第一磁性件，所述凹槽和卡槽均设置于磁铁下盘上。

在本实用新型实施例中，所述插座设置于底座的侧边端。

在本实用新型实施例中，所述底座还配合连接有球头。

本实用新型的一种淋浴装置，具有如下有益效果：

1、花洒上设置有凹槽和卡槽，底座上设置有凸台和弹性扣，二者之间的配合卡接在一定方向上形成锁位，使得小孩在拉扯软管时，花洒与底座之间还能稳稳固定，避免了花洒从底座上脱落意外砸伤小孩的事故。

2、花洒上设置有第一磁吸面，底座上设置有第二磁吸面，第一磁吸面与第二磁吸面的设置，使得花洒在于底座配合卡接时，无需对孔定位，其能自动处于配合位置处。

3、底座的侧边端高处还设置有插座，该插座的设置，满足了需要高处淋浴的人群，增强了灵活性。

4、设置有球头，改变了出水方向的多样性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。

图1是本实用新型的爆炸图。

图2是本实用新型的分解图。

图3是本实用新型花洒的示意图。

图4是本实用新型的示意图。

图5是本实用新型的剖视图。

图6是本实用新型的A处放大示意图。

图7是本实用新型的插接示意图。

图8是本实用新型扯拉软管花洒与底座也不脱离的结构示意图。

图9是本实用新型的B处放大示意图。

图10是本实用新型取下花洒的动作示意图1。

图11是本实用新型的C处放大示意图。

图12是本实用新型取下花洒的动作示意图2。

图13是本实用新型花洒与底座实现平行脱离的结构示意图。

图14是本实用新型花洒为高处淋浴的示意图。

图中：10-第一磁吸面；11-突起部；20-第二磁吸面；30-磁铁上盘；31-第二磁性件；40-磁铁下盘；41-第一磁性件；100-花洒；110-凹槽；120-卡槽；130-凹陷；200-底座；210-凸台；220-弹性扣；221-折弯部；230-弹性扣支架；231-滑槽；232-弹簧；300-插座；400-球头。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参考说明书附图，一种淋浴装置，包括花洒100和底座200，所述底座200上设置有凸台210，所述花洒100背部上设置有与凸台210相配合的凹槽110，所述底座200上还设置有弹性扣220，所述花洒100上设置有能与弹性扣220相配合卡接的卡槽120，所述底座200上还设置有另一用于挂接花洒的插座300，更为具体的，所述底座200还包括弹性扣支架230，所述弹性扣支架230上设置有滑槽231，所述弹性扣220与该滑槽231配合，所述弹性扣支架230与弹性扣220之间还设置有弹簧232，当花洒100与底座200配合卡接时，在弹簧232的作用下，弹性扣220收缩，使其方便插入，当花洒100完全与底座200配合时，弹簧232复位，使弹性扣220能置于卡槽120内形成卡接，本实用新型通过上述结构的设计，在凸台210与凹槽110和弹性扣220与卡槽120的配合作用下，在一定方向上形成锁位，使得小孩在拉扯软管时，花洒与底座之间还能稳稳固定，避免了花洒从底座上脱落意外砸伤小孩的事故。同时，底座的侧边端高处的插座300设置，满足了需要高处淋浴的人群，增强了灵活性。

进一步的，所述花洒100的背部上设置有第一磁吸面10，所述底座200上设置有与第一磁吸面10相配合的第二磁吸面20，参考说明书附图7所示，当第一磁吸面10与第二磁吸面20接近到一定范围内，在吸力的作用下，有自动校正的作用，使得花洒在于底座配合卡接时，无需对孔定位，使其能自动处于配合位置处。

进一步的，在本实用新型具体实施例中，所述凸台210设置于第二磁吸面20上，所述凹槽110设置于第一磁吸面10上。

进一步的，所述第一磁吸面10上设置有突起部11，所述突起部11的中部设置有凹陷12，所述凹陷12形成卡槽120。

进一步的，所述弹性扣220上还设置有折弯部221，所述折弯部221与卡槽120相配合卡接。

进一步的，所述弹性扣支架230还配合连接有磁铁上盘30，所述磁铁上盘30内设置有第二磁性件31。

进一步的，所述花洒100的背部上设置有凹陷130，所述凹陷130配合连接有磁铁下盘40，所述磁铁下盘40上设置有第一磁性件41，所述凹槽110和卡槽120均设置于磁铁下盘40上。

进一步的，所述插座300设置于底座200的侧边端，其目的在于增添个新的挂接方式，从而满足需要高处淋浴体验的人群，增强了多样性和灵活性，参考说明书附图12所示。

进一步的，所述底座200还配合连接有球头400，所述球头400的设置实现了出水方向的可调作用。

在使用过程中，将花洒100靠近底座200，由于第一磁性件41和第二磁性件31的吸附作用，花洒100与底座200的配合位置能自动校正，因此花洒100可随意放置，无需对孔。在花洒100与底座200完全配合卡接状态下，弹性扣220的折弯部221置于卡槽120内，底座200上的凸台210置于凹槽110内，凸台210与凹槽110和弹性扣220与卡槽120的配合作用下，在一定方向上形成锁位，使得小孩在拉扯软管时，花洒与底座之间还能稳稳固定，避免了花洒从底座上脱落意外砸伤小孩的事故，具体参考说明书附图8和说明书附图9所示。当要取下花洒100时，只需手握住花洒的手柄，向后下方摆动，或平行于磁吸面，即可取下花洒，参考说明书附图10和11、12、13所示，其原理在于凹陷130的上端面呈由里到外逐渐扩大的倾斜状，花洒100在拔出时，该折弯部221能顺着凹陷130上端面的倾斜滑出，在弹簧232的作用下，弹性扣220回收，从而实现花洒100也能平行于磁吸面进行拔出。当然，用户在调整出水方向时，也仅需握住花洒手柄向下施加一点力，摆动即可调整球头400与底座200的位置关系。同时，需要高处淋浴的人群，仅需将花洒100从底座200分离，单独插入底座200上的插座300即可实现高处淋浴，参考说明书附图14所示。

上述说明示出并描述了本实用新型的优选实施例，如前所述，应当理解本实用新型并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述实用新型构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围，则都应在本实用新型所附权利要求的保护范围内。

Claims (11)

1.一种淋浴装置，包括花洒和底座，其特征在于：所述底座上设置有凸台，所述花洒背部上设置有与凸台相配合的凹槽，所述底座上还设置有弹性扣，所述花洒上设置有能与弹性扣相配合卡接的卡槽，所述底座上还设置有另一用于挂接花洒的插座。

2.根据权利要求1所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述花洒的背部上设置有第一磁吸面，所述底座上设置有与第一磁吸面相配合的第二磁吸面。

3.根据权利要求2所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述凸台设置于第二磁吸面上，所述凹槽设置于第一磁吸面上。

4.根据权利要求3所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述第一磁吸面上设置有突起部，所述突起部的中部设置有凹陷，所述凹陷形成卡槽。

5.根据权利要求4所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述凹陷的上端面呈由里到外逐渐扩大的倾斜状。

6.根据权利要求1所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述底座包括弹性扣支架，所述弹性扣支架上设置有滑槽，所述弹性扣与该滑槽配合，所述弹性扣支架与弹性扣之间还设置有弹簧。

7.根据权利要求6所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述弹性扣上还设置有折弯部，所述折弯部与卡槽相配合卡接。

8.根据权利要求6所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述弹性扣支架还配合连接有磁铁上盘，所述磁铁上盘内设置有第二磁性件。

9.根据权利要求1所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述花洒的背部上设置有凹陷，所述凹陷配合连接有磁铁下盘，所述磁铁下盘上设置有第一磁性件，所述凹槽和卡槽均设置于磁铁下盘上。

10.根据权利要求1所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述插座设置于底座的侧边端。

11.根据权利要求1-10任一所述的一种淋浴装置，其特征在于：所述底座还配合连接有球头。

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