CN215289311U - 一种气流染色机的染液过滤结构 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种气流染色机的染液过滤结构，涉及气流染色机的技术领域，包括染色机本体，地面上设置有过滤装置，过滤装置包括；过滤箱，过滤箱放置在地面上且设置有与染色机本体连接的出液管；回流泵，回流泵设置在过滤箱上且与过滤箱连通；回流管，回流管设置在回流泵上且与染色机本体连接；去除机构，去除机构设置在过滤箱上且与用于对染液进行去除。本申请通过染液流动到过滤箱内，然后染液通过去除机构进行去除杂质，接着回流泵启动，染液通过回流管回流到染色机本体内，以此来减少了染液中的杂质，提高了气流染色机对布料的染色质量。

Description

一种气流染色机的染液过滤结构

技术领域

本申请涉及气流染色机的技术领域，尤其是涉及一种气流染色机的染液过滤结构。

背景技术

气流染色机是采用空气动力学原理，将风机产生的混合空气注入染机喷嘴，带动织物运行。在染色过程中，风机产生的气流进入喷嘴与主泵输送的染液在喷嘴壳内相遇，致使染液雾化后喷向经过喷嘴的织物，带动织物运行。

相关技术中，可参考授权公告号为CN211814950U的中国实用新型专利，其公开了一种气流染色机，包括气流染色机本体，所述气流染色机本体上安装有机盖，所述机盖上开设有出布口，所述气流染色机本体的底端设置有一收集槽，所述收集槽上安装有一Z形板，所述Z形板的一端端面上开设有多个用于挤压的圆形孔，所述收集槽的宽度大于所述Z形板的宽度，所述收集槽的两端呈打开设置且所述收集槽的两端均安装有过滤斗，所述过滤斗的下方均安装有用于回收染液的收集桶。该实用新型能够在出布的过程中对染液进行回收和收集，避免染液直接落到气流染色机外壁和地面上造成污染，避免了工作人员在出布后需要对气流染色机外壁和地面进行清理，减少了工作人员的工作量。

针对上述中的相关技术，发明人认为存在有以下缺陷：布料上都会黏附有毛絮等杂质，布料在染色机本体内进行染色过程中，这些杂质容易进入染液中，染液中的杂质会越来越多，从而降低了染液的质量，同时杂质还会在染液对布料进行染色时产生不利影响，因此降低了气流染色机对布料的染色质量。

实用新型内容

为了提高气流染色机对布料的染色质量，本申请提供了一种气流染色机的染液过滤结构。

本申请提供的一种气流染色机的染液过滤结构，采用如下的技术方案：

一种气流染色机的染液过滤结构，包括染色机本体，位于所述染色机本体一侧地面上设置有过滤装置，所述过滤装置包括；

过滤箱，所述过滤箱放置在地面上且设置有与染色机本体连接的出液管；

回流泵，所述回流泵设置在过滤箱上且与过滤箱连通；

回流管，所述回流管设置在回流泵上且与染色机本体连接；

去除机构，所述去除机构设置在过滤箱上且与用于对染液进行去除。

通过采用上述技术方案，染色机本体内的染液通过出液管流动到过滤箱内，然后染液通过去除机构进行去除杂质，接着回流泵启动，染液通过回流管回流到染色机本体内，以此来减少了染液中的杂质，提高了染液的质量，提高了气流染色机对布料的染色质量。

可选的，所述去除机构包括；

沉淀板，所述沉淀板设置在过滤箱上且接出液管流出的染液并对染液中的杂质进行沉淀；

过滤板，所述过滤板设置在过滤箱上且接住沉淀板上的染液并对染液进行过滤。

通过采用上述技术方案，染液流至沉淀板上进行沉淀，部分杂质沉淀在沉淀板上，然后染液继续流至过滤板上进行过滤，以此来对染液中杂质进行去除，从而减少了染液中杂质的数量，提高了气流染色机对布料的染色质量。

可选的，所述过滤箱上设置有对沉淀板和过滤板进行清理的清理装置，所述清理装置包括；

第一清理板和第二清理板，所述第一清理板和第二清理板均滑移设置在过滤箱上且分别与沉淀板和过滤板的上表面抵触；

驱动机构，所述驱动机构设置在过滤箱上且用于驱动第一清理板和第二清理板移动；

收集机构，所述收集机构设置在过滤箱上且用于收集沉淀板和过滤板上的杂质。

沉淀板和过滤板上的杂质堆积过多后，沉淀板和过滤板对杂质的去除效果会逐渐降低；

通过采用上述技术方案，驱动机构启动带动第一清理板和第二清理板移动，第一清理板移动推动沉淀板上的杂质移动，而第二清理板推动过滤板上的杂质移动，因此沉淀板和过滤板杂质在推动下掉落到收集机构内进行收集，从而减少了沉淀板和过滤板上的杂质数量，提高了沉淀板和过滤板对染液中杂质的去除效果。

可选的，所述驱动机构包括；

驱动气缸，所述驱动气缸设置在过滤箱上；

连接板，所述连接板设置在驱动气缸活塞杆上且与第一清理板和第二清理板连接。

通过采用上述技术方案，驱动气缸启动带动第一清理板和第二清理板同时移动，以此来实现驱动气缸启动带动第一清理板和第二清理板同时移动。

可选的，所述收集机构包括；

收集箱，所述收集箱设置在过滤箱上且开设有滑移孔；

收集盒，所述收集盒滑移设置在滑移孔上且用于收集杂质；

收集板，所述收集板设置在收集盒上且抵触在收集箱上，

定位组件，所述定位组件设置在收集箱上且用于对收集板进行定位。

通过采用上述技术方案，杂质在第一清理板和第二清理板作用下掉落到收集盒中进行收集，以此来实现杂质的收集，收集盒需要清理时，解锁定位组件，拉动收集板取下收集盒进行清理，清理完成后，将收集盒滑移安装到滑移孔上，使得收集板与收集箱抵触，锁定定位组件对收集盒进行定位，

可选的，所述定位组件包括；

定位块，所述定位块设置在过滤箱上；

定位杆，所述定位杆转动设置在收集板上且与定位块卡接配合。

通过采用上述技术方案，转动定位杆从定位块上脱离，然后即能拉动定位杆带动收集盒移动，以此来取下收集盒进行清理；安装收集盒时，使得收集板抵触到收集箱上，转动定位杆卡接安装到定位块上，以此来对收集板和收集盒进行定位。

可选的，所述沉淀板上均布开设有多个用于沉淀杂质的沉淀槽，所述收集盒上均布开设有多个供染液通过的过水孔。

通过采用上述技术方案，沉淀槽减慢了染液在沉淀板上的流速，提高了染液在沉淀板上的沉淀效果，进一步提高了沉淀板对染液中杂质的去除效果；而过水孔以便于收集盒中的染液流出，降低了染液的浪费。

可选的，所述过滤箱内侧壁上设置有保温层。

通过采用上述技术方案，染液的温度较高，因此保温层对染液进行保温，降低了为了保持染液的温度而对染液进行加热的概率，降低了能源的浪费。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.通过染液流动到过滤箱内，然后染液通过去除机构进行去除杂质，接着回流泵启动，染液通过回流管回流到染色机本体内，以此来减少了染液中的杂质，提高了气流染色机对布料的染色质量；

2.通过驱动机构启动带动第一清理板和第二清理板移动推动杂质掉落到收集机构内进行收集，从而减少了沉淀板和过滤板上的杂质数量，提高了沉淀板和过滤板对染液中杂质的去除效果。

附图说明

图1是本申请的立体结构示意图；

图2是本申请中结构示意图，省略了过滤箱和染色机本体；

图3是本申请中收集机构的爆炸图。

附图标记：1、染色机本体；2、过滤装置；21、过滤箱；22、回流泵；23、回流管；24、出液管；3、去除机构；31、沉淀板；32、过滤板；33、沉淀槽；4、清理装置；41、第一清理板；411、第一滑移杆；412、第二滑移杆；42、第二清理板；43、驱动机构；44、驱动气缸；45、连接板；5、收集机构；51、收集箱；511、滑移孔；52、收集盒；53、收集板；54、定位组件；55、定位块；56、定位杆；57、卡接槽。

具体实施方式

以下结合附图对1-3对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种气流染色机的染液过滤结构。

参照图1，气流染色机的染液过滤结构包括染色机本体1，位于染色机本体1一侧的地面上设置有过滤装置2。

参照图1、图2，过滤装置2包括过滤箱21、回流泵22、回流管23和去除机构3，过滤箱21放置在地面上，且过滤箱21内侧壁上固定安装有保温层，且过滤箱21上表面上固定安装有与染色机本体1固定连接的出液管24，且出液管24与过滤箱21内连通。

参照图1、图2，回流泵22固定安装在过滤箱21外侧壁上，且回流泵22与过滤箱21内连通，回流管23固定安装在回流泵22上且与染色机本体1固定连接，同时回流管23和出液管24均与染色机本体1内连通，且回流管23与染色机本体1连接处位于出液管24与染色机本体1连接处上方。

参照图1、图2，去除机构3设置在过滤箱21上且用于对染液中杂质进行去除，去除机构3包括沉淀板31和过滤板32；沉淀板31长度方向的一端固定安装在过滤箱21内侧壁上且呈水平状态，沉淀板31和过滤箱21长度方向平行，而沉淀板31另一端与过滤箱21内侧壁之间形成染液通过的流道，沉淀板31上表面上沿沉淀板31长度方向间隔开设有多个沉淀槽33，沉淀槽33贯通沉淀板31相背的两侧壁，且沉淀板31接住出液管24流出的染液，染液流动到沉淀板31远离流道的一端上。

参照图1、图2，过滤板32固定安装在过滤箱21内侧壁上，且过滤板32位于沉淀板31下方并位于回流泵22上方，过滤板32上均布开设有供染液通过的过滤孔；染色机本体1内染液通过出液管24流至沉淀板31上，染液中杂质在沉淀板31上沉淀，而染液继续通过流道流至过滤板32上，过滤板32继续对染液进行过滤，然后回流泵22启动，染液通过回流管23回流到染色机本体1内。

参照图1、图2，过滤箱21上设置有对沉淀板31和过滤板32进行清理的清理装置4，清理装置4包括第一清理板41、第二清理板42和驱动机构43，过滤箱21与沉淀板31长度方向平行的侧壁上水平滑移穿设有第一滑移杆411和第二滑移杆412，而第一滑移杆411位于沉淀板31上方，而第二滑移杆412位于过滤板32和沉淀板31之间，同时第一滑移杆411和第二滑移杆412滑移方向与沉淀板31长度方向垂直且两端分别位于过滤箱21内外两侧。

参照图1、图2，第一清理板41和第二清理板42分别固定安装在第一滑移杆411和第二滑移杆412的一端上，且第一清理板41和第二清理板42均位于过滤箱21内，而第一清理板41下表面与沉淀板31上表面和沉淀槽33贴合，而第二清理板42与过滤板32上表面贴合。

参照图1、图2，驱动机构43设置在过滤箱21上且用于驱动第一清理板41和第二清理板42移动，驱动机构43包括驱动气缸44和连接板45；驱动气缸44固定安装在过滤箱21外侧壁上，且驱动气缸44活塞杆与第一滑移杆411滑移方向平行；连接板45固定安装在第一滑移杆411和第二滑移杆412位于过滤箱21外的一端上，且连接板45与驱动气缸44活塞杆固定连接。

参照图1、图2，清理装置4还包括收集机构5，收集机构5设置在过滤箱21上且用于收集沉淀板31和过滤板32上的杂质。

参照图1、图3，收集机构5包括收集箱51、收集盒52、收集板53和定位组件54。

参照图1、图2，收集箱51固定安装在过滤箱21背离第一滑移杆411一侧的侧壁上，且收集箱51与过滤箱21内部连通，沉淀板31和过滤板32沿第一滑移杆411滑移方向的投影位于收集箱51内。

参照图2、图3，收集箱51侧壁上且位于过滤板32下方开设有滑移孔511，收集盒52水平滑移安装在滑移孔511上，且过滤板32和收集盒52竖直方向投影有交集，沉淀板31和过滤板32上的杂质掉落到收集盒52中进行收集，同时收集盒52下表面上均布开设有多个供染液通过的过水孔，回流泵22与位于收集盒52下方。

参照图2、图3，收集板53固定安装在收集盒52侧壁上且抵触在收集箱51外侧壁上，定位组件54设置在收集箱51上且用于对收集板53进行定位，定位组件54包括定位块55和定位杆56，定位块55设置有两个且位于收集板53水平方向上的两侧，定位块55上表面上开设有卡接槽57，定位杆56设置有两个且与两个定位块55一一对应设置，定位杆56一端转动安装在收集板53背离收集盒52一侧的侧壁上，且定位杆56与卡接槽57卡接配合。

本申请实施例的工作原理为：

染色机本体1内的染液通过出液管24流至沉淀板31上，染液在沉淀板31上进行沉淀，然后染液流至过滤板32上进行过滤，最后染液流至过滤箱21底部，回流泵22启动，染液通过回流管23回流到染色机本体1内，以此来减少了染液中杂质的数量，提高了染液的质量，同时也降低了杂质在染液对布料进行染色时产生的不利影响，从而提高了气流染色机对布料的染色质量。

驱动气缸44启动带动第一滑移杆411和第二滑移杆412移动，第一滑移杆411和第二滑移杆412移动带动第一清理板41和第二清理板42移动，因此推动位于沉淀板31和过滤板32上的杂质掉落到收集盒52中进行收集，而收集盒52中染液通过过水孔流至过滤箱21底部，以此来提高了沉淀板31和过滤板32对染液中杂质的去除效果，提高了气流染色机对布料的染色质量。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种气流染色机的染液过滤结构，包括染色机本体（1），其特征在于：位于所述染色机本体（1）一侧地面上设置有过滤装置（2），所述过滤装置（2）包括；

过滤箱（21），所述过滤箱（21）放置在地面上且设置有与染色机本体（1）连接的出液管（24）；

回流泵（22），所述回流泵（22）设置在过滤箱（21）上且与过滤箱（21）连通；

回流管（23），所述回流管（23）设置在回流泵（22）上且与染色机本体（1）连接；

去除机构（3），所述去除机构（3）设置在过滤箱（21）上且与用于对染液进行去除。

2.根据权利要求1所述的一种气流染色机的染液过滤结构，其特征在于：所述去除机构（3）包括；

沉淀板（31），所述沉淀板（31）设置在过滤箱（21）上且接出液管（24）流出的染液并对染液中的杂质进行沉淀；

过滤板（32），所述过滤板（32）设置在过滤箱（21）上且接住沉淀板（31）上的染液并对染液进行过滤。

3.根据权利要求2所述的一种气流染色机的染液过滤结构，其特征在于：所述过滤箱（21）上设置有对沉淀板（31）和过滤板（32）进行清理的清理装置（4），所述清理装置（4）包括；

第一清理板（41）和第二清理板（42），所述第一清理板（41）和第二清理板（42）均滑移设置在过滤箱（21）上且分别与沉淀板（31）和过滤板（32）的上表面抵触；

驱动机构（43），所述驱动机构（43）设置在过滤箱（21）上且用于驱动第一清理板（41）和第二清理板（42）移动；

收集机构（5），所述收集机构（5）设置在过滤箱（21）上且用于收集沉淀板（31）和过滤板（32）上的杂质。

4.根据权利要求3所述的一种气流染色机的染液过滤结构，其特征在于：所述驱动机构（43）包括；

驱动气缸（44），所述驱动气缸（44）设置在过滤箱（21）上；

连接板（45），所述连接板（45）设置在驱动气缸（44）活塞杆上且与第一清理板（41）和第二清理板（42）连接。

5.根据权利要求3所述的一种气流染色机的染液过滤结构，其特征在于：所述收集机构（5）包括；

收集箱（51），所述收集箱（51）设置在过滤箱（21）上且开设有滑移孔（511）；

收集盒（52），所述收集盒（52）滑移设置在滑移孔（511）上且用于收集杂质；

收集板（53），所述收集板（53）设置在收集盒（52）上且抵触在收集箱（51）上，

定位组件（54），所述定位组件（54）设置在收集箱（51）上且用于对收集板（53）进行定位。

6.根据权利要求5所述的一种气流染色机的染液过滤结构，其特征在于：所述定位组件（54）包括；

定位块（55），所述定位块（55）设置在过滤箱（21）上；

定位杆（56），所述定位杆（56）转动设置在收集板（53）上且与定位块（55）卡接配合。

7.根据权利要求5所述的一种气流染色机的染液过滤结构，其特征在于：所述沉淀板（31）上均布开设有多个用于沉淀杂质的沉淀槽（33），所述收集盒（52）上均布开设有多个供染液通过的过水孔。

8.根据权利要求1所述的一种气流染色机的染液过滤结构，其特征在于：所述过滤箱（21）内侧壁上设置有保温层。

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