CN215281460U - 一种抛光垫 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及抛光配件领域，尤指一种抛光垫，本实用新型包含由上层垫、下层垫以及粘合部组合而成，其中，该上层垫为ASKER C 75‑85的磨料，在抛光打磨过程中，利用磨料上75‑85的硬度特性，可以在抑制划痕的产生的同时提高加工面的平坦度和研磨速度，结构简易，生产效率快。
Description
技术领域
本实用新型涉及抛光配件领域，尤指一种抛光垫。
背景技术
抛光垫又称抛光皮，抛光布，抛光片，化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。
目前用于磨光、研磨或抛光的磨料可以是游离磨料，例如浆料的形式，也可以是固结磨料，例如涂覆的磨料或粘结的磨料制品。综合考虑去除速率和加工品质，由单相磨料加工而成的复合磨料(也称为聚集体磨料)越来越受欢迎，广泛用于金属加工制造、光学玻璃加工等领域。
但是，现有的抛光垫无法适用于碳化硅，由于碳化硅的硬度以及热熔点非常高，因此，利用浆料也难以高效的抛光碳化硅。
发明内容
为解决上述问题，本实用新型提供一种抛光垫，其目的在于解决现有技术中传统抛光垫无法对碳化硅进行高效抛光。
为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种抛光垫，其特征在于，包含：
上层垫，该上层垫具有与晶体相抵的前部以及支撑于所述前部的下部，该前部的外表面为网格状与所述下部相连形成沟槽；
下层垫，固定于上层垫的下方；
粘合部，设于上层垫与下层垫之间；
其中，该上层垫为ASKER C 75-85的磨料。
沟槽的底部边沿具有夹角。
所述夹角为45°。
基于粘合部与下层垫之间设有缓冲层。
所述缓冲层为海绵。
还包含有带安装孔的弹性基座，所述下层垫插设于安装孔内。
所述安装孔的周沿大于下层垫的外周沿。
本实用新型的有益效果在于：
本实用新型包含由上层垫、下层垫以及粘合部组合而成，其中，该上层垫为ASKERC 75-85的磨料，在抛光打磨过程中，利用磨料上75-85的硬度特性，可以在抑制划痕的产生的同时提高加工面的平坦度和研磨速度，结构简易，生产效率快。
附图说明
图1 是本实用新型的剖视图。
附图标号说明：1-上层垫；2-下层垫；3-粘合部；4-缓冲层；5-弹性基座。
具体实施方式
请参阅图1所示，本实用新型关于一种抛光垫，其特征在于，包含：
上层垫1，该上层垫1具有与晶体相抵的前部以及支撑于所述前部的下部，该前部的外表面为网格状与所述下部相连形成沟槽；
下层垫2，固定于上层垫1的下方；
粘合部3，设于上层垫1与下层垫2之间；
其中，该上层垫1为ASKER C 75-85的磨料。
本实用新型的使用原理为：
本实用新型包含由上层垫1、下层垫2以及粘合部3组合而成，其中，该上层垫1为ASKER C 75-85的磨料，在抛光打磨过程中，利用磨料上75-85的硬度特性，可以在抑制划痕的产生的同时提高加工面的平坦度和研磨速度，结构简易，生产效率快。
需要说明的是，该磨料为人造皮革和浸渍在聚合物弹性体上而成，而该人造皮革为合成纤维例如尼龙纤维制成的无纺布，尼龙纤维浸渍有诸如聚氨酯的合成树脂，而粘合层为常规的粘合剂。
沟槽的底部边沿具有夹角，可以减少抛光过程中碳化硅上的张力。
所述夹角为45°。
基于粘合部3与下层垫2之间设有缓冲层4；其目的在于增加提高抛光垫的使用寿命，可以理解为，抛光过程中所产生的振动由缓冲层4吸收。
所述缓冲层4为海绵；海绵具有价格低，使用寿命长的特点。
还包含有带安装孔的弹性基座5，所述下层垫2插设于安装孔内，该弹性基座5用于固定下层垫2，而弹性基座5是固定于抛光装置的输出端。
所述安装孔的周沿大于下层垫2的外周沿，具体为，弹性基座5具有一定的弹性力，通过安装孔的周沿大于下层垫2的外周沿，可以使下层垫2与弹性基座5紧凑相连。
以上实施方式仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域普通工程技术人员对本实用新型的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本实用新型的权利要求书确定的保护范围内。
Claims (7)
1.一种抛光垫，其特征在于，包含：
上层垫，该上层垫具有与晶体相抵的前部以及支撑于所述前部的下部，该前部的外表面为网格状与所述下部相连形成沟槽；
下层垫，固定于上层垫的下方；
粘合部，设于上层垫与下层垫之间；
其中，该上层垫为ASKER C 75-85的磨料。
2.根据权利要求1所述的一种抛光垫，其特征在于，沟槽的底部边沿具有夹角。
3.根据权利要求2所述的一种抛光垫，其特征在于：所述夹角为45°。
4.根据权利要求1所述的一种抛光垫，其特征在于：基于粘合部与下层垫之间设有缓冲层。
5.根据权利要求4所述的一种抛光垫，其特征在于：所述缓冲层为海绵。
6.根据权利要求1所述的一种抛光垫，其特征在于：还包含有带安装孔的弹性基座，所述下层垫插设于安装孔内。
7.根据权利要求6所述的一种抛光垫，其特征在于：所述安装孔的周沿大于下层垫的外周沿。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202121413772.XU CN215281460U (zh) | 2021-06-24 | 2021-06-24 | 一种抛光垫 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN202121413772.XU CN215281460U (zh) | 2021-06-24 | 2021-06-24 | 一种抛光垫 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=79518258
Family Applications (1)
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| CN202121413772.XU Active CN215281460U (zh) | 2021-06-24 | 2021-06-24 | 一种抛光垫 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN215281460U (zh) |
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2021
- 2021-06-24 CN CN202121413772.XU patent/CN215281460U/zh active Active
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