CN215179020U - 一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置 - Google Patents

Abstract

一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，涉及实验装置技术领域，包括研磨钵、研磨棒、及防爆罩，所述的防爆罩的罩体为倒置的锥形结构，在倒置的锥形结构顶部设有滑孔，所述的研磨棒伸入滑孔内，并与滑孔间隙配合，所述的研磨钵的上表面设有球面型凹槽，所述的罩体与球面型凹槽同轴，且罩体的下缘外径小于球面型凹槽槽口的内径，并与球面型凹槽的内表面上部相抵。本新型提供了一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，可有效防止稳定同位素样品研磨过程中爆溅，避免了稳定同位素样品的损失，保证了实验数据的准确性。

Description

一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置

技术领域

本新型涉及实验装置技术领域，具体涉及一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置。

背景技术

目前稳定同位素样品研磨处理必不可少的实验用品为天然玛瑙研钵，在一些烘干或冻干的致密样品的压碎、研磨过程种，存在样品飞溅问题，样品的过度爆溅最终会导致同位素样品量收集不足，鉴于同位素样品的不可重复性，将严重影响实验数据质量。

实用新型内容

为解决现有技术中存在的问题，本新型提供了一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置。

为实现上述目的，本新型的技术方案是：

一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，包括研磨钵、研磨棒、及防爆罩，所述的防爆罩的罩体为倒置的锥形结构，在倒置的锥形结构顶部设有滑孔，所述的研磨棒伸入滑孔内，并与滑孔间隙配合，所述的研磨钵的上表面设有球面型凹槽，所述的罩体与球面型凹槽同轴，且罩体的下缘外径小于球面型凹槽槽口的内径，并与球面型凹槽的内表面上部相抵。

优选的，所述的球面型凹槽的球心点位于球面型凹槽的槽口上方，所述的罩体的外表面设有把手，握住把手并向下按压罩体，罩体的下缘与球面型凹槽的内表面之间构成密封结构。

优选的，所述的罩体由透明材料制成。

优选的，所述的把手的内侧还设有敲打机构，并通过敲打机构敲打罩体，使吸附在罩体内表面的稳定同位素样品的粉尘颗粒脱落至球面型凹槽内。

优选的，所述的敲打机构包括弹簧、弧形连杆、撞锤，所述的撞锤固定连接于弧形连杆的底端，所述的弹簧的上端与把手的内侧表面的上部固定连接，下端与弧形连杆的顶端固定连接。

优选的，所述的研磨棒包括从上到下一体成型的手柄和工作部，所述的工作部底端为球面结构。

优选的，所述的工作部的外表面与滑孔间隙配合，且工作部可沿着滑孔上下移动或绕滑孔的轴线摇动。

本新型一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置具有如下有益效果：

1、本新型通过设置防爆罩，可有效防止稳定同位素样品研磨过程中爆溅，避免了稳定同位素样品的损失，保证了实验数据的准确性；

2、本新型的防爆罩为透明结构，可一边研磨，一边观察稳定同位素样品的研磨情况，使用简单方便；

3、本新型还设有敲打机构，在研磨过程中或者研磨后，都可通过手指拨动敲打机构，将吸附在罩体内表面的稳定同位素样品的粉末颗粒敲落回研磨钵内。

附图说明

图1：本新型的正视图；

图2：本新型的剖视图；

图3：本新型的俯视图；

图4：本新型研磨钵的俯视图；

1：研磨钵，1-1：球面型凹槽，2：研磨棒，2-1：手柄，2-2：工作部，3：防爆罩，3-1：滑孔，3-2：罩体，4：把手，5：弧形连杆，6：弹簧，7：撞锤。

具体实施方式

以下所述，是以阶梯递进的方式对本新型的实施方式详细说明，该说明仅为本新型的较佳实施例而已，并非用于限定本新型的保护范围，凡在本新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本新型的保护范围之内。

本新型的描述中，需要说明的是，术语“上”“下”“左”“右”“顶”“底”“内”“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了描述本新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以及特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本新型的限制。

如图1-4所示：

一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，包括研磨钵1、研磨棒2、及防爆罩3，所述的防爆罩3的罩体3-2为倒置的锥形结构，在倒置的锥形结构顶部设有滑孔3-1，所述的研磨棒伸入滑孔内，并与滑孔3-1间隙配合，所述的研磨钵1的上表面设有球面型凹槽1-1，所述的罩体3-2与球面型凹槽1-1同轴，且罩体3-2的下缘外径小于球面型凹槽1-1槽口的内径，并与球面型凹槽1-1的内表面上部相抵；

所述的球面型凹槽1-1的球心点位于球面型凹槽1-1的槽口上方，所述的罩体3-2的外表面设有把手4，握住把手4并向下按压罩体3-2，罩体3-2的下缘与球面型凹槽1-1的内表面之间构成密封结构；

所述的罩体3-2由透明材料制成；

所述的把手4的内侧还设有敲打机构，并通过敲打机构敲打罩体3-2，使吸附在罩体3-2内表面的稳定同位素样品的粉尘颗粒脱落至球面型凹槽1-1内；

所述的敲打机构包括弹簧6、弧形连杆5、撞锤7，所述的撞锤7固定连接于弧形连杆5的底端，所述的弹簧6的上端与把手4的内侧表面的上部固定连接，下端与弧形连杆5的顶端固定连接；

所述的研磨棒2包括从上到下一体成型的手柄2-1和工作部2-2，所述的工作部底端为球面结构；

所述的工作部2-2的外表面与滑孔3-1间隙配合，且工作部可沿着滑孔上下移动或绕滑孔的轴线摇动。

本新型的使用原理：

本新型在使用时，先将稳定同位素样品倒入研磨钵内，然后将防爆罩按照与球面形凹槽同轴的方向罩在球面形凹槽上，通过手握把手4，向下轻轻用力按压罩体，使罩体底端与球面形凹槽的内表面构成密封结构，并将待研磨的稳定同位素样品围在罩体内侧的球面形凹槽内，通过另一只手将研磨棒插入滑孔，手握手柄，上下移动或者摇动研磨棒研磨稳定同位素样品，在此过程中，由于罩体为透明材料，故通过观察可使研磨动作有针对性的实施，当罩体内表面吸附稳定同位素样品的粉尘颗粒时，可随时用手指扳动弧形连杆5，使撞锤撞击罩体外壁，促使粉尘颗粒脱落。

Claims (7)

1.一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，其特征为：包括研磨钵、研磨棒、及防爆罩，所述的防爆罩的罩体为倒置的锥形结构，在倒置的锥形结构顶部设有滑孔，所述的研磨棒伸入滑孔内，并与滑孔间隙配合，所述的研磨钵的上表面设有球面型凹槽，所述的罩体与球面型凹槽同轴，且罩体的下缘外径小于球面型凹槽槽口的内径，并与球面型凹槽的内表面上部相抵。

2.如权利要求1所述的一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，其特征为：所述的球面型凹槽的球心点位于球面型凹槽的槽口上方，所述的罩体的外表面设有把手，握住把手并向下按压罩体，罩体的下缘与球面型凹槽的内表面之间构成密封结构。

3.如权利要求2所述的一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，其特征为：所述的罩体由透明材料制成。

4.如权利要求3所述的一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，其特征为：所述的把手的内侧还设有敲打机构，并通过敲打机构敲打罩体，使吸附在罩体内表面的稳定同位素样品的粉尘颗粒脱落至球面型凹槽内。

5.如权利要求4所述的一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，其特征为：所述的敲打机构包括弹簧、弧形连杆、撞锤，所述的撞锤固定连接于弧形连杆的底端，所述的弹簧的上端与把手的内侧表面的上部固定连接，下端与弧形连杆的顶端固定连接。

6.如权利要求1-5任一所述的一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，其特征为：所述的研磨棒包括从上到下一体成型的手柄和工作部，所述的工作部底端为球面结构。

7.如权利要求6所述的一种用于稳定同位素样品研磨的防爆集约装置，其特征为：所述的工作部的外表面与滑孔间隙配合，且工作部可沿着滑孔上下移动或绕滑孔的轴线摇动。

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