CN215032060U - 一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置。解决了掩膜版的包装箱因人工清洗带来的清洗效率较低的问题,本实用新型包括底座、第一立柱、第二立柱和清洗组件;第一立柱与底座连接,第二立柱与底座通过第二直线模组连接,在第二直线模组的带动下,第二立柱能够靠近或远离第一立柱,第一立柱、第二立柱分别连接有用于夹持包装箱的第一夹爪、第二夹爪;清洗组件通过第三直线模组与底座连接,在第三直线模组的带动下,清洗组件能够相对于底座滑动,清洗组件位于第一立柱和第二立柱之间,清洗组件具有用于冲洗包装箱的清洗喷头。本实用新型具有实现包装箱的自动清洗、清洗效率高、适用于不同尺寸的包装箱等优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及高世代掩膜版制造技术领域,具体涉及一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置。
背景技术
平板显示是电子信息产业的支柱之一,近年来各种类型平板显示器件随着生产技术的不断提高已进入到加速发展时期,而我国也成为全球面板产业的最重要生产基地。掩膜版又称光罩、光掩膜版、掩膜版(英文名Photo Mask,简称Mask),它作为平板显示制造过程中最重要的核心关键材料,在平板显示器件制造的光刻工艺中起到曝光掩蔽作用,直接决定了平板显示终端产品的品质。从结构上来讲,平板显示用光掩膜版是由高纯石英玻璃基板以及基板上带有微细线路图形的镀膜膜层构成。光掩膜版的制造工艺通常包含镀膜、光刻、化学制程、缺陷检查修复和贴膜等过程。在镀了铬膜的石英玻璃基板上涂覆一层光阻(又称光刻胶,一种感光材料,在特定波长光的照射下其化学性质会发生改变),在特定波长的激光下,根据设计好的图形对光阻层进行激光描绘(曝光),使光阻感光而发生化学性质改变。通过显影制程,去除掉被曝光的光阻,未被曝光的光阻则被保留而起到保护铬膜的作用。再通过蚀刻制程,去除掉没有光阻保护的铬膜,再通过脱膜液去除残留下来的光阻,最终在基板上形成与设计图形效果一致的铬膜图形,整个图形构成透光和不透光的区域,从而能用于平板显示制造,起到曝光掩蔽的作用。
显示行业的迅速发展,G8.5及G11目前已成为大尺寸面板规格主流。随着行业技术不断提升,尺寸上朝着更大的方向提升,特征尺寸(CD值)朝着更小的方向发展,精度要求也越来约高,因此对制造的环境也越来越严苛。目前大多数的掩膜厂生产车间的无尘环境已经达到10级,甚至部分区域达到1级。但掩膜版生产的particle(灰尘、颗粒)控制不单单是从无尘车间等级一方面进行,更要从人员管控、操作行为、设备维护保养等方面进行。而掩膜版包装箱作为直接与掩膜版成品相接触,对其管控尤为重要。如果用于装掩膜版的包装箱内有大量的particle,必将导致掩膜版成品受到污染而不能正常使用。目前对于掩膜版的包装箱的清洗采用的是人工清洗的方法,为了保证无尘环境,并且防止包装箱被清洗后的二次污染,清洗工作需要非常细致,这也导致清洗过程繁杂且效率较低,故急需一种能够自动清洗包装箱的清洗装置。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是实现掩膜版的包装箱的自动清洗,目的在于提供一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,解决掩膜版的包装箱因人工清洗带来的清洗效率较低的问题。
本实用新型通过下述技术方案实现:
一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,包括底座、第一立柱、第二立柱和清洗组件;所述第一立柱与所述底座连接,所述第二立柱与所述底座通过第二直线模组连接,在第二直线模组的带动下,所述第二立柱能够靠近或远离所述第一立柱,所述第一立柱、第二立柱分别连接有用于夹持包装箱的第一夹爪、第二夹爪,工作状态下,所述包装箱被夹持于第一立柱和第二立柱之间;所述清洗组件通过第三直线模组与所述底座连接,在第三直线模组的带动下,所述清洗组件能够相对于底座滑动,清洗组件位于第一立柱和第二立柱之间,所述清洗组件具有用于冲洗所述包装箱的清洗喷头。
优选的,所述第一立柱通过第四直线模组与第一夹爪连接,第一夹爪在第四直线模组的带动下能够做靠近或远离底座的往复运动;所述第二立柱通过第五直线模组与夹爪连接,第二夹爪在第五直线模组的带动下能够做靠近或远离底座的往复运动。
进一步地,所述第四直线模组和所述第五直线模组配置同一驱动器。
进一步地,所述第四直线模组与第一夹爪通过第一旋转机构连接,所述第一夹爪在第一旋转机构的带动下自转;所述第五直线模组与第二夹爪通过第二旋转机构连接,所述第二夹爪在第二旋转机构的带动下自转。
可选的,所述第一旋转机构、第二旋转机构分别为旋转气缸。
可选的,所述第一旋转机构、第二旋转机构分别为电机。
优选的,所述第一立柱通过第一直线模组与底座连接,在第一直线模组的带动下,所述第一立柱能够靠近或远离所述第二立柱。
优选的,所述第一夹爪、第二夹爪上分别设置有与包装箱边沿适配的限位槽。
优选的,所述清洗组件设置有用于风干所述包装箱的风枪。
本实用新型与现有技术相比,具有如下的优点和有益效果:
1、本实用新型提供的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,实现了高世代掩膜版包装箱的自动清洗,保持了工厂的无尘环境,避免高世代掩膜版包装箱在清洗过程中被污染。
2、本实用新型提供的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,第二立柱通过第二直线模组与底座连接后,两个立柱的间距实现可调,从而可以同时实现G6及以上不同尺寸掩膜版包装箱的清洗。
3、本实用新型提供的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,清洗组件通过直线模组与底座连接后,可以实现掩膜版不同位置的清洗,清洗效果好。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型实施例的进一步理解,构成本申请的一部分,并不构成对本实用新型实施例的限定。在附图中:
图1为本实用新型提供的一种实施例的结构示意图;
图2为本实用新型提供的包装箱的结构示意图。
附图中标记及对应的零部件名称:
1-第一立柱,2-第二立柱,3-第一夹爪,4-第二夹爪,5-限位槽,6-清洗组件,7-清洗喷头,8-第一旋转机构,9-第二旋转机构,10-第一直线模组,11-第二直线模组,12-第三直线模组,13-底座,14-包装箱,15-第一边沿,16-第二边沿,17-凸起。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下面结合实施例和附图,对本实用新型作进一步的详细说明,本实用新型的示意性实施方式及其说明仅用于解释本实用新型,并不作为对本实用新型的限定。
在以下描述中,为了提供对本实用新型的透彻理解阐述了大量特定细节。然而,对于本领域普通技术人员显而易见的是:不必采用这些特定细节来实行本本实用新型。在其他实施例中,为了避免混淆本本实用新型,未具体描述公知的结构、电路、材料或方法。
在整个说明书中,对“一个实施例”、“实施例”、“一个示例”或“示例”的提及意味着:结合该实施例或示例描述的特定特征、结构或特性被包含在本本实用新型至少一个实施例中。因此,在整个说明书的各个地方出现的短语“一个实施例”、“实施例”、“一个示例”或“示例”不一定都指同一实施例或示例。此外,可以以任何适当的组合和、或子组合将特定的特征、结构或特性组合在一个或多个实施例或示例中。此外,本领域普通技术人员应当理解,在此提供的示图都是为了说明的目的,并且示图不一定是按比例绘制的。这里使用的术语“和/或”包括一个或多个相关列出的项目的任何和所有组合。
在本实用新型的描述中,术语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“高”、“低”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。
实施例
本实施例提供一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,如图1-图2所示,一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,包括底座13、第一立柱1、第二立柱2和清洗组件6;第一立柱1与底座13连接,第二立柱2与底座13通过第二直线模组11连接,在第二直线模组11的带动下,第二立柱2能够靠近或远离第一立柱1,第一立柱1、第二立柱2分别连接有用于夹持包装箱14的第一夹爪3、第二夹爪4,工作状态下,包装箱14被夹持于第一立柱1和第二立柱2之间;清洗组件6通过第三直线模组12与底座13连接,在第三直线模组12的带动下,清洗组件6能够相对于底座13滑动,清洗组件6位于第一立柱1和第二立柱2之间,清洗组件6具有用于冲洗包装箱14的清洗喷头7。
具体的,底座13呈长方体,第一立柱1和第二立柱2大体呈条状的长方体,第一立柱1和第二立柱2的长轴线垂直于底座13的板面并且间隔排布,由于第二立柱2需要靠近或远离第一立柱1,为了保证第二立柱2的移动效率,第二直线模组11的可滑动方向设置为平行于第一立柱1、第二立柱2的排布方向。当第二立柱2靠近第一立柱1时,第二夹爪4同时靠近第一夹爪3,可以理解的是,第一夹爪3和第二夹爪4由于需要夹持包装箱14,故两者设于同一高度是本领域技术人员可以毫无异议得出的。而对于清洗组件6的设置,第三直线模组12被设置于第一立柱1和第二立柱2之间,第三直线模组12的可滑动方向可以是任意的,其主要目的是为了使清洗组件6与包装箱14的不同位置对应以清洗包装箱14的不同位置,故只要第三直线模组12位于第一立柱1与第二立柱2之间即可,当然,在设置不同的第三模组的可滑动方向时,清洗组件6与第一立柱1、第二立柱2的干涉问题是本领域技术人员为了实现包装箱14不同部位的清洗的基础问题,换言之,前述的可滑动方向可以是任意的是在考虑干涉问题的前提下的各个角度,这是本领域技术人员可以直接得出的结论,此处不再赘述,在实际的实施过程中,发明人在考虑节约安装空间的前提下,将第三直线模组12的可滑动方向设置为垂直于第一立柱1、第二立柱2的排布方向。
本实施例中,对于清洗组件6而言,清洗喷头7可以是常用的水枪,如水管开口连接水龙头。在本实施例中,发明人为了实现结构的集成化和标准化,清洗组件6包括支撑杆和清洗喷头7,若干清洗喷头7连接于支撑杆上并呈线性间隔排布,支撑杆的长轴线平行于第一立柱1和第二立柱2的排布方向,清洗喷头7与专用的清洗液供给设备连接后即可实现清洗液的喷出,从而对包装箱14实现清洗。
工作时,包装箱14被第一夹爪3和第二夹爪4夹持稳固,驱动第三线性模组,同时接通清洗喷头7与清洗液供给设备,此时清洗组件6带动清洗喷头7往复运动,从而实现包装箱14不用部位的清洗。
在一些可能的实施例中,第一立柱1通过第四直线模组与第一夹爪3连接,第一夹爪3在第四直线模组的带动下能够做靠近或远离底座13的往复运动;第二立柱2通过第五直线模组与夹爪连接,第二夹爪4在第五直线模组的带动下能够做靠近或远离底座13的往复运动。第一夹爪3、第二夹爪4分别设置于第四直线模组、第五直线模组上后,第一夹爪3、第二夹爪4即可实现远离或靠近底座13的功能,对应的,包装箱14被夹持后,第一夹爪3、第二夹爪4则带动包装箱14远离或靠近清洗组件6,从而实现包装箱14能够受到不同冲洗强度的清洗,提高清洗效果。
在一种可能的实施例中,为了保证提升包装箱14时的平稳性,第四直线模组和第五直线模组配置同一驱动器,如此便可实现第一夹爪3、第二夹爪4同时上升或下降。
在一种可能的实施例中,为了实现包装箱14的360度清洗,第四直线模组与第一夹爪3通过第一旋转机构8连接,第一夹爪3在第一旋转机构8的带动下自转;第五直线模组与第二夹爪4通过第二旋转机构9连接,第二夹爪4在第二旋转机构9的带动下自转。本实施例中,第一旋转机构8和第二旋转机构9共同形成实现包装箱14旋转的小系统,在该小系统中,第一旋转机构8可以设置为主动件而第二旋转机构9设置为从动件,也可将第二旋转机构9设置为主动件而第一旋转机构8设置为从动件,当然,也可将第一旋转机构8和第二旋转机构9同时设置为主动件,同为主动件时,第一旋转机构8和第二旋转机构9的旋转应同步,同时旋转方向相反。
在本实施例中,当包装箱14的结构相对简单,其内部的角落、死角结构较少时,第一旋转机构8、第二旋转机构9分别为旋转气缸。可以理解的是,旋转气缸的旋转形成为180度,从而保证包装箱14的两面均能够被清洗、
在本实施例中,当包装箱14的结构相对复杂,死角结构较多时,第一旋转机构8、第二旋转机构9分别为电机。采用电机时,包装箱14的旋转即实现可控,当在某个角度需要着重清洗时,可以控制电机的转速,即使包装箱14旋转的较慢甚至暂停,从而增长该角度下包装箱14被清洗的时长。
在一种可能的实施例中,第一立柱1通过第一直线模组10与底座13连接,在第一直线模组10的带动下,第一立柱1能够靠近或远离第二立柱2。第一立柱1、第二立柱2同时向包装箱14靠近时,能够保证第一夹爪3、第二夹爪4同时与包装箱14接触,从而防止第二夹爪4与包装箱14先接触造成包装箱14移位。
在一种可能的实施例中,为了在包装箱14旋转时为其提供一定的限位,从而减小包装箱14滑脱的可能,第一夹爪3、第二夹爪4上分别设置有与包装箱14的边沿适配的限位槽5。具体的,限位槽5可以是在夹爪上铣出的沟槽,也可以是通过设置两个凸起17形成的凹槽,工作状态下,包装箱14的外边沿便位于限位槽5内,如图2所示,包装箱14具有第一边沿15和第二边沿16,第一夹爪3上设置有两排凸起17,两排凸起17之间预留与第一边沿15的厚度适配的空隙,该空隙即形成第一夹爪3的限位槽5,第二夹爪4上设置有与第一夹爪3相对应的凸起17,第二夹爪4与第二边沿16配合,需要说明的是,采用两排凸起17形成限位槽5的方式,使得在实际实施过程中,可以由两个可驱动的夹持端作为其中一对凸起17,例如手指气缸,此时该对凸起17便对包装箱14形成夹持作用,进一步保证包装箱14在翻转时的稳定性。
在一种可能的实施例中,为了快速分离清洗液与包装箱14,便于包装箱14的后续使用或处理,清洗组件6设置有用于风干包装箱14的风枪。
以上所述的具体实施方式,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已,并不用于限定本实用新型的保护范围,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,其特征在于,包括底座(13)、第一立柱(1)、第二立柱(2)和清洗组件(6);
所述第一立柱(1)与所述底座(13)连接,所述第二立柱(2)与所述底座(13)通过第二直线模组(11)连接,在第二直线模组(11)的带动下,所述第二立柱(2)能够靠近或远离所述第一立柱(1),所述第一立柱(1)、第二立柱(2)分别连接有用于夹持包装箱(14)的第一夹爪(3)、第二夹爪(4),工作状态下,所述包装箱(14)被夹持于第一立柱(1)和第二立柱(2)之间;
所述清洗组件(6)通过第三直线模组(12)与所述底座(13)连接,在第三直线模组(12)的带动下,所述清洗组件(6)能够相对于底座(13)滑动,清洗组件(6)位于第一立柱(1)和第二立柱(2)之间,所述清洗组件(6)具有用于冲洗所述包装箱(14)的清洗喷头(7)。
2.根据权利要求1所述的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,其特征在于,所述第一立柱(1)通过第四直线模组与第一夹爪(3)连接,第一夹爪(3)在第四直线模组的带动下能够做靠近或远离底座(13)的往复运动;
所述第二立柱(2)通过第五直线模组与夹爪连接,第二夹爪(4)在第五直线模组的带动下能够做靠近或远离底座(13)的往复运动。
3.根据权利要求2所述的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,其特征在于,所述第四直线模组和所述第五直线模组配置同一驱动器。
4.根据权利要求2所述的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,其特征在于,所述第四直线模组与第一夹爪(3)通过第一旋转机构(8)连接,所述第一夹爪(3)在第一旋转机构(8)的带动下自转;
所述第五直线模组与第二夹爪(4)通过第二旋转机构(9)连接,所述第二夹爪(4)在第二旋转机构(9)的带动下自转。
5.根据权利要求4所述的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,其特征在于,所述第一旋转机构(8)、第二旋转机构(9)分别为旋转气缸。
6.根据权利要求4所述的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,其特征在于,所述第一旋转机构(8)、第二旋转机构(9)分别为电机。
7.根据权利要求1所述的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,其特征在于,所述第一立柱(1)通过第一直线模组(10)与底座(13)连接,在第一直线模组(10)的带动下,所述第一立柱(1)能够靠近或远离所述第二立柱(2)。
8.根据权利要求1所述的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,其特征在于,所述第一夹爪(3)、第二夹爪(4)上分别设置有与包装箱(14)边沿适配的限位槽(5)。
9.根据权利要求1所述的一种适用于高世代掩膜版包装箱的清洗装置,其特征在于,所述清洗组件(6)设置有用于风干所述包装箱(14)的风枪。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=79221143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country | Link |
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CN (1) | CN215032060U (zh) |
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