CN214917622U - 一种具有清理功能光学胶涂布装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种具有清理功能光学胶涂布装置，包括储胶箱、涂胶口、支撑板和清洗器，所述储胶箱的下方连接有涂胶口，且涂胶口的内部设置有出胶口，所述储胶箱的上方前侧连接有第一转轴，且第一转轴的左右两侧连接有左支撑杆和右支撑杆，所述第一转轴前侧连接有支撑板，且支撑板的下方连接有肋板，所述肋板的后方连接有电机，且储胶箱的前侧设置有机槽，所述支撑板的上方连接有第二转轴，且第二转轴的上方连接有第二转杆，所述电机的上方连接有第三转轴，且第三转轴的上方连接有第一转杆。该具有清理功能光学胶涂布装置可将光学胶均匀涂布于材料上，并在涂布后清理残留的光学胶，解决了残留的光学胶影响二次涂布的问题。

Description

一种具有清理功能光学胶涂布装置

技术领域

本实用新型涉及光学胶技术领域，具体为一种具有清理功能光学胶涂布装置。

背景技术

光学胶涂布装置在将光学胶涂布于材料上时，必须要保证光学胶的涂布均匀，但是市面上的一些光学胶涂布装置在使用时存在一些不足，比如：

在光学胶涂布装置在涂布光学胶时，会在涂布口残留一些光学胶，在下一次使用时这些残留的光学胶会与新的光学胶一起涂布，造成涂布不均匀，影响涂布质量，产生残次品，因此，本实用新型提供一种具有清理功能光学胶涂布装置，以解决上述提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种具有清理功能光学胶涂布装置，以解决上述背景技术中提出的在光学胶涂布装置在涂布光学胶时，会在涂布口残留一些光学胶，在下一次使用时这些残留的光学胶会与新的光学胶一起涂布，造成涂布不均匀，影响涂布质量，产生残次品的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种具有清理功能光学胶涂布装置，包括储胶箱、涂胶口、支撑板和清洗器，所述储胶箱的下方连接有涂胶口，且涂胶口的内部设置有出胶口，所述储胶箱的上方前侧连接有第一转轴，且第一转轴的左右两侧分别连接有左支撑杆和右支撑杆，所述第一转轴前侧连接有支撑板，且支撑板的下方连接有肋板，所述肋板的后方连接有电机，且储胶箱的前侧设置有机槽,所述支撑板的上方连接有第二转轴，且第二转轴的上方连接有第二转杆，所述电机的上方连接有第三转轴，且第三转轴的上方连接有第一转杆，所述支撑板的前方连接有第一滑动杆，且左支撑杆与右支撑杆的中部连接有第二滑动杆，并且第一滑动杆与第二滑动杆的中部设置有清洗器。

优选的，所述储胶箱与涂胶口为焊接连接，且涂胶口的侧剖面呈三角形。

优选的，所述右支撑杆与第一转轴为垂直结构，且右支撑杆与第一转轴的连接方式为固定连接。

优选的，所述第一滑动杆与第二滑动杆平行连接于左支撑杆与右支撑杆之间，且清洗器可位于第一滑动杆与第二滑动杆之间滑动。

优选的，所述肋板与电机为固定连接，且电机与肋板可卡合于机槽内。

优选的，所述清洗器包括滑块、滑动槽、限位轴、清洗口和烘干口，滑块侧边开设有滑动槽，滑块上方连接有限位轴，滑块内部左方设置有清洗口，滑块内部右方设置有烘干口。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该具有清理功能光学胶涂布装置可将光学胶均匀地涂布于材料上，并在涂布后清理残留的光学胶，解决了残留的光学胶影响二次涂布的问题；

1、通过储胶箱与支撑板构成的转动结构，可将清洗器通过第一转轴转动至涂胶口的下方，方便清洁出胶口内涂布过后残留于涂胶口下方的光学胶，方便下一次涂布；

2、通过第二转轴、第三转轴、第一转杆和第二转杆构成的往复结构，可以带动清洗器做左右往复运动，以保证清洗器可以清洁到涂胶口下方的每一处残留的光学胶；

3、通过涂胶口下方平整的刀口，光学胶经过存储于储胶箱内部的空腔流经涂胶口中部的出胶口可以匀速流至出胶口下方，经涂胶口均匀涂布于所要涂布的材料上。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意图；

图2为本实用新型涂胶口与出胶口连接整体结构示意图；

图3为本实用新型第一转轴与支撑板连接结构示意图；

图4为本实用新型清洗器整体结构示意图。

图中：1、储胶箱；2、涂胶口；3、出胶口；4、第一转轴；5、左支撑杆；6、右支撑杆；7、第一滑动杆；8、第二滑动杆；9、机槽；10、支撑板；11、第二转轴；12、第三转轴；13、电机；14、肋板；15、第一转杆；16、第二转杆；17、清洗器；1701、滑块；1702、滑动槽；1703、限位轴；1704、清洗口；1705、烘干口。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种具有清理功能光学胶涂布装置，包括储胶箱1、涂胶口2、出胶口3、第一转轴4、左支撑杆5、右支撑杆6、第一滑动杆7、第二滑动杆8、机槽9、支撑板10、第二转轴11、第三转轴12、电机13、肋板14、第一转杆15、第二转杆16、清洗器17、滑块1701、滑动槽1702、限位轴1703、清洗口1704和烘干口1705，储胶箱1的下方连接有涂胶口2，且涂胶口2的内部设置有出胶口3，储胶箱1的上方前侧连接有第一转轴4，且第一转轴4的左右两侧分别连接有左支撑杆5和右支撑杆6，第一转轴4前侧连接有支撑板10，且支撑板10的下方连接有肋板14，肋板14的后方连接有电机13，且储胶箱1的前侧设置有机槽9,支撑板10的上方连接有第二转轴11，且第二转轴11的上方连接有第二转杆16，电机13的上方连接有第三转轴12，且第三转轴12的上方连接有第一转杆15，支撑板10的前方连接有第一滑动杆7，且左支撑杆5与右支撑杆6的中部连接有第二滑动杆8，并且第一滑动杆7与第二滑动杆8的中部设置有清洗器17。

如图2中所述储胶箱1与涂胶口2为焊接连接，且涂胶口2的侧剖面呈三角形，方便涂胶口2将光学胶涂布于相应材料上。

如图2中所述右支撑杆6与第一转轴4为垂直结构，且右支撑杆6与第一转轴4的连接方式为固定连接，为该装置提供稳定性。

如图1中所述第一滑动杆7与第二滑动杆8平行连接于左支撑杆5与右支撑杆6之间，且清洗器17可位于第一滑动杆7与第二滑动杆8之间滑动，以清洗不同位置的残留胶。

如图1中所述肋板14与电机13为固定连接，且电机13与肋板14可卡合于机槽9内，用于支撑电机13。

如图4中所述清洗器17包括滑块1701、滑动槽1702、限位轴1703、清洗口1704和烘干口1705，滑块1701侧边开设有滑动槽1702，滑块1701上方连接有限位轴1703，滑块1701内部左方设置有清洗口1704，滑块1701内部右方设置有烘干口1705，方便清洗残留的光学胶。

工作原理：在使用该具有清理功能光学胶涂布装置时，首先，将光学胶灌注于储胶箱1内，在涂布时，光学胶从涂胶口2内的出胶口3中流过，流至涂胶口2下方将光学胶均匀涂布于所要涂布的材料上，待涂布完成后，由于光学胶的物理性质，会有一些残留的光学胶黏于涂胶口2的下方，若想要进行下一次涂布，就需要清理涂胶口2下方残留的光学胶，这时转动第一转轴4，会带动储胶箱1前方的零件向下转动，第三转轴12与电机13卡合于机槽9内，启动电机13，电机13带动第三转轴12进行同轴转动，第三转轴12带动第一转杆15转动，第一转杆15上方卡合于第二转杆16内部，带动第二转杆16绕第二转轴11来回摆动，第二转杆16通过限位轴1703控制清洗器17在第一滑动杆7与第二滑动杆8之间做往复运动，清洗口1704喷出清洗液洗去涂胶口2下方残留的光学胶，然后通过烘干口1705烘干清洗液，便可进行下一次涂布，这就是该具有清理功能光学胶涂布装置的使用方法。

本实用新型使用到的标准零件均可以从市场上购买，异形件根据说明书的和附图的记载均可以进行订制，各个零件的具体连接方式均采用现有技术中成熟的螺栓、铆钉、焊接等常规手段，机械、零件和设备均采用现有技术中，常规的型号，加上电路连接采用现有技术中常规的连接方式，在此不再详述，本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。

尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种具有清理功能光学胶涂布装置，包括储胶箱(1)、涂胶口(2)、支撑板(10)和清洗器(17)，其特征在于：所述储胶箱(1)的下方连接有涂胶口(2)，且涂胶口(2)的内部设置有出胶口(3)，所述储胶箱(1)的上方前侧连接有第一转轴(4)，且第一转轴(4)的左右两侧分别连接有左支撑杆(5)和右支撑杆(6)，所述第一转轴(4)前侧连接有支撑板(10)，且支撑板(10)的下方连接有肋板(14)，所述肋板(14)的后方连接有电机(13)，且储胶箱(1)的前侧设置有机槽(9),所述支撑板(10)的上方连接有第二转轴(11)，且第二转轴(11)的上方连接有第二转杆(16)，所述电机(13)的上方连接有第三转轴(12)，且第三转轴(12)的上方连接有第一转杆(15)，所述支撑板(10)的前方连接有第一滑动杆(7)，且左支撑杆(5)与右支撑杆(6)的中部连接有第二滑动杆(8)，并且第一滑动杆(7)与第二滑动杆(8)的中部设置有清洗器(17)。

2.根据权利要求1所述的一种具有清理功能光学胶涂布装置，其特征在于：所述储胶箱(1)与涂胶口(2)为焊接连接，且涂胶口(2)的侧剖面呈三角形。

3.根据权利要求1所述的一种具有清理功能光学胶涂布装置，其特征在于：所述右支撑杆(6)与第一转轴(4)为垂直结构，且右支撑杆(6)与第一转轴(4)的连接方式为固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种具有清理功能光学胶涂布装置，其特征在于：所述第一滑动杆(7)与第二滑动杆(8)平行连接于左支撑杆(5)与右支撑杆(6)之间，且清洗器(17)可位于第一滑动杆(7)与第二滑动杆(8)之间滑动。

5.根据权利要求1所述的一种具有清理功能光学胶涂布装置，其特征在于：所述肋板(14)与电机(13)为固定连接，且电机(13)与肋板(14)可卡合于机槽(9)内。

6.根据权利要求1所述的一种具有清理功能光学胶涂布装置，其特征在于：所述清洗器(17)包括滑块(1701)、滑动槽(1702)、限位轴(1703)、清洗口(1704)和烘干口(1705)，滑块(1701)侧边开设有滑动槽(1702)，滑块(1701)上方连接有限位轴(1703)，滑块(1701)内部左方设置有清洗口(1704)，滑块(1701)内部右方设置有烘干口(1705)。

Images